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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]正性工作光敏材料-CN201780019801.4有效
发明人：刘卫宏;卢炳宏;陈春伟;赖淑美;樱井祥晴;菱田有高 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-04-18 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本专利申请涉及光敏性正性工作光敏性组合物，其尤其可用于使用组合物成像厚膜，所述组合物产生非常好的膜均匀性并针对在使这些膜成像和显影后产生的图案中的特征图案皱缩促进好的工艺宽容度。
工作光敏材料

[发明专利]聚合物、含有聚合物而成的半导体组合物、以及使用了半导体组合物的膜的制造方法-CN202080015180.4在审
发明人：仁川裕;片山朋英;矢野友嗣;张锐;菱田有高;铃木理人;小崎力生;冈村聪也 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2020-02-17 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C08F220/26 文献下载
摘要：提供形成膜时可以减少升华物的新型聚合物以及包含该聚合物的组合物。根据本发明的聚合物(A)包含从以下描述的由单元(a)、单元(b)、单元(c)和单元(d)组成的组中选择的至少一个结构单元，单元(a)、(b)、(c)和(d)的各自的重复数na、nb、nc和nd满足下式：na+nb＞0、nc≥0和nd≥0。
聚合物含有半导体组合以及使用制造方法

[发明专利]负型超厚膜光刻胶-CN201980017900.8在审
发明人： 菱田有高;本林央志;卢蕾;陈春伟;卢炳宏;刘卫宏 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种负型水性碱可显影光敏光刻胶组合物，其包含：a)聚合物，其含有结构(1)、(2)、(3)及(4)的四种重复单元，但无其他类型的重复单元；其中v、x、y及z分别表示结构(1)、(2)、(3)及(4)的各重复单元的摩尔％；b)自由基光引发剂组分，其包含至少一种自由基光引发剂，所述自由基光引发剂通过约360nm至约440nm的宽辐射吸收而活化；c)交联剂组分，其为由结构(5)、(6)及(7)的交联剂组成的混合物或结构(8)的单一交联剂；d)自由基抑制剂组分；e)任选的表面活性剂组分；f)任选的溶解促进剂组分；及g)溶剂。本发明还涉及使用此负型光刻胶产生光刻图像的方法。
负型超厚膜光刻

[发明专利]正性工作光敏材料-CN201380059193.1有效
发明人：刘卫宏;卢炳宏;M·A·塔奇;赖淑美;樱井祥晴;菱田有高 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2013-12-04 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本文中公开的是一种包含杂环硫醇化合物或其互变异构形式的光敏组合物，以及其在基底上的使用方法，该基底可以包括亲硫元素基底。
工作光敏材料

[发明专利]正性操作的可光成像的底部抗反射涂层-CN201210393108.2有效
发明人：隋郁;吴恒鹏;康文兵;M·O·那斯尔;片山朋英;S·S·丁-李;菱田有高;J·E·欧博兰德;M·A·托克西 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2005-03-23 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
操作成像底部反射涂层

[发明专利]用于光刻胶的抗反射组合物-CN200580031007.9有效
发明人：吴恒鹏;李丁术季;向中;菱田有高;单会;庄弘 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2005-09-15 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及一种包含可通过以下方式得到的聚合物的涂料溶液：将甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基的反应性化合物反应，并且进一步其中该聚合物可溶于有机溶剂。本发明还涉及一种将涂覆在该涂料组合物上的光刻胶成像的方法，并且涉及一种用于该涂料组合物的聚合物。
用于光刻反射组合

[发明专利]正性操作的可光成像的底部抗反射涂层-CN200580011869.5有效
发明人：隋郁;吴恒鹏;康文兵;M·O·那斯尔;片山朋英;S·S·丁－李;菱田有高;J·E·欧博兰德;M·A·托克西 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2005-03-23 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及正性底部可光成像的抗反射涂料组合物，它能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
操作成像底部反射涂层

[发明专利]含有鎓盐型光敏酸发生剂的化学增强辐射敏感组合物-CN99801309.9有效
发明人：格奥尔格·帕夫洛夫斯基;冈崎博;木下义章;津釜奈保子;菱田有高;马晓明;山口优子 -专利权人：克拉瑞特金融（BVI）有限公司
申请日： 1999-08-09 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种化学增强辐射敏感组合物，通过一种成膜的羟基苯乙烯基树脂与产生氟化链烷磺酸的鎓盐前体(光敏酸发生剂)混合，提供了该组合物。该组合物不会由于除气引起设备的腐蚀，也没有T形顶图案轮廓，也没有因加工时间延迟产生显著的线宽变化，另一方面，它具有高灵敏性和分辨率，和良好的图形轮廓及稳定性。
含有鎓盐型光敏发生化学增强辐射敏感组合

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