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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于外延腔室的隔热组件-CN202080043126.0在审
发明人：大木慎一;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本文公开的是一种用于处理腔室的隔热组件。处理腔室包括主体，该主体具有侧壁、底部和盖件，该侧壁、该底部和该盖件限定内部空间。隔热组件设置在内部空间中，且包括隔热件和预热构件。预热构件包括内圆周，并定位于隔热件下方。基座设置在内部空间中并经配置支撑基板，且基座定位于预热构件的内圆周内。开口定位于基座和预热构件之间。开口的第一部分靠近气体入口，并且被隔热件覆盖。环形开口的第二部分靠近气体出口，并且没有被隔热构件覆盖。
用于外延隔热组件

[发明专利]用于高生长速率外延腔室的热屏蔽环-CN202110686757.0在审
发明人：大木慎一;青木裕司;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：于此描述用于外延腔室的热屏蔽组件。所述热屏蔽组件具有热屏蔽构件及预热构件。热屏蔽构件设置于预热构件上。热屏蔽构件具有切口部分，所述切口部分暴露预热构件的一部分。预热构件具有凹陷部分以接收热屏蔽构件。
用于生长速率外延屏蔽

[发明专利]用于高生长速率外延腔室的热屏蔽环-CN201680023769.2有效
发明人：大木慎一;青木裕司;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：于此描述用于外延腔室的热屏蔽组件。所述热屏蔽组件具有热屏蔽构件及预热构件。热屏蔽构件设置于预热构件上。热屏蔽构件具有切口部分，所述切口部分暴露预热构件的一部分。预热构件具有凹陷部分以接收热屏蔽构件。
用于生长速率外延屏蔽

[发明专利]用于外延生长装置的腔室部件-CN202010788793.3在审
发明人：大木慎一;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流，使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述外延生长装置的上侧壁、基座和整流板的改进已使得提高了基板上形成的外延层的均匀性和形成速度，从而使得产量更高并且缺陷更少。
用于外延生长装置部件

[发明专利]用于基板背侧变色控制的支撑组件-CN201580073204.0有效
发明人：大木慎一;青木裕司;彼得·德蒙特;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-12-10 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：于此披露用于处理基板的处理腔室。在一个实施方式中，处理腔室包括支撑轴组件。支撑轴组件具有环形基座、盘形加热板和支撑轴系统。支撑轴系统支撑基座和加热板，使得基座被支撑在加热板上方，在加热板和基座之间限定有间隙。在另一实施方式中，加热板包括多个沟槽且基座包括多个鳍片。鳍片被配置成座落于沟槽内，使得基座被支撑在加热板上方，在加热板和基座之间限定间隙。在另一个实施方式中，于此披露处理在上述实施方式中的基板的方法。
用于基板背侧变色控制支撑组件

[发明专利]用于外延生长装置的腔室部件-CN201610179467.6有效
发明人：大木慎一;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流，使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述外延生长装置的上侧壁、基座和整流板的改进已使得提高了基板上形成的外延层的均匀性和形成速度，从而使得产量更高并且缺陷更少。
用于外延生长装置部件

[发明专利]用于外延生长装置的腔室部件-CN201610180026.8有效
发明人：大木慎一;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流，使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述外延生长装置的上侧壁、基座和整流板的改进已使得提高了基板上形成的外延层的均匀性和形成速度，从而使得产量更高并且缺陷更少。
用于外延生长装置部件

[实用新型]用于支撑基板于外延生长装置内的基座-CN201620240735.6有效
发明人：大木慎一;森義信 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流，使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述外延生长装置的上侧壁、基座和整流板的改进已使得提高了基板上形成的外延层的均匀性和形成速度，从而使得产量更高并且缺陷更少。
用于支撑外延生长装置基座

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