“林进志”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果24个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种应用于基板与盖板对贴的架构-CN202320812219.6有效
发明人： 林进志;王卫涛;张良睿;曹绪文 -专利权人：安徽芯视佳半导体显示科技有限公司
申请日： 2023-04-08 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H10K59/10 文献下载
摘要：本申请实施例提供的应用于基板与盖板对贴的架构中，包括相对贴合设置的基板和盖板，盖板和基板中间设有多个芯片；其中，芯片上设有多个呈矩阵排列的像素，相邻的像素之间设有光刻胶层。需要说明的是，通过在相邻的像素之间设有光刻胶层，其一，将现有技术的两道流程变为一道流程，从而可以降低盖板与基板贴合的时间，提高盖板与基板贴合的效率；其二，将现有技术中的填满材料设计改为支柱支撑方式，从而可以降低材料的消耗，降低工艺材料的成本。
一种应用于盖板架构

[发明专利]一种解决硅基蒸镀掩膜板与基板贴合不良的方法-CN202310674470.5在审
发明人：陆炎;曹绪文;晋芳铭;孙圣;张良睿;李亮亮;荣长停;陈蒙;李启明;李阳阳;林进志 -专利权人：安徽芯视佳半导体显示科技有限公司
申请日： 2023-06-08 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种解决硅基蒸镀掩膜板与基板贴合不良的方法，在硅基掩膜板蒸镀区与蒸镀区之间(即非蒸镀区)设置dummy sheet(磁性金属薄片)，dummy sheet为磁性金属材质，如此使硅基掩膜板具有导磁特性使硅基掩膜板与基板能紧密贴合。可以有效的提高硅基掩膜板与待蒸镀基板的贴合能力，减少shadow effect，shadow effect降低98.5％。因而减低混色异常。
一种解决硅基蒸镀掩膜板贴合不良方法

[发明专利]一种解决蒸镀掩膜板与基板贴合不良的方法-CN202310674471.X在审
发明人：张良睿;曹绪文;晋芳铭;孙圣;陆炎;李亮亮;荣长停;陈蒙;李启明;李阳阳;林进志 -专利权人：安徽芯视佳半导体显示科技有限公司
申请日： 2023-06-08 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种解决蒸镀掩膜板与基板贴合不良的方法，在整个硅基掩膜板上(包括蒸镀区和非蒸镀区)电镀磁性金属，材质可以SUS或者Invar,如此使硅基掩膜板具有导磁特性，使硅基掩膜板与基板能紧密贴合。可以有效的提高硅基掩膜板与待蒸镀基板的贴合能力，减少shadow effect，shadow effect降低98.5％，因而减低混色异常。
一种解决蒸镀掩膜板贴合不良方法

[发明专利]一种应用于OLED超高解析图案化黄光工艺流程-CN202310749884.X在审
发明人： 林进志;曹绪文;晋芳铭;张良睿;郭瑞 -专利权人：深圳市芯视佳半导体科技有限公司
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H10K71/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于OLED超高解析图案化黄光工艺流程，包括如下步骤：1)架构基板；2)利用旋涂机旋涂第一层光阻成膜；3)利用旋涂机旋涂第二层光阻成膜；4)利用曝光机将欲开孔区域进行曝光；5)利用显影设备将欲开孔区域进行开孔；6)利用蒸镀成膜设备将发光材料进行成膜；7)利用剥离材料将所有光阻进行剥离；8)重复上述1)～8)步骤工艺；9)完成RGB三颜色器件成膜，将进行结构设计将现行单层光阻设计成至少2层光阻设计，此种结构设计将大幅减低剥离光阻异常现象，工艺容错率将提高许多。
一种应用于 oled 超高解析图案化黄光工艺流程

