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[发明专利]投影曝光装置、位置对准装置以及位置对准方法-CN03123736.3有效
发明人：平林洋一;松本德嘉 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2003-05-20 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种可进行精确位置对准的投影曝光装置。印刷电路板76置于移动平台70上的状态下，由紫外线照明装置6的紫外线光源60照射掩模标记90时，掩模标记90的像通过投影曝光透镜71与半反射镜11，以紫外线反射面镜10反射，再通过分光器34与成像透镜32，成像于CCD30上，并由图像识别装置2对其中心坐标做计测。其次，由红外线照明装置5的红外线光源50照射印刷电路板标记91，标记91的像通过紫外线反射面镜10、半反射镜11、分光器34、反射镜43、成像透镜42以及分光器52，成像于CCD40上。对应于紫外线用的CCD30上的掩模标记90的中心坐标，使红外线用CCD40上的印刷电路板标记91的中心坐标吻合，控制移动机构81，使移动平台70在XY及θ方向旋转移动而做位置对准。
投影曝光装置位置对准以及方法

[发明专利]光学放大率调节系统与投影曝光设备-CN200510073570.4有效
发明人： 松本德嘉;小渡望;平林洋一 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2002-11-19 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明披露了一种能够精细校正放大率的光学放大率调节系统。将第一平凸透镜1安装在物面5的一侧，将第二凹平透镜2安装在成像面7的一侧。通过控制第一透镜与第二透镜之间的中心间隔d，放大或缩小图像。分别根据如下等式设置第一透镜的凸面和第二透镜的凹面的曲率半径R2和R3。 R2＝(1－n1)/φ2；R3＝(n2－1)/φ3。其中φ2和φ3分别表示屈光力，n1和n2分别表示折射率。
光学放大率调节系统投影曝光设备