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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案形成装置及其制造方法、设计方法以及计算机程序产品-CN202310790218.0在审
发明人： 段福·史蒂芬·苏;刘晶晶 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-02-20 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：公开图案形成装置及其制造方法、设计方法以及计算机程序产品。图案形成装置包括图案形成装置基板图案化层。图案化层的第一部分具有第一水平的反射率、吸收率或透射率，图案化层的第二部分具有不同的第二水平的反射率、吸收率或透射率，和图案化层的第三部分具有第三水平的反射率、吸收率或透射率，其中第三水平的反射率、吸收率或透射率在第一和第二水平的反射率、吸收率或透射率之间，并且是亚分辨率辅助特征的一部分。
图案形成装置及其制造方法设计以及计算机程序产品

[发明专利]二元化方法和自由形式的掩模优化流程-CN201980013636.0有效
发明人： 段福·史蒂芬·苏;刘晶晶;拉斐尔·C·豪厄尔;彭星月 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-02-15 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本文描述一种用于确定图案形成装置的掩模图案的方法。该方法包括获得：待印刷在衬底上的目标图案，(ii)图案形成装置的对应于目标图案的初始连续性图像，(iii)被配置成转换初始连续性图像的二元化函数(例如，S型函数、反正切函数、阶跃函数等)，以及(iv)被配置成根据二元化函数的输出来预测衬底上的图案的处理模型；以及由硬件计算机系统通过基于成本函数迭代地更新初始连续性图像使得成本函数减小，从而产生具有对应于初始连续性图像的掩模图案的二元化图像。成本函数(例如，EPE)确定由处理模型确定的预测图案与目标图案之间的差异。
二元方法自由形式优化流程

[发明专利]图案形成装置及其制造方法和图案形成装置的设计方法-CN201880014080.2有效
发明人： 段福·史蒂芬·苏;刘晶晶 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-02-20 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：一种图案形成装置(100)，包括：在图案形成装置基板(102)上的吸收体层(106)；和在图案形成装置基板上的反射层或透射层(104)，其中吸收体层和反射层或透射层一起限定具有主要特征(112)和与主要特征配对的衰减式亚分辨率辅助特征(110)的图案布局，其中：所述主要特征被配置成在将所述器件图案转印到衬底上的图案形成材料的层时，在所述图案形成材料的层中产生所述主要特征，和在将图案转印到图案形成材料的层时，衰减式亚分辨率辅助特征被配置成避免在图案形成材料的层中生成特征，并且产生与主要特征不同的辐射强度。
图案形成装置及其制造方法设计

[发明专利]用于使用缩窄带宽进行成像的方法和设备-CN202080018831.5在审
发明人： W·E·康利;J·J·索恩斯;段福·史蒂芬·苏 -专利权人： ASML荷兰有限公司;西默有限公司
申请日： 2020-02-10 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了用于增加光刻系统的对比度的系统、方法和计算机程序。在一个方面中，方法包括对使用光刻系统将特征成像到衬底上的方法进行优化的方法，所述优化方法包括：获得用于所述成像的光束的光谱，其中所述光束包括具有多个不同波长的脉冲；缩窄用于所述成像的所述光束的脉冲的所述光谱以改善所述成像的品质指标。
用于使用窄带进行成像方法设备

[发明专利]用于衍射图案引导的源掩模优化的方法和设备-CN202080019400.0在审
发明人： 段福·史蒂芬·苏;孙德政 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了一种衍射图案引导的源掩模优化(SMO)方法。所述方法包括配置光刻设备。所述方法包括根据衍射图案来确定源变量。所述源变量区对应于光瞳的衍射图案的其中光瞳变量待被调整的一个或更多个区域。所述衍射图案中的所述源变量区包括在所述衍射图案中的所选择的关注的区的图像中的多个像素。确定所述源变量区还包括对所述图像中的所述多个像素进行二值化使得各个单独的像素被包括在所述源变量区中或被从所述源变量区排除。所述方法包括：针对所述光瞳的与所述源变量区相对应的所述一个或更多个区域来调整所述光瞳变量；以及基于经调整的光瞳变量来渲染最终光瞳。
用于衍射图案引导源掩模优化方法设备