[发明专利]一种硅基OLED显示器件防串扰的阳极制作方法-CN202310434487.3在审
发明人：陆炎;曹绪文;晋芳铭;孙圣;张良睿;李亮亮;荣长停;陈蒙;李启明;李阳阳;林进志 -专利权人：安徽芯视佳半导体显示科技有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H10K71/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅基OLED显示器件防串扰的阳极制作方法，包括如下步骤：1)将带有CMOS电路驱动的硅基板传入PVD设备中分别制作TIN‑AL‑ITO复合膜；2)将复合膜的基板进行光刻制程；3)将步骤2)的基板送至干法刻蚀设备，制作具有AL膜层内嵌的RGB三像素；4)将步骤3)基板送至蒸镀设备，实现CGL断裂，新型硅基OLED显示器防窜扰的阳极制作过程更简单，有效提高了硅基OLED阳极制作效率。
一种 oled 显示器件防串扰阳极制作方法

[发明专利]掩膜板及其制造方法-CN201910611968.0在审
发明人： 林进志 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本公开是关于一种掩膜板及其制造方法。该方法包括：提供一掩膜板本体；在所述掩膜板本体的两相对面上形成保护材料层；对所述形成有保护材料层的掩膜板本体进行激光开孔；对开孔后的掩膜板本体进行清洗，以将所述保护材料层清洗掉。本公开一方面可以避免镭射开孔时形成的残渣对最终产品造成污染及瑕疵，另一方面可以提高产品良品率，节约成本。
掩膜板及其制造方法

[发明专利]掩膜板-CN201910273057.1在审
发明人： 林进志;叶昱均 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例是关于一种掩膜板。该掩膜板包括：掩膜板本体，上述述掩膜板本体包括主体区以及固定区；其中：上述主体区，用以形成镂空的预设图案；上述固定区，用于与金属框架连接，且该固定区的上下表面均凸起，使得该固定区的厚度大于该主体区的厚度。本发明实施例一方面通过增加固定区的厚度提高了掩膜板和金属框架焊接时的成功率，另一方面由于掩膜板的固定区上下表面均加厚凸起，在提高焊接成功率的同时，也降低了掩膜板因不同区域厚度变化导致应力不同而在焊接时造成的形变，提高了掩膜板制造效率和良率。
掩膜板

[发明专利]一种掩膜板-CN201910262698.7在审
发明人： 林进志;叶昱均 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例是关于一种掩膜板，该掩膜板包括：边框；设置于所述边框上的第一掩膜层；设置于所述第一掩膜层上的第二掩膜层；设置于所述第二掩膜层上的第三掩膜层；其中，所述第一掩膜层包括第一区和第二区，所述第一区与所述边框连接，所述第一区的厚度大于所述第二区的厚度。本发明实施例可以降低掩膜片和框架的焊接处出现点焊失败的几率，进而提高掩膜板的制作良率。
一种掩膜板

[发明专利]一种蒸镀设备及蒸镀工艺-CN201910163588.5在审
发明人： 林进志 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开是关于一种蒸镀设备及蒸镀工艺。该蒸镀设备包括：蒸镀腔室；防着板，设置于所述蒸镀腔室的内壁上；加热装置，设置于所述防着板上。该蒸镀工艺包括：提供一如上述所述的蒸镀设备；提供一待蒸镀基板，将所述待蒸镀基板放置于所述蒸镀设备的蒸镀腔室内，通过该蒸镀设备进行蒸镀处理。本公开延长了蒸镀设备持续工作的时间，一定程度上提升了蒸镀设备的稼动率。
一种设备工艺

[发明专利]金属掩膜及其打孔方法-CN201910163679.9在审
发明人： 林进志 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： B23K26/382 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属掩膜及其打孔方法，该打孔方法包括以下步骤：提供一金属掩膜；第一次调整打孔角度，在金属掩膜上进行第一次打孔，使金属掩膜的一表面形成孔洞入口区；以及第二次或多次调整打孔角度，在孔洞入口区上进行第二次或多次打孔，使金属掩膜的相对另一表面形成孔洞出口区。该金属掩膜包括：金属掩膜本体，具有相对的两表面以及多个贯通两表面的开孔，各个开孔包括孔洞入口区和孔洞出口区，孔洞入口区设置于金属掩膜的其中一表面，孔洞出口区设置于金属掩膜的另一表面。本发明通过控制激光束对金属掩膜进行多次打孔，进而控制激光束每一次的打孔角度，从而实现控制在金属掩膜上形成的孔洞的大小。
金属及其打孔方法

