“苏州晶方光电科技有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果32个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]微透镜封装结构的制作方法和封装结构-CN202310809132.8在审
发明人：李珍妮;高毓 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明揭示一种微透镜封装结构的制作方法和封装结构，包括：提供具有微透镜阵列结构的第一基板，第一基板上表面和/或下表面均设置微透镜阵列结构，微透镜阵列结构包括多个子微透镜；提供第二基板，在第二基板上表面形成多个阵列分布的凹槽，凹槽与每个子微透镜在第一基板上的位置一一对应；于第二基板上表面点胶，使得每个凹槽周侧至少分布有部分胶体；将第一基板设置微透镜阵列的一侧面通过胶体键合至第二基板，使第一基板朝向第二基板一侧面的子微透镜完全落入相应凹槽内。在进行键合工艺时能够保护微透镜结构，避免微透镜结构出现破损和被胶体污染的风险。
透镜封装结构制作方法

[实用新型]清洗篮-CN202320160346.2有效
发明人：张仁柳 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种清洗篮，其包括：承载座、固定板及位于所述承载座与固定板之间的用以承载晶圆的承载空间，所述固定板设有若干沿纵向和横向间隔排列的安装孔，所述承载座沿其轴向的两侧固定于固定板的安装孔，所述承载座沿纵向和横向调节安装于不同位置的安装孔，以形成不同大小的承载空间，适应不同规格尺寸的晶圆产品。
清洗

[实用新型]贴膜治具-CN202320378868.X有效
发明人：张仁柳 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B65B33/02 文献下载
摘要：本实用新型揭示一种贴膜治具，包括承载装置和压膜装置，所述承载装置包括第一平板和固定放置于所述第一平板上方的第二平板，所述第二平板设置一镂空区域，所述镂空区域用于放置产品，所述产品待贴膜一侧面朝远离所述第一平板方向；所述压膜装置用于将薄膜贴紧于所述产品待贴膜一侧面。本实用新型先在承载装置上表面覆盖一层薄膜之后，利用压膜装置，从产品的一端向产品另一端慢慢对产品上方的薄膜施压，使得薄膜完全贴紧覆盖于产品表面，一次成型，简化贴膜操作，提高贴膜效率和贴膜效果。
贴膜治具

[发明专利]用于晶圆切割时的固定方法及治具-CN202310579738.7在审
发明人：高毓 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： B28D5/00 文献下载
摘要：本发明揭示了一种用于晶圆切割时的固定方法及治具，该方法包括：提供固定治具，该固定治具具有开口和容纳腔体，开口周侧设置多个承载部件；将液体状态下的固定材料填充于容纳腔体内，使得填充于容纳腔体内的固定材料表面不超出承载部件远离所述容纳腔体的一侧面；提供待切割晶圆；将待切割晶圆放置于承载部件上，晶圆第一面朝向固定材料，并使得功能区部分浸入固定材料中；固化该固定材料。在固定材料为液体状态下就完全包覆住晶圆的功能区，固化该固定材料再进行切割工艺，固化后的固定材料既能满足对晶圆功能区的保护，又能减少切割过程中晶圆受切割刀片作用力的影响，减少晶圆位置偏移导致出现异常尖角的可能性。
用于切割固定方法

[发明专利]光学元件载具及光学微镜的晶圆级压合方法-CN202211534352.6在审
发明人：伦道尔·范·德·利乌;高毓 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本申请涉及光学元件载具及光学微镜的晶圆级压合方法，该光学元件载具包括：托盘、若干组行列排布在托盘上的定位单元以及与真空源气流连通的气流通道，各定位单元分别包含有：定位引脚，用于定位并对齐光学元件；气孔，与气流通道连通，用于将光学元件真空吸附在托盘上；至少一对止动件，一对止动件限定一个用于放置光学元件的卡槽，以防止光学元件窜动；托盘上还具有若干第一对位标记，用于配合微透镜晶圆上的第二对位标记对准，第一对位标记分别与各行定位单元对齐。本申请可以将微透镜晶圆和载具送入晶圆压合机中结合，实现光学微镜的晶圆级结合，缩短晶圆粘合所需的时间。
光学元件晶圆级压合方法

