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[发明专利]一种检测方法及检测系统-CN202210254782.6在审
发明人：陈鲁;王南朔;张晨雨;马砚忠;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种检测方法及检测系统，其中检测方法包括：通过第一检测光获取第一信号光，第一检测光包括第一波长范围及第二波长范围；通过第二检测光获取第二信号光，第二检测光包括第二波长范围且不包含第一波长范围；对第一补偿处理之后的第一检出信息与第二检出信息进行第一差值处理，获取第一波长范围内各波长的第一信号光的光学特征与第二信号光的光学特征的第一差值与波长的对应关系，得到第一波长范围的第一差值检出信息；根据第一差值检出信息获取组合检出信息；根据组合检出信息获取待测物的待测信息。本发明能够消除第二波长范围的检测光对第一波长范围检测光的串扰，进而得到不具有串扰时第二波长范围的检出信息，进而能提高检测精度。
一种检测方法系统

[发明专利]一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质-CN202111132753.4在审
发明人：陈鲁;季鹏;杨乐;郑策;王秋实;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01B9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质，所述检测方法包括：获取样品和第一检测模块，所述样品包括至少一个参考点，所述第一检测模块用于对样品进行检测并输出检测信息；通过第一检测模块对样品的每个参考点分别进行检测处理，获取初始位置关系；根据所述初始位置关系获取位置关系；获取第一检测模块与参考点表面沿测量方向的相对位置处于预设位置时所述参考点的检测信息，作为第一基准检测信息；根据所述参考点的第一基准检测信息获取第二基准检测信息；根据所述待测点的检测信息、所述位置关系和第二基准检测信息，获取所述待测点相对于所述预设位置沿测量方向的高度差。所述方法能够提高检测速度。
一种检测方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质-CN202111129733.1在审
发明人：陈鲁;季鹏;杨乐;郑策;王秋实;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质，用于提升获取待侧点测量位置的便捷性。本申请实施例中的检测方法包括：获取样品和第一检测模块，样品包括多个参考点，通过第一检测模块对样品的每个参考点分别进行检测处理，获取初始位置关系，初始位置关系为所述测量位置和参考点的各检测信息之间的关系，根据初始位置关系获取位置关系，位置关系表示样品待测点的测量位置与检测信息之间的关系；通过第一检测模块对处于待测位置样品的待测点进行检测，以获取待测点的检测信息，待测位置为第一检测模块和样品之间沿测量方向的相对位置；根据检测信息、位置关系和基准位置，获取待测点相对基准位置沿测量方向的高度差。
一种检测方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]一种光学设备的装调方法以及装调系统-CN202110753928.7在审
发明人：陈鲁;王南朔;马砚忠;王秋实;卢继奎;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-03 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G02B27/62 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种光学设备的装调方法以及装调系统，该装调方法包括：提供第一测试光源，将第一测试光源安装于探测器位置；将第一光学元件安装于第一光学元件位置；通过第一测试光源向第一光学元件发射第一测试光信号，基于第一测试光信号的传输光路以及光路中心轴线对探测器和/或第一光学元件进行装调，根据光路可逆的原理，利用所述装调方法装调后的光学设备进行检测时，所述光学设备中的检测光信号会通过所述第一光学元件被所述探测器探测，使得所述探测器和所述第一光学元件具有较高的装调精度，从而使得所述装调方法能够有效提高所述光学设备的装调精度。
一种光学设备方法以及系统

[发明专利]检测设备及检测方法、检测系统及存储介质-CN202110755148.6在审
发明人：陈鲁;王南朔;王秋实;卢继奎;马砚忠;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明提供一种检测设备，包括：定位模块，所述定位模块包括：定位光源组件，产生第一定位光束和第二定位光束，第一定位光束和第二定位光束的波长不同；成像组件，根据所述第一定位信号光形成第一定位图像，并根据所述第二定位信号光形成第二定位图像；处理模块，根据所述第一定位图像获取第一位置信息，根据所述第二定位图像获取第二位置信息；检测模块，根据第一位置信息对第一待测目标进行检测，并根据第二位置信息对第二待测目标进行检测。定位模块能够对待测目标进行成像，获取待测目标的位置信息，根据位置信息进行检测，能够提高检测精度，第一定位光束和第二定位光束的波长不同能对不同待测目标进行精确定位。
检测设备方法系统存储介质

