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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]蒸镀装置与有机薄膜的形成方法-CN201110353708.1无效
发明人：赖丰文;王仪龙;张均豪;陈泰宏 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2011-11-09 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种蒸镀装置与有机薄膜的形成方法。该蒸镀装置包括储气室、第一蒸发室、压力计、裂解室以及沉积室。第一蒸发室通过第一管路与储气室连接，其中第一管路具有第一阀门。压力计通过第二管路与储气室连接。裂解室通过第三管路与储气室连接，其中第三管路具有第二阀门。沉积室通过第四管路与裂解室连接。
装置有机薄膜形成方法

[发明专利]薄膜图案的沉积装置与方法-CN201010597850.6有效
发明人： 王仪龙;柯明贤;张均豪;庄传胜 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2010-12-21 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种薄膜图案的沉积装置与方法。薄膜图案的沉积装置具有冷却背板、固定于冷却背板下的中介层板、以及位于中介层板下的掩模。中介层板具有高导热系数图案对应掩模的开口，以及低导热系数图案对应掩模。如此一来，可避免在沉积制作工艺中沉积过厚的薄膜于掩模上，可延长掩模寿命并降低制作工艺成本。
薄膜图案沉积装置方法

[发明专利]光学开关系统-CN200810133011.1无效
发明人： 王仪龙;陈辉达;高志宏;柯明贤 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2008-07-04 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： E05B49/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学开关系统，包括钥匙机构与对应的锁机构，其中钥匙机构包括输出单元与多个光源，而锁机构包括接收单元、多个感应器与第一开关单元。这些光源是配置于输出单元上，而特定光源均适于产生光束，且接收单元是对应输出单元。感应器是配置于接收单元上，并适于感应这些光束，且第一开关单元是耦接至感应器。当预定的感应器感应到光束，且其它感应器同时未感应到光束时，第一开关单元将会开启。
光学开关系统

[发明专利]缺陷修补结构及缺陷修补方法-CN200710091734.5无效
发明人：廖仕杰;陈辉达;王仪龙 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2007-03-30 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种缺陷修补结构及缺陷修补方法。该修补结构具有多数层的结构，以修补具有缺陷的线路图案。另外，本发明提供的缺陷修补方法主要是利用具有多数层结构的转移材料接受电磁波光源照射后产生的碰撞压力，亦即直接来自光子撞击所产生的光压，辅以电磁波能量产生打断分子键结或爆炸现象，使材料转移至欲修补的区域中。通过本发明提供的结构与方法可以可解决传统转移材料时，修补材料因受光源照射后产生热影响的现象，而使得材料易氧化及应力破坏的问题。
缺陷修补结构方法

[发明专利]缺陷修补装置及靶材结构-CN200710091735.X无效
发明人：廖仕杰;陈辉达;王仪龙 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2007-03-30 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种缺陷修补装置，包括：一电磁波发射单元、一平台、一承载单元以及一流体冷却单元。该平台，其是提供承载待修补之一基板，该基板上具有一缺陷线路。该承载单元，其是设置于该电磁波发射单元与该平台之间，该承载单元是承载有一修补材料，该修补材料可接收该电磁波发射单元所提供的电磁波光束，以转移至该缺陷线路上。该流体冷却单元，其是可吸收在转移修补材料时所产生的热，以提供冷却。利用本发明的装置可以防止缺陷修补装置受到热影响而受到破坏以及修补材料因受热而氧化的问题。另外本发明提供一靶材结构，其是承载多种不同材质以及不同厚度的修补材料，以适用于各种多样式的修补图案。
缺陷修补装置结构

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