[发明专利]微透镜阵列的自动压印设备-CN202211469736.4在审
发明人：伦道尔·范·德·利乌;高毓 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种微透镜阵列的自动压印设备，包括多个工作站、在多个工作站之间循环移动的堆叠部件以及带动多个支撑台在多个工作站之间转换的移动台，堆叠部件包括：用于放置基片的晶圆载体、带有透镜微结构层的压印模具、位于晶圆载体与压印模具之间的间隔件，多个工作站至少包括：出入料站、间隙测量站、压印站以及固化站。本申请可以解决“单站手动分配压印工艺”的不足的问题，可实现晶圆自动压印成型，降低人工干预程度，提高微透镜晶圆基片的产量。
透镜阵列自动压印设备

[发明专利]一种大视场角微透镜车灯投影装置-CN202211187370.1在审
发明人：杨剑宏;万佳 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： F21S43/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种大视场角微透镜车灯投影装置，包括沿光轴方向依次排布的光源、准直镜、微透镜阵列、棱镜阵列，微透镜阵列上具有若干个光学通路，棱镜阵列上具有分别与微透镜阵列上的若干光学通路一一对应的若干高折射率棱镜组，各光学通路分别具有透镜、用于形成投影图案的光罩以及基层，投影装置在垂直于光轴方向的投影面上被划分为多个子区域，位于同一子区域内的多个光学通路具有同样投影图案的光罩，且同一子区域内的多个光学通路的投影光束被对应的多个棱镜组折射后形成同一投影图案。本发明的车灯投影装置可同时显示多个投影图案，且投影图案具有高亮度和大视场角，具有亮度高、清晰度高、梯度高的优点。
一种视场透镜车灯投影装置

[发明专利]微透镜的晶圆级制造方法及制造设备-CN202211099142.9在审
发明人：伦道尔.范.德.利乌;高毓 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开一种微透镜的晶圆级制造方法及制造设备，该方法包括以下步骤：S1.提供一压印模具；S2.提供一光罩，光罩上位于若干透光窗口之间的区域形成若干遮光带；S3.提供一基片，并在基片上敷设光敏聚合物；S4.利用压印模具对基片进行压印；S5.用紫外线对光罩进行照射，使若干透光窗口处的光敏聚合物感光固化；S6.分离基片与压印模具，将未固化的光敏聚合物从基片上去除。本申请只在有微透镜的部分对光敏聚合物进行固化，而位于遮光带下方的光敏聚合物会被去除，因此在后续的切割工艺中，可以避免在聚合物‑基片界面上形成应力，从而避免切割过程中微透镜与基片材料分离。
透镜晶圆级制造方法设备

[发明专利]晶圆级微透镜阵列的压印固化设备、制造方法及应用-CN202211120796.5在审
发明人：欧跃;陈耀;杨剑宏 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆级微透镜阵列的压印固化设备、晶圆级微透镜阵列的制造方法，以及可编辑UV固化光源在纳米压印领域中的应用，是通过可编辑UV固化光源，以数字方式对纳米压印材料的固化速度、固化能量、固化深度进行控制实现逐层固化、分步、分区固化，采用本申请的压印固化设备和制造方法获得的晶圆级微透镜阵列，具有面型精度高、固化缺陷低、产品可靠性和可重复性高的优点。
晶圆级微透镜阵列压印固化设备制造方法应用

[发明专利]晶圆级微透镜阵列的检测设备及检测方法-CN202210846538.9在审
发明人：汪华剑;杨剑宏 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明涉及光学元器件检测领域，特别是一种晶圆级微透镜阵列的检测设备及检测方法，该检测设备包括沿光轴布置的：光源、移动载物台、通光孔和检测室，移动载物台垂直于所述的光轴设置，用于夹持并带动晶圆沿相互垂直的X轴或Y轴移动，检测室内设置有幕布以及亮度计，光源发出的光线穿过待检测的微透镜阵列和通光孔进入检测室，并在幕布上形成光斑，亮度计用于收集幕布上光斑的亮度数据，获得特定点位坐标对应的亮度数据，根据测量的亮度数据转化为照度数据可以分析并判断当前检测的微透镜阵列是否符合要求。
晶圆级微透镜阵列检测设备方法

[发明专利]用于CMOS感光芯片的封装结构及其制造方法-CN202210769200.8在审
发明人：丁永朋;杨剑宏 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供一种用于CMOS感光芯片的封装结构及其制造方法，其封装结构包括盖板玻璃，盖板玻璃包括透光区域与遮光区域，遮光区域上覆盖有光干涉膜层，光干涉薄膜从下至上地依次设置有厚度为42.5nm的五氧化三钛薄膜、厚度为12.1nm的钛薄膜、厚度为61.0nm的五氧化三钛薄膜、厚度为21.4nm的钛薄膜、厚度为46.4nm的五氧化三钛薄膜、厚度为250nm的钛薄膜、厚度为42.7nm的五氧化三钛薄膜、厚度为19.2nm的钛薄膜、厚度为45.1的五氧化三钛薄膜以及厚度为4.0nm的钛薄膜，光干涉膜层能够将进入遮光区域内的光线干涉相消。本发明所提供的封装结构具有光干涉膜层，该光干涉膜层在可见光范围内具有小于1%的平均反射率，从而减少因光线折射产生的干扰，提高后续的光学成像效果。
用于 cmos 感光芯片封装结构及其制造方法