[发明专利]一种检测设备和检测方法-CN202110744437.6在审
发明人：陈鲁;王南朔;马砚忠;王秋实;杨乐;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种检测设备和检测方法，检测设备包括检测模块；检测模块包括光源组件和探测组件；光源组件用于向检测面出射检测光，检测光在检测面形成光斑；探测组件用于探测检测面的光斑，并对光斑的尺寸进行检测，以及，探测检测光经检测面处待测物形成的信号光，并根据信号光获得待测物的检测信息，以实现光斑尺寸的精确测量。
一种检测设备方法

[发明专利]一种发光装置及其光斑调整方法、检测设备-CN202010673791.X有效
发明人：陈鲁;王秋实;张朝前;季鹏;王南朔;何柳;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光装置及其光斑调整方法、检测设备，发光装置包括光源模块和光阑组件，光源模块向待测样品出射测量光，至少部分测量光透过光阑组件上的透光孔后照射到待测样品表面形成光斑，由于光阑组件被配置为连续调节所述光斑的尺寸，因此，可以采用尺寸较小的光斑对待测样品表面的微结构进行测量，提高微结构测量的精度，采用尺寸较大的光斑对待测样品表面的大尺寸结构进行测量，提高测量的速度，进而能够对待测样品表面多种尺寸的结构进行高速高精度的全自动测量，指导待测样品表面膜层的生长，有效地提高待测样品表面膜层的良率。
一种发光装置及其光斑调整方法检测设备

[实用新型]一种光学检测设备-CN202120933066.1有效
发明人： 王南朔;王秋实;卢继奎;马砚忠;陈鲁;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种光学检测设备，包括检测系统和去污系统，检测系统包括用于向待测物表面出射测量光束的检测光源组件，去污系统包括用于出射去污光束的去污光源组件和位于去污光束的光路上的光路转换件；光路转换件用于使至少部分去污光束入射至待测物，以清除待测物表面的污染物。利用光路转换件对去污光束光路的转换作用，可使去污光束在待测物表面形成光斑的位置至少部分重叠于测量光束在待测物表面形成光斑的位置，在启用检测系统对待测物的某一区域位置进行光学检测之前，可利用去污光束对该区域位置的污染物进行清除，从而既可以确保检测结果的准确性，又可以针对待测物的同一待测位置进行高精度的重复测量，保证测量结果的一致性。
一种光学检测设备

[发明专利]处理设备及工件的处理方法-CN202110148827.7在审
发明人：陈鲁;张朝前;马砚忠;王南朔;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种处理设备及工件的处理方法。该处理设备包括加热气路系统。该加热气路系统用于对工件的待清洁区吹扫加热气体，所述加热气体用于对待清洁区进行加热，并通过吹扫去除待清洁区的污染层。本申请的处理设备及工件的处理方法中，加热气路系统能够对工件的待清洁区进行加热处理，并通过吹扫加热气体去除待清洁区的污染层，加热气体可以抑制气体环境中的污染源附着在工件的待清洁区的表面，防止污染层重新生长，从而保证处理设备的处理精度。
处理设备工件方法

[实用新型]一种检测设备-CN202121489982.7有效
发明人： 王南朔;马砚忠;王秋实;杨乐;陈鲁;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种检测设备，包括：光源组件，用于产生待测光束，所述待测光束包括多个波长，所述待测光束用于在检测面形成光斑；参考件，用于设置于检测面并形成出射光束，且所述参考件用于相对于所述待测光束移动，使所述待测光束完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件；探测单元，设置于所述出射光束的传输路径上，用于获取所述参考件移动过程中，所得到的所述出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。检测设备同时实现对于光斑尺寸的确定，降低光斑尺寸测量的成本，并可以实现对包含多种波长的光束的光斑测量。
一种检测设备

