专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]预处理装置及其预处理方法-CN201010571397.1无效
  • 李一成 - 理想能源设备有限公司
  • 2010-12-02 - 2012-06-06 - H01L31/18
  • 本发明提供了一种预处理装置及其预处理方法,所述预处理装置包括:处理腔,设置于所述处理腔内用于承载待加热工件的基座;与所述待加热工件相对设置并位于所述待加热工件上方的第一加热单元;设置于基座周围的补偿加热单元,用于补偿加热所述待加热工件的边缘区域。本发明中设置于基座周围的补偿加热单元,具有高度的指向性,可以用于补偿加热待加热工件的边缘区域,从而改善待加热工件表面各处的加热均匀性。
  • 预处理装置及其方法
  • [实用新型]氧化锌薄膜沉积设备-CN201120346702.7有效
  • 李一成;陈亮;汪宇澄;许国青 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2011-09-16 - 2012-05-30 - C23C16/455
  • 本实用新型公开了一种ZnO薄膜沉积设备,其包含反应腔,所述反应腔包含设置在其顶部的喷淋头,和设置在其底部的、且用于放置基板的基板加热底座;所述基板加热底座与喷淋头相对设置;所述反应腔的上壁与喷淋头之间的区域形成反应气体混合区;所述喷淋头与基板加热底座之间的区域形成薄膜沉积区;所述ZnO薄膜沉积设备还包含一设置在喷淋头内部的温度调节器,其用于控制流过喷淋头的反应气体的温度不低于15°C且不高于25°C。本实用新型通过控制喷淋头内的反应气体的温度,从而可有效降低反应气体在喷淋头内的损耗,提高到达基板表面的反应气体的总流量,进而提高基板表面ZnO薄膜的沉积速率。
  • 氧化锌薄膜沉积设备
  • [实用新型]氧化锌薄膜沉积设备-CN201120341370.3有效
  • 汪宇澄;李一成;许国青 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2011-09-13 - 2012-05-30 - C23C16/40
  • 本实用新型公开了一种氧化锌薄膜沉积设备,其包含水蒸发器,DEZ蒸发器和反应腔;所述水蒸发器通过水蒸气输气管道与所述反应腔连接;所述DEZ蒸发器通过DEZ输气管道与所述反应腔连接;所述ZnO薄膜沉积设备还包含分别设置在水蒸气输气管道和DEZ输气管道外部的温控装置,所述温控装置用于将所述水蒸气输气管道内的水蒸气温度控制在大于等于30ºC且小于等于50ºC之间,以及将所述DEZ输气管道内的DEZ气体温度控制在大于等于30ºC且小于等于45ºC之间。本实用新型所提供的ZnO薄膜沉积设备,在水蒸气和DEZ气体的传输过程中,可有效降低气体损耗,提高ZnO薄膜的沉积速率。
  • 氧化锌薄膜沉积设备
  • [实用新型]化学气相薄膜沉积设备-CN201120346715.4有效
  • 李一成;汪宇澄;许国青;户高良二 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2011-09-16 - 2012-05-30 - C23C16/455
  • 本实用新型涉及一种化学气相薄膜沉积设备,其包含了环绕所述基板支承座设置的泵环,上面分布有若干均气孔;至少一个抽气孔设置在反应腔底部并位于基板支承座的周围;所述泵环还与反应腔体的底板间隔了大于等于50mm的距离,以形成连通所述至少一个抽气孔的排气通道,因而反应腔体中的气体可以比较均匀地从所述泵环上的若干个均气孔流入所述排气通道,并最终流向所述至少一个抽气孔;从而使得所述基板支承座表面上气体流速和压力分布均匀,提高基板表面薄膜沉积的均匀性。
  • 化学薄膜沉积设备
  • [实用新型]连续沉积系统-CN201120207152.0有效
  • 户高良二;李一成;赵函一 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2011-06-20 - 2012-04-04 - C23C16/54
  • 本实用新型公开了一种连续沉积系统,其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台;其中,所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板,所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构;所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构;所述检测机构检测所述基板位置;所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。本实用新型在当基板在被送入各腔室之前的装载台处以及当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时,能及时检测并调整基板的位置,保证基板处于预设的理想位置,因此可有效避免基板因位置偏移而与腔室发生碰撞,导致损伤甚至损坏,提高生产效率和产品的优良率。
  • 连续沉积系统
  • [实用新型]衬底处理设备-CN201120207153.5有效
  • 户高良二;李一成;赵函一 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2011-06-20 - 2012-01-18 - C23C16/44
