专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种滤波器的制造方法-CN202110543909.1有效
  • 梁远勇;温海平;薛代彬;王鑫炜 - 上海鸿晔电子科技股份有限公司
  • 2021-05-19 - 2023-10-24 - H03H3/04
  • 本发明实施例公开了一种滤波器的制造方法。该方法包括:形成至少两个谐振器;在至少两个谐振器的第一侧形成第一金属电容极板;在至少两个谐振器的第二侧形成第二金属电容极板;其中,谐振器包括:第一P型半导体层、第一N型半导体层、第二N型半导体层、第二P型半导体层和金属电极层,金属电极层位于第一N型半导体层与第二N型半导体层之间;谐振器的第一侧为第一P型半导体层远离第一N型半导体层的一侧;谐振器的第二侧为第二P型半导体层远离第二N型半导体层的一侧;至少两个谐振器的金属电极层之间具有间隙,且至少两个谐振器的金属电极相互电连接。本发明实施例实现了制造出一种具有高有载品质因数Q和高有载可调范围的滤波器。
  • 一种滤波器制造方法
  • [发明专利]向量数据的索引方法-CN202310729325.2有效
  • 王鑫炜;苏鹏;李剑楠;李恒;黄炎;阎虎青 - 上海爱可生信息技术股份有限公司
  • 2023-06-20 - 2023-08-29 - G06F16/901
  • 本发明提供了一种向量数据的索引方法,包括:建立向量训练模型;向向量训练模型输入查询向量,向量训练模型输出若干条近似结果向量;将数据库中的数据库向量按维度大小进行排序;从排序后的数据库向量中选取分别位于每条近似结果向量周围的若干条数据库向量,作为第一向量数据;提取所有第一向量数据的id,去除重复的id,提取剩余的id在数据库中对应的数据库向量,作为第二向量数据;将第二向量数据与查询向量进行距离计算,从第二向量数据中选出距离较小的若干条向量数据。本发明的索引方法对查询过程进行了优化,提高了索引算法的效率,并且还提高了索引结果的准确率。
  • 向量数据索引方法
  • [实用新型]一种水泥砂浆、净浆搅拌机清理装置-CN202320145771.4有效
  • 黄帅;刘成婧;王丹丹;王鑫炜 - 大连信德建设工程检测有限公司
  • 2023-02-08 - 2023-08-22 - B08B1/00
  • 本实用新型涉及搅拌机技术领域,公开了一种水泥砂浆、净浆搅拌机清理装置,包括塑料外壳,所述塑料外壳内部设置有清洗机构,所述塑料外壳底部设置有排水机构,所述清洗机构包括凹槽,所述凹槽设置在塑料外壳内部,所述凹槽内部固定连接有多个毛刷,所述毛刷后侧固定连接有圆环,所述伸缩杆外壁设置有弹簧,所述弹簧另一端与塑料外壳内壁相连,所述排水机构包括出水管,所述出水管固定连接在塑料外壳底部,所述出水管上设置有控制阀。本实用新型中,本实用新型通过塑料外壳内部刷子对搅拌机叶片上下进行清理,取代了原有的抹布以及刷子清理,结构简单,操作方便,实用效果好,延长搅拌机使用寿命,节省时间和成本。
  • 一种水泥砂浆搅拌机清理装置
  • [发明专利]一种含稀土栅介质层的超结SiC MOSFET及其制造方法-CN202310089969.X在审
  • 杨伟锋;王鑫炜;冶晓峰;龙明涛 - 厦门大学
  • 2023-02-08 - 2023-06-23 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种含稀土栅介质层的超结SiC MOSFET及其制造方法。其中,结构包括:金属层、衬底;设置于衬底上部的P‑pillar区,包括若干间隔设置的P‑pillar;设置于P‑pillar区上部及间隔处的外延层;设置于外延层上部两侧的P阱区,P阱区中间处形成JFET区;所述P阱区上部远离JFET区一侧的边缘位置设置有P+源区,靠近JFET区一侧设置有N+源区;所述JFET区上部设置有与JFET区、P阱区、N+源区接触的栅氧化层区;所述栅氧化层区包括若干稀土栅氧化层等。本发明结合漂移区垂直P/N超结(Super junction),P+/N+超结结构以及三层稀土栅介质层(Al2O3/Gd2O3/SiO2)结构的方法;利用源极下段的P+/N+超结结构,以及漂移区下端的垂直P/N超结结构有效降低源极接触电阻和器件漂移区电阻,降低器件的导通电阻与器件损耗。
  • 一种稀土介质sicmosfet及其制造方法
  • [发明专利]一种含稀土栅介质层的平面型SiC MOSFET及其制造方法-CN202310089961.3在审
  • 杨伟锋;王鑫炜;冶晓峰;龙明涛 - 厦门大学
  • 2023-02-08 - 2023-05-05 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种含稀土栅介质层的平面型SiC MOSFET及其制造方法。其中,所述结构包括:金属层、衬底;设置于衬底上部的缓冲区,包括若干缓冲层;设置于缓冲区上部的外延层;设置于外延层上部两侧的P阱区,P阱区中间处形成JFET区;所述P阱区上部设有超结区;所述JFET区上部设置有与JFET区、P阱区、超结区接触的栅氧化层区等。本发明结合多缓冲层,P+/N+超结结构以及栅氧化层区结构的方法;利用多缓冲层的结构转移峰值电场,提高了器件承受宇宙射线的能力,消除器件在N+源区,P阱区以及N‑的BJT器件结构的Krik效应的影响,进而达到提高器件耐辐射特性的效果;利用源极下段的P+/N+的超结结构有效降低接触电阻,降低器件的损耗,同时调控器件的电场分布情况。
  • 一种稀土介质平面sicmosfet及其制造方法

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