专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高可靠性的砷化镓光导开关及其制备方法-CN202310460205.7在审
  • 李昕;杨迎香;胡龙;耿莉;杨向红;李明;文章;童仁皓 - 西安交通大学
  • 2023-04-25 - 2023-07-21 - H01L31/09
  • 本发明公开了一种高可靠性的砷化镓光导开关及其制备方法,该光导开关包括SI‑GaAs衬底,SI‑GaAs衬底的两侧相对的表面均设有n+‑GaAs层,n+‑GaAs层上设有欧姆金属电极,两处欧姆金属电极分别作为砷化镓光导开关的阳极和阴极,两处欧姆金属电极的表面均设有外接电极;SI‑GaAs衬底的表面设有钝化层,钝化层在欧姆金属电极正对的位置设有裸露区域,欧姆金属电极的表面钝化层的裸露区域处设有外接电极;欧姆金属电极包括依次堆叠设置的Pd层、Ge层、Ti层、Pt层和Au层,其中,Pd层设置于n+‑GaAs层的表面。本发明能够提高GaAs PCSS寿命和可靠性,能够解决现有GaAs PCSS由电极边缘电场集中、热累积引起电极烧蚀、脱落,最终导致器件失效的问题。
  • 一种可靠性砷化镓光导开关及其制备方法
  • [发明专利]一种具有非均匀体二极管的SiC MOSFET器件-CN202010364664.1有效
  • 王曦;蒲红斌;杨迎香;胡继超;张萌;钟艺文 - 西安理工大学
  • 2020-04-30 - 2023-04-18 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种具有非均匀体二极管的SiC MOSFET器件,n型4H‑SiC衬底上表面依次设有缓冲层、漂移区及电流扩展层,电流扩展层中间隔嵌有p阱区,每个p阱区中嵌有一个n+源区,每个n+源区中嵌有一个p+接触区;相邻p阱区的上端面共同覆盖有一个栅氧化层,该栅氧化层同时覆盖在部分n+源区以及n+源区之间电流扩展层上表面,栅氧化层上表面设有多晶硅栅,栅氧化层和多晶硅栅的外表面共同包裹有隔离介质层;在p+接触区、n+源区以及隔离介质层之上共同覆盖有源极;n型4H‑SiC衬底下表面设有漏极;栅极覆盖于隔离介质层上表面并与多晶硅栅相连。本发明的结构,显著提升了SiC MOSFET器件的可靠性。
  • 一种具有均匀二极管sicmosfet器件
  • [发明专利]一种SiC沟槽MPS二极管及其制造方法-CN202010806648.3在审
  • 王曦;杨迎香;蒲红斌;封先锋;陈春兰;许蓓 - 西安理工大学
  • 2020-08-12 - 2020-12-11 - H01L29/872
  • 本发明公开了一种SiC沟槽MPS二极管,包括衬底上表面向上依次外延有n型缓冲层、n型漂移区、p型轻掺杂区,p型轻掺杂区上表面靠近内侧设置有多个p型发射区;相邻p型发射区之间设置有矩形沟槽,每个矩形沟槽的底面均嵌入p型轻掺杂区中,矩形沟槽的底面、矩形沟槽的侧壁、p型发射区单元的上表面及p型发射区单元的四个侧面共同覆盖有一体连接的欧姆接触阳极,p型发射区与p型轻掺杂区靠近外侧边缘设置有终端台面;衬底下表面覆盖连接有欧姆接触阴极。本发明还公开了该种SiC沟槽MPS二极管的制造方法。本发明的SiC沟槽MPS二极管,终端保护效率更好、工艺鲁棒性更优;简化了制造工艺,节约了成本。
  • 一种sic沟槽mps二极管及其制造方法
  • [发明专利]一种SiC耐高压抗浪涌pn结单极二极管-CN202010546031.2在审
  • 王曦;张萌;蒲红斌;杨迎香;钟艺文 - 西安理工大学
  • 2020-06-16 - 2020-11-03 - H01L29/06
  • 本发明公开的一种SiC耐高压抗浪涌pn结单极二极管,包括材料为n型SiC的衬底,衬底一面依次外延有缓冲层、漂移区、沟道扩展区,沟道扩展区上开设多个剖面呈矩形的阳极沟槽,每个阳极沟槽侧壁和底端均外延p+结区,沟道扩展区上最高面外延p型接触区,p+结区、p型接触区上覆盖连接欧姆接触阳极,衬底另一面覆盖连接欧姆接触阴极;本发明一种SiC耐高压抗浪涌pn结单极二极管通过在沟道区与阳极之间设置超薄p型接触区,避免了传统碳化硅单极二极管需要同时兼顾阳极与p型、n型碳化硅之间的接触问题,简化了电极制作工艺,降低了器件工艺的复杂度,提高了器件的可行性。
  • 一种sic高压浪涌pn单极二极管

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