[实用新型]一种检测装置-CN202122336998.0有效
发明人：陈鲁;季鹏;郑策;王秋实;杨乐;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种检测装置，用于光学检测，具体包括：所述光源用于发射检测光至样品的待测点，所述检测光的入射角为锐角；所述检测光经所述样品反射形成信号光，所述信号光用于在所述探测器的光敏面形成信号光斑；所述探测器用于根据所述信号光斑在所述光敏面的位置获取所述待测点沿测量方向的检测高度，所述测量方向与所述样品表面垂直或具有锐角夹角。
一种检测装置

[实用新型]一种检测设备-CN202121516273.3有效
发明人：王秋实;王南朔;卢继奎;马砚忠;张嵩;陈鲁 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本实用新型提供一种检测设备，包括：定位模块，所述定位模块包括：成像组件，包括第一成像单元，用于探测至少部分所述定位信号光并根据探测的定位信号光形成第一定位图像；第二成像单元，用于探测至少部分所述定位信号光并根据探测的定位信号光形成第二定位图像；所述第一成像单元和第二成像单元的放大倍数不同；处理模块，用于根据所述第一定位图像和/或第二定位图像对所述待测目标进行定位，获取待测目标的位置信息；检测模块，用于根据所述位置信息对所述待测目标进行检测。能够对不同尺寸的待测目标的精确定位，提高检测模块的检测精度。
一种检测设备

[发明专利]一种椭圆偏振测量设备及其聚焦方法和测量方法-CN202010673780.1在审
发明人：陈鲁;王秋实;张朝前;季鹏;王南朔;何柳;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明提供了一种椭圆偏振测量设备及其聚焦方法和测量方法，聚焦方法包括：使探测光的偏振态保持不变，使信号光的偏振态保持不变，通过光源模块向待测物发射探测光，探测光经待测物形成信号光，通过检测模块获取待测物的待测区域与椭圆偏振测量设备处于沿聚焦方向的不同相对位置处的信号光的光信息值，并获得表征信号光的组合光强度最大的光信息值，将该光信息值对应的待测物与椭圆偏振测量设备的相对位置作为待测区域的聚焦位置。也就是说，本发明中利用椭圆偏振测量设备自身的光路和机构实现了自动聚焦，不仅能够实现+/‑0.1μm级别的高分辨率自动聚焦，而且无需引入高精度激光测距仪等新的测量设备，避免了引入新的测量设备导致的误差。
一种椭圆偏振测量设备及其聚焦方法测量方法

[发明专利]一种发光装置及其聚焦方法、检测设备-CN202010673801.X在审
发明人：陈鲁;王秋实;张朝前;季鹏;王南朔;何柳;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光装置及其聚焦方法、检测设备，包括光源模块、多个第一透镜组和合光组件，光源模块出射多个光路不同的光束，不同光路的光束的波长范围不同，并且，不同光路的光束可以合成一束宽光谱测量光，因此，可以采用宽光谱的测量光对待测样品进行测量，从而可以更加准确地测量待测样品的膜层厚度等信息；由于任一第一透镜组到光源模块的距离可调，可以使不同光路上的光束在待测样品表面会聚于同一点，因此，可以减小不同光路的光束的色差，即减小宽光谱测量光的色差，从而可以提高检测设备的测量精确度，使得检测设备能够满足集成电路前道制程50μm及以下功能模块的测量要求。
一种发光装置及其聚焦方法检测设备

[实用新型]检测设备-CN202022219285.1有效
发明人： 王南朔;马砚忠;张朝前;卢继奎;陈鲁 -专利权人：深圳中科飞测科技有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G01D21/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光学设备及其工作方法，其中，所述光学设备包括：一种检测设备，其特征在于，包括：第一检测装置，包括：入射模块，用于产生入射至待测物表面的第一探测光，所述第一探测光在所述待测物表面形成第一光斑出射模块，用于根据所述第一出射光获取待测物表面待测膜层的厚度；第二检测装置，包括：第二光源，用于产生入射至待测物表面的第二探测光，所述第二探测光在所述待测物表面形成第二光斑；第二探测组件，用于根据所述第二光斑在第二探测组件表面的位置确定所述待测物的待测区内的应力，所述第二光斑与第一光斑至少部分重合。所述检测设备能够实现应力检测和膜厚检测的结合，且能够减小设备体积。
检测设备

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