[发明专利]蒸镀装置及其控制方法-CN201910142564.1在审
发明人： 林进志 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请提供一种蒸镀装置及其控制方法，涉及真空蒸镀技术领域。该蒸镀装置包括蒸镀腔体，所述蒸镀腔体的一个表面设有多个蒸镀孔；第一蒸镀源，通过第一管道与第二管道连通；第二蒸镀源，通过第三管道与所述第二管道连通；所述第二管道与所述蒸镀腔体连通，且所述第一管道、第二管道和第三管道连接处设有第一阀门。本申请可以可在不停机的情况下切换蒸镀源，使蒸镀装置持续作业，提升蒸镀装置的稼动率。
装置及其控制方法

[发明专利]挠性衬底结构及其制造方法-CN201711232091.1有效
发明人： 林进志;陈裕宏;辛孟鸿 -专利权人：永恒光实业股份有限公司
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： H01L23/13 文献下载
摘要：本发明提供一种挠性衬底结构，其包括挠性衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。挠性衬底具有第一表面以及相对的第二表面，第一图案化金属层设置于挠性衬底的第一表面上，第二图案化金属层设置于挠性衬底的第二表面上，其中挠性衬底具有至少一个穿孔。
衬底结构及其制造方法

[发明专利]掩模结构及其制造方法及工作件加工系统-CN201910634823.2在审
发明人： 林进志;陈裕宏;辛孟鸿 -专利权人：永恒光实业股份有限公司
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本揭露涉及掩模结构及其制造方法及工作件加工系统。一种掩模结构包括衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。衬底具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。第一图案化金属层设置在衬底的第一表面上，具有复数个第一开口，第一开口具有第一侧壁。第二图案化金属层设置在衬底的第二表面上，具有复数个第二开口，第二开口具有第二侧壁。衬底具有复数个通孔，通孔具有第三侧壁，通孔对应第一开口和第二开口设置，且第三侧壁与第一侧壁和第二侧壁构成连续平面。
衬底图案化金属层开口第一表面复数通孔第二表面第二侧壁第三侧壁第一侧壁掩模结构加工系统开口设置连续平面工作件制造

[实用新型]一种蒸镀装置-CN201920246509.2有效
发明人： 林进志 -专利权人：陕西坤同半导体科技有限公司
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种蒸镀装置。该装置包括蒸镀腔体，设于蒸镀腔体内的N个蒸镀源、N组镀率监控装置，每组镀率监控装置包括一主镀率监控装置及一备用镀率监控装置，且每组镀率监控装置对应一个蒸镀源以及控制电路，所述控制电路与所述N个蒸镀源、各主镀率监控装置及备用镀率监控装置电性连接；其中，所述控制电路，用于在每组的所述主要镀率监控装置使用时间结束时，控制切换到相对应的备用镀率监控装置进行监控。该装置一方面，延长了镀率监控装置的使用时间，减少了停机更换晶振片的次数，提升了蒸镀机的稼动率；另一方面，当其中一组镀率监控系统发生不可预期的问题可切换到另一组镀率监控装置进行作业，增加了作业的弹性。
监控装置控制电路蒸镀源备用蒸镀装置主镀本实用新型电性连接监控系统控制切换时间结束蒸镀腔体稼动率晶振片可切换预期的蒸镀机蒸镀腔停机体内监控

[发明专利]有机电激发光化合物及有机电激发光元件-CN201810351011.2在审
发明人：辛孟鸿;陈裕宏;林进志 -专利权人：星宸光电股份有限公司
申请日： 2018-04-18 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： C07C211/61 文献下载
摘要：本发明提供一种有机电激发光化合物，由结构式(I)或结构式(II)表示，其中R为芳香基或杂芳香基。结构式(I)或结构式(II)可用来制作有机电激发光元件，藉此提高有机材料层的玻璃转移温度，并改善发光元件的发光效率及热稳定性。本发明另公开了一种由前述有机电激发光化合物所制成的有机电激发光元件。结构式(I)以及结构式(II)。
有机电激发光元件有机电激发光有机材料层玻璃转移发光效率发光元件热稳定性杂芳香基芳香基可用制作

1
2
下一页»
尾页
共 24 条