  • 本实用新型公开了一种衬底处理设备,包括处理腔和直线运动装置;处理腔具有开孔;直线运动装置包括驱动杆和波纹管;驱动杆穿过所述处理腔上的开孔并延伸到处理腔外,且驱动杆能够沿其轴线方向做直线运动并在衬底处理设备处理衬底时处于第一位置;波纹管的一端密封连接处理腔开孔周围的处理腔外壁,另一端密封连接驱动杆位于处理腔外的部分;所述衬底处理设备还包含密封机构,其包括设置在位于处理腔内部的驱动杆上的密封板,该密封板在驱动杆处于第一位置时,密封开孔。本实用新型通过在驱动杆位于处理腔密封空间内的部分上设置密封机构,以密封处理腔上的开孔,防止反应气体进入波纹管内部,从而有效解决现有技术中波纹管被反应气体侵蚀损害的问题。
  • 衬底处理设备
  • [实用新型]新型环保无烟气化节能炉-CN201120139618.8无效
  • 李一成 - 李一成
  • 2011-05-05 - 2011-11-30 - F24H1/22
  • 本实用新型是一种新型环保气化节能炉,包括炉门A(1)、炉门B(2)、炉门C(3)、吸热隔板(4)、排污管(5)、通气孔(6)、水箱口(7)、炉体(8)、引风道口(9)、上出水口(10)、火管(11)、清灰口(12)、助热板(13)、导热箱(14)、热流箱(15)、助燃道口(16)组成,助燃口(16)与燃烧室(17)相连,火管与热流箱相连。火管(11)对炉体内的水进行多次回程加热。燃烧室(17)的燃料经过高温燃烧后,有害气体被二次燃烧,由引风道口(9)排出的气体是无色气体。使可燃气体与燃料的充分结合,达到充分燃烧,减少了污染气体的排放量,煤在燃烧室中充分燃烧,在高温下将煤中的的焦油和碳黑燃尽,最后产生的无烟高温气流进入火管,通过火管换热,提高了热效率。
  • 新型环保无烟气化节能
  • [实用新型]一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统-CN201020593227.9有效
  • 李一成 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2010-11-05 - 2011-05-18 - C23C16/44
  • 本实用新型公开了一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统,跨越设置在第一区域和第二区域,其中,第一区域的洁净度高于第二区域;该化学气相沉积系统包含依次连接的加载台、第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室、第二承载室和卸载台;其中,该化学气相沉积系统整体呈弓形设置;该加载台和卸载台设置在第一区域中;该第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室和第二承载室设置于第二区域中。由于本实用新型的化学气相沉积系统整体设置为弓形,因此其加载台和卸载台都设置在洁净度较高的第一区域中,故无需设置专门的回传机构,保证衬底在沉积过程中不受污染的同时也降低了系统的生产成本。同时,可有效降低该化学气相沉积系统的占地面积。
  • 一种用于生产薄膜太阳能电池化学沉积系统
  • [实用新型]衬底支撑基座和应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备-CN201020581144.8有效
  • 李一成 - 理想能源设备(上海)有限公司
  • 2010-10-28 - 2011-05-04 - C23C16/44
  • 本实用新型公开了一种衬底支撑基座,包含:被分隔形成若干中央加热区域和若干外部边缘加热区域的加热基座;被分别嵌设在中央加热区域和外部边缘加热区域中的若干加热源;与加热源耦合连接的电源控制器。该加热基座的上表面还具有一中间凹陷部和凸起外缘;且该加热基座上分布设置有若干个通气孔以传输热传导气体。本实用新型还公开了一种应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备。本实用新型适用于在大尺寸的衬底上沉积薄膜,在沉积薄膜的加热过程中,能对衬底进行均匀加热,使衬底保持良好的温度均匀性,提高所沉积薄膜的均匀性。
  • 衬底支撑基座应用化学沉积设备
  • [发明专利]一种化学气相沉积装置及其喷头组件-CN201010553706.2有效
  • 李一成 - 理想能源设备有限公司
  • 2010-11-19 - 2011-02-16 - C23C16/455
  • 一种化学气相沉积装置的喷头组件,所述化学气相沉积装置用于沉积氧化锌薄膜,所述喷头组件包括:第一表面;与所述第一表面对应的第二表面;穿过所述第一表面的进气通道;与所述进气通道另一端相连的气体扩散区;与气体扩散区另一端相连的气体混合区;与所述气体混合区相连的出气通道,且所述出气通道穿过所述喷头组件第二表面,还包括:温度控制装置,所述温度控制装置用于将所述出气通道内的气体的温度控制在40-80℃。相应地,本发明还提供采用本发明所提供的化学气相沉积装置的喷头组件的化学气相沉积装置,利用本发明所提供的化学气相沉积装置及其喷头组件可以避免反应气体在喷头组件内部发生反应或者凝聚,提高工艺效率和产品的质量。
  • 一种化学沉积装置及其喷头组件
  • [发明专利]真空处理装置-CN200880020847.9有效
  • 李一成 - 东京毅力科创株式会社
  • 2008-06-13 - 2010-03-24 - C23C16/44
  • 本发明提供一种真空处理装置。在真空处理腔室(2)的盖体(3),沿着成为气体流路的开口部的周缘形成有环状的槽(150),在该槽(150)内设置有整体形状为环状(O形环状)且形成为双重结构的金属密封部件(140)。在盖体(3),在槽(150)的外侧部分以包围槽(150)的周围的方式形成有环状凹部(160)。另一方面,在凸缘部(130)侧形成有与凹部(160)对应的环状凸部(170),构成使凸部(170)嵌合在凹部(160)中的嵌合机构(180)。
  • 真空处理装置

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