[发明专利]晶圆级光学透镜的切割方法-CN202210767762.9在审
发明人：高毓;杨剑宏 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B28D1/24 文献下载
摘要：本发明设计光学镜头制造技术领域，尤其是一种用于晶圆级光学透镜的切割方法，包括如下步骤：⑴.提供一待切割的晶圆，晶圆包括基板以及形成在所述基板表面上的若干个镜片，晶圆分为带有若干个光学透镜的有效部以及除有效部以外的无效部；⑵.在晶圆的无效部表面形成凸出于无效部表面的结构体，且结构体与若干个镜片的高度齐平；⑶.将晶圆放置于切割胶带上，使结构体和至少部分镜片共同支撑在切割胶带上；⑷.对晶圆进行切割，得到若干个光学透镜。本发明的切割方法能够使得晶圆在固定于切割胶带上时，基板的有效部与无效部均得到支撑，从而避免切割时应力集中，产生裂纹。
晶圆级光学透镜切割方法

[实用新型]一种模具分离装置-CN202220991117.0有效
发明人：张仁柳;杨剑宏;伦德尔·梅兰多·范德鲁 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： B29C33/44 文献下载
摘要：本申请公开一种模具分离装置，包括导轨、治具平台和至少一个脱模机构，至少一个脱模机构包括：容置空间、容置空间下方的第一分离组件和容置空间上方的第二分离组件，第一分离组件包括第一横杆、第一滑动块、第一固定块以及调节第一滑动块和第一固定块之间的距离的第一调节件；第二分离组件包括第二横杆、第二滑动块、第二固定块、调节第二滑动块和第二固定块之间的距离的第二调节件、调节第二固定块和第一固定块之间的距离的第三调节件。本申请通过第一调节件夹紧部分模具，通过第二调节件夹紧另一部分模具或者制品，通过第三调节件调整第二固定块和第一固定块之间的距离以达到制品脱模的目的，结构简单，操作方便，降低安全隐患，提高工作效率。
一种模具分离装置

[发明专利]一种脱模装置-CN202210452039.1在审
发明人：张仁柳;杨剑宏;伦德尔·梅兰多·范德鲁 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： B29C43/50 文献下载
摘要：本申请公开一种脱模装置，包括：机架、设置在机架上的水平位移机构、升降机构和分离监控组件；水平位移机构包括第一分离组件和驱动第一分离组件沿前后方向来回移动的第一驱动组件；升降机构包括第二分离组件和驱动第二分离组件沿上下方向来回移动的第二驱动组件，第二驱动组件包括第二驱动电机；分离监控组件与第二驱动电机电信号连接；本申请通过可前后移动的第一分离组件和可上下移动的第二分离组件相配合，实现自动化和机械化地分离制品和模具，提高脱模效率，减少制品的损坏；分离监控组件对第二分离组件分离制品和模具时的分离力进行实时监控，有利于后期工作人员对脱模装置的调整和升级。
一种脱模装置

[发明专利]彩色微透镜阵列、其制造方法及投影系统-CN202011618839.3在审
发明人：欧旭锋 -专利权人： 苏州晶方光电科技有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种彩色微透镜阵列、其制造方法及投影系统，该彩色微透镜阵列包括透明基材、形成在该透明基材的一侧表面上的第一微透镜组、形成在该透明基材的另一侧表面上的彩色滤光层、覆盖在所述的彩色滤光层上的吸光层、形成在所述的吸光层上的第二微透镜组，所述的第一微透镜组和第二微透镜组分别具有多个阵列排布的微透镜，所述的吸光层上开设有若干与多对所述的微透镜相对的透光孔，使所述的第一微透镜组和第二微透镜组上相互对应的一对微透镜形成一个光通道。本发明的微透镜阵列能够呈现丰富多彩的投影，投影画面具有更佳视觉效果和更丰富的表现力。
彩色透镜阵列制造方法投影系统

1
2
3
下一页»
尾页
共 32 条