[发明专利]通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法-CN201980068272.6在审
发明人： W·E·康利;J·J·索恩斯;段福·史蒂芬·苏;G·A·雷希特斯坦纳 -专利权人： ASML荷兰有限公司;西默有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面，一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计，光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案。该方法还包括基于增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案来配置光刻系统的部件。
通过优化创建理想光谱方法

[发明专利]用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法-CN201980066886.0在审
发明人： K·Z·特鲁斯特;E·范塞滕;段福·史蒂芬·苏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-03 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本文描述了一种利用光刻投影设备进行源掩模优化的方法。光刻投影设备包括照射源和被配置为将掩模设计布局成像到衬底上的投影光学器件。该方法包括使用针对照射源、投影光学器件和掩模设计布局的多个可调谐设计变量来确定多变量源掩模优化函数。多变量源掩模优化函数考虑到遍及曝光缝隙中对应于掩模设计布局的不同条纹的不同位置的成像变化，所述不同条纹由曝光设备的同一缝隙位置曝光。该方法包括迭代地调整所述多变量源掩模优化函数中的多个可调谐设计变量，直到满足终止条件。
用于数值孔径穿缝源掩模优化方法

[发明专利]使用对源辐射的角分布的多次采样的光刻术模拟-CN201680031497.0有效
发明人： 段福·史蒂芬·苏;拉斐尔·C·豪厄尔;贾建军 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-05-13 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种计算机实施的方法，该方法包括：确定通过光刻投影设备由沿着第一组一个或更多个方向传播的第一辐射部分所形成的第一分图像；确定通过光刻投影设备由沿着第二组一个或更多个方向传播的第二辐射部分所形成的第二分图像；通过以非相干的方式将第一分图像和第二分图像相加来确定一图像；其中第一组一个或更多个方向和第二组一个或更多个方向是不同的。
使用辐射角分布多次采样光刻模拟

[发明专利]基于性能匹配的调谐扫描器的波前优化-CN201980042738.5在审
发明人： 段福·史蒂芬·苏;C·R·K·C·亨纳克斯;拉斐尔·C·豪厄尔;施展;李小阳;F·斯塔尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述一种用于确定图案化过程的图案形成设备的波前的方法。所述方法包括：获得参考设备(例如扫描器)的参考性能(例如轮廓、EPE、CD)、被配置成将波前的波前参数转换为致动器移动的图案形成设备的透镜模型、和调谐扫描器(例如待匹配的扫描器)的透镜指纹。此外，所述方法涉及基于所述调谐扫描器的所述透镜指纹、所述透镜模型和成本函数，确定所述波前参数(例如，诸如倾斜、偏移等波前参数)，其中所述成本函数是所述参考性能与调谐扫描器性能之间的差。
基于性能匹配调谐扫描器优化

[发明专利]图案化过程的优化流程-CN201880066747.3在审
发明人： 段福·史蒂芬·苏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-10-05 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用具有照射系统和投影光学装置的光刻投影设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：(1)获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和基于所述模拟模型，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置，和/或(2)获得对由投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化由所述投影光学装置产生的辐射的变形缩小率，和在考虑变形制造规则或变形制造规则比率的情况下，基于所述模拟模型对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。
图案过程优化流程

[发明专利]图像对数斜率(ILS)优化-CN201680010247.9有效
发明人： 段福·史蒂芬·苏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-02-09 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文中披露一种用以对使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻工艺加以改进的计算机实施方法，该方法包含：计算多变量成本函数，该多变量成本函数是空间图像或抗蚀剂/光刻胶图像的特性的随机变化的函数，或是变量的函数，该变量是该随机变化的函数或影响该随机变化，该随机变化是多个设计变量的函数，该多个设计变量表示该光刻工艺的特性；以及通过调整一个或更多个所述设计变量中的一个或更多个直至满足某一终止条件为止，来重新配置该光刻工艺的所述特性中的一个或更多个。
图像对数斜率 ils 优化

[发明专利]光刻过程的优化流程-CN201580019575.0有效
发明人： 段福·史蒂芬·苏;拉斐尔·C·豪厄尔;刘晓峰 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-02-13 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述了一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括：获得源形状和掩模离焦值；优化光刻过程的剂量；优化用于照射源的多个狭缝位置中的每一个的设计布局的部分。
光刻过程优化流程

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