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- [实用新型]氧化锌薄膜沉积设备-CN201120346702.7有效
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李一成;陈亮;汪宇澄;许国青
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理想能源设备(上海)有限公司
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2011-09-16
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2012-05-30
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C23C16/455
- 本实用新型公开了一种ZnO薄膜沉积设备,其包含反应腔,所述反应腔包含设置在其顶部的喷淋头,和设置在其底部的、且用于放置基板的基板加热底座;所述基板加热底座与喷淋头相对设置;所述反应腔的上壁与喷淋头之间的区域形成反应气体混合区;所述喷淋头与基板加热底座之间的区域形成薄膜沉积区;所述ZnO薄膜沉积设备还包含一设置在喷淋头内部的温度调节器,其用于控制流过喷淋头的反应气体的温度不低于15°C且不高于25°C。本实用新型通过控制喷淋头内的反应气体的温度,从而可有效降低反应气体在喷淋头内的损耗,提高到达基板表面的反应气体的总流量,进而提高基板表面ZnO薄膜的沉积速率。
- 氧化锌薄膜沉积设备
- [实用新型]氧化锌薄膜沉积设备-CN201120341370.3有效
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汪宇澄;李一成;许国青
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理想能源设备(上海)有限公司
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2011-09-13
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2012-05-30
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C23C16/40
- 本实用新型公开了一种氧化锌薄膜沉积设备,其包含水蒸发器,DEZ蒸发器和反应腔;所述水蒸发器通过水蒸气输气管道与所述反应腔连接;所述DEZ蒸发器通过DEZ输气管道与所述反应腔连接;所述ZnO薄膜沉积设备还包含分别设置在水蒸气输气管道和DEZ输气管道外部的温控装置,所述温控装置用于将所述水蒸气输气管道内的水蒸气温度控制在大于等于30ºC且小于等于50ºC之间,以及将所述DEZ输气管道内的DEZ气体温度控制在大于等于30ºC且小于等于45ºC之间。本实用新型所提供的ZnO薄膜沉积设备,在水蒸气和DEZ气体的传输过程中,可有效降低气体损耗,提高ZnO薄膜的沉积速率。
- 氧化锌薄膜沉积设备
- [实用新型]连续沉积系统-CN201120207152.0有效
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户高良二;李一成;赵函一
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理想能源设备(上海)有限公司
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2011-06-20
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2012-04-04
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C23C16/54
- 本实用新型公开了一种连续沉积系统,其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台;其中,所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板,所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构;所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构;所述检测机构检测所述基板位置;所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。本实用新型在当基板在被送入各腔室之前的装载台处以及当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时,能及时检测并调整基板的位置,保证基板处于预设的理想位置,因此可有效避免基板因位置偏移而与腔室发生碰撞,导致损伤甚至损坏,提高生产效率和产品的优良率。
- 连续沉积系统
- [实用新型]衬底处理设备-CN201120207153.5有效
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户高良二;李一成;赵函一
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理想能源设备(上海)有限公司
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2011-06-20
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2012-01-18
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C23C16/44
- 本实用新型公开了一种衬底处理设备,包括处理腔和直线运动装置;处理腔具有开孔;直线运动装置包括驱动杆和波纹管;驱动杆穿过所述处理腔上的开孔并延伸到处理腔外,且驱动杆能够沿其轴线方向做直线运动并在衬底处理设备处理衬底时处于第一位置;波纹管的一端密封连接处理腔开孔周围的处理腔外壁,另一端密封连接驱动杆位于处理腔外的部分;所述衬底处理设备还包含密封机构,其包括设置在位于处理腔内部的驱动杆上的密封板,该密封板在驱动杆处于第一位置时,密封开孔。本实用新型通过在驱动杆位于处理腔密封空间内的部分上设置密封机构,以密封处理腔上的开孔,防止反应气体进入波纹管内部,从而有效解决现有技术中波纹管被反应气体侵蚀损害的问题。
- 衬底处理设备
- [实用新型]新型环保无烟气化节能炉-CN201120139618.8无效
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李一成
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李一成
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2011-05-05
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2011-11-30
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F24H1/22
- 本实用新型是一种新型环保气化节能炉,包括炉门A(1)、炉门B(2)、炉门C(3)、吸热隔板(4)、排污管(5)、通气孔(6)、水箱口(7)、炉体(8)、引风道口(9)、上出水口(10)、火管(11)、清灰口(12)、助热板(13)、导热箱(14)、热流箱(15)、助燃道口(16)组成,助燃口(16)与燃烧室(17)相连,火管与热流箱相连。火管(11)对炉体内的水进行多次回程加热。燃烧室(17)的燃料经过高温燃烧后,有害气体被二次燃烧,由引风道口(9)排出的气体是无色气体。使可燃气体与燃料的充分结合,达到充分燃烧,减少了污染气体的排放量,煤在燃烧室中充分燃烧,在高温下将煤中的的焦油和碳黑燃尽,最后产生的无烟高温气流进入火管,通过火管换热,提高了热效率。
- 新型环保无烟气化节能
- [发明专利]一种化学气相沉积装置及其喷头组件-CN201010553706.2有效
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李一成
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理想能源设备有限公司
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2010-11-19
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2011-02-16
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C23C16/455
- 一种化学气相沉积装置的喷头组件,所述化学气相沉积装置用于沉积氧化锌薄膜,所述喷头组件包括:第一表面;与所述第一表面对应的第二表面;穿过所述第一表面的进气通道;与所述进气通道另一端相连的气体扩散区;与气体扩散区另一端相连的气体混合区;与所述气体混合区相连的出气通道,且所述出气通道穿过所述喷头组件第二表面,还包括:温度控制装置,所述温度控制装置用于将所述出气通道内的气体的温度控制在40-80℃。相应地,本发明还提供采用本发明所提供的化学气相沉积装置的喷头组件的化学气相沉积装置,利用本发明所提供的化学气相沉积装置及其喷头组件可以避免反应气体在喷头组件内部发生反应或者凝聚,提高工艺效率和产品的质量。
- 一种化学沉积装置及其喷头组件
- [发明专利]真空处理装置-CN200880020847.9有效
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李一成
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东京毅力科创株式会社
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2008-06-13
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2010-03-24
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C23C16/44
- 本发明提供一种真空处理装置。在真空处理腔室(2)的盖体(3),沿着成为气体流路的开口部的周缘形成有环状的槽(150),在该槽(150)内设置有整体形状为环状(O形环状)且形成为双重结构的金属密封部件(140)。在盖体(3),在槽(150)的外侧部分以包围槽(150)的周围的方式形成有环状凹部(160)。另一方面,在凸缘部(130)侧形成有与凹部(160)对应的环状凸部(170),构成使凸部(170)嵌合在凹部(160)中的嵌合机构(180)。
- 真空处理装置
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