专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种黄花白芨的鉴别方法-CN201710986339.7有效
  • 刘红美;张洁;刘显义;张婷婷;曾丽娜 - 贵州医科大学
  • 2017-10-20 - 2021-01-26 - C12Q1/6895
  • 本发明公开了一种黄花白芨的鉴别方法,属于中药材鉴别技术领域,该方法包括以下步骤:挑选一批不同种类的黄花白芨和紫花白芨,采用CTAB方法分别抽提白芨个体基因组DNA,然后设计引物对白芨核糖体大亚基基因的D1‑D3区DNA序列进行扩增、克隆、测序和序列比对,确定待测SNP位点;进而针对待测SNP位点设计特异性的PCR扩增引物进行PCR扩增,验证SNP位点,得出标准数据;最后采用PCR扩增引物对待测样本的DNA进行扩增,并根据扩增产物在PCR扩增电泳图中目的条带的有无确定待测样本的SNP位点基因型,与标准数据相比较,从而判定待测样品是黄花白芨还是紫花白芨。
  • 一种黄花白芨鉴别方法
  • [实用新型]一种260nm紫外激光发射装置-CN202020880052.3有效
  • 李再金;李林;曲轶;乔忠良;赵志斌;曾丽娜;彭鸿雁 - 海南师范大学
  • 2020-05-23 - 2020-11-03 - H01S5/06
  • 本发明公开了一种260nm紫外激光发射装置。包括520nm半导体激光器;520nm聚焦镜,其前后表面镀112nm T/62nm S/97nm T/60nm S光学膜;CLBO倍频晶体,前表面镀28nm H/41nm S/39nm H/47nm S/28nm H/41nm S/39nm H/47nm S/28nm H/41nm S/39nm H/48nm S/28nm H/40nm S/39nm H/48nm S/28nm H/40nm S/39nm H/48nm S/27nm H和后表面镀76nm H/24nm S/39nm H/44nm S光学膜;体光栅,前表面镀74nm H/96nm S/62nm H/94nm S/64nm H/88nm S/69nm H/83nm S/73nm H/81nm S/74nm H/81nm S/73nm H/84nm S/69nm H/90nm S/59nm H/103nm S/50nm H/114nm S/73nm H和后表面镀77nm H/19nm S/41nm H/45nm S光学膜。该装置实现了260nm紫外激光发射。(注:T‑TiO2、S‑SiO2和H‑HfO2)。
  • 一种260nm紫外激光发射装置
  • [实用新型]一种深紫外波长激光发射装置-CN202020880357.4有效
  • 李再金;曲轶;李林;乔忠良;赵志斌;曾丽娜;彭鸿雁 - 海南师范大学
  • 2020-05-23 - 2020-11-03 - H01S3/0933
  • 本发明公开了一种深紫外波长激光发射装置,包括808nm半导体激光器;808nm聚焦镜;Nd:YVO4激光晶体;平面镜;LBO倍频;平凹镜A;CLBO倍频晶体;平凹镜B;228.5nm滤光片。808nm半导体激光器发射的808nm激光通过808nm聚焦镜将808nm激光聚焦到Nd:YVO4激光晶体中,Nd:YVO4激光晶体通过808nm激光泵浦发射914nm激光;914nm激光通过平面镜反射,再通过LBO倍频晶体倍频产生457nm激光;457nm激光通过平凹镜A反射,依次通过LBO倍频晶体和平面镜,再通过CLBO倍频晶体倍频产生新波长228.5nm激光;新波长228.5nm激光通过输出镜平凹镜B,最后通过228.5nm滤光片发射新波长228.5nm深紫外激光。
  • 一种深紫波长激光发射装置
  • [实用新型]一种多周期应变补偿型InGaAs/GaAs纳米线-CN202020567468.X有效
  • 曾丽娜;李林;李再金;杨红;李功捷;李志波;任永学;刘国军;曲轶;彭鸿雁 - 海南师范大学
  • 2020-04-16 - 2020-10-09 - H01L31/0352
  • 本实用新型属于半导体光电子技术领域,涉及一种多周期应变补偿型InGaAs/GaAs纳米线结构,在衬底层上由下至上依次包括:一GaAs(111)B面的衬底材料,该衬底用于在其上外延生长纳米线各层材料;一掩膜层,用于形成图型衬底,为纳米线生长提供孔隙阵列并覆盖住相邻纳米线之间的间隙,为SiO2材料;一GaAs纳米线层;一InGaAs纳米线,与GaAs形成径向异质结,为InxGa1‑xAs(0.01≤x≤1)材料;一GaAs层;第一应变补偿层,材料为GaAsyP1‑y(0.01≤y≤1);一GaAs层;一InGaAs纳米线层,材料为InxGa1‑xAs(0.01≤x≤1);一GaAs层;第二应变补偿层,材料为GaAsyP1‑y(0.01≤y≤1);一GaAs层。以此类推,外延生长多周期应变补偿型InGaAs/GaAs纳米线。
  • 一种周期应变补偿ingaasgaas纳米
  • [实用新型]一种绿光垂直腔面发射半导体激光器-CN202020101107.6有效
  • 李林;曾丽娜;李再金;乔忠良;曲轶;彭鸿雁 - 海南师范大学
  • 2020-01-17 - 2020-09-22 - H01S5/183
  • 本实用新型提供了一种绿光垂直腔面发射半导体激光器的技术方案,该方案包括有蓝宝石衬底,缓冲层,第一底部分布布拉格反射镜层,第一下势垒层,第一有源层,隧道结,电流注入层,第一上势垒层,第一顶部分布布拉格反射镜层,欧姆接触层,第二底部分布布拉格反射镜层,第二下势垒层,第二有源层,第二上势垒层,第二顶部分布布拉格反射镜层和窗口层。本实用新型提出一种绿光垂直腔面发射半导体激光器结构,由一次外延生长来实现有源层、高反射率分布布拉格反射镜层在内的绿光垂直腔面发射半导体激光器完整外延结构,无需二次外延生长,从而能够保证获得高质量的绿光垂直腔面发射半导体激光器外延材料。
  • 一种垂直发射半导体激光器
  • [发明专利]一种260nm紫外激光发射装置-CN202010444765.X在审
  • 李再金;李林;曲轶;乔忠良;赵志斌;曾丽娜;彭鸿雁 - 海南师范大学
  • 2020-05-23 - 2020-08-18 - H01S5/06
  • 本发明公开了一种260nm紫外激光发射装置。包括520nm半导体激光器;520nm聚焦镜,其前后表面镀112nm T/62nm S/97nm T/60nm S光学膜;CLBO倍频晶体,前表面镀28nm H/41nm S/39nm H/47nm S/28nm H/41nm S/39nm H/47nm S/28nm H/41nm S/39nm H/48nm S/28nm H/40nm S/39nm H/48nm S/28nm H/40nm S/39nm H/48nm S/27nm H和后表面镀76nm H/24nm S/39nm H/44nm S光学膜;体光栅,前表面镀74nm H/96nm S/62nm H/94nm S/64nm H/88nm S/69nm H/83nm S/73nm H/81nm S/74nm H/81nm S/73nm H/84nm S/69nm H/90nm S/59nm H/103nm S/50nm H/114nm S/73nm H和后表面镀77nm H/19nm S/41nm H/45nm S光学膜。该装置实现了260nm紫外激光发射。(注:T‑TiO2、S‑SiO2和H‑HfO2)。
  • 一种260nm紫外激光发射装置

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