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[发明专利]激光直接绘图方法和激光直接绘图装置-CN200910138759.5无效
发明人：内藤芳达;押田良忠;铃木光弘;加藤友嗣 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2009-02-13 - 公布日： 2009-10-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的激光直接绘图装置，在使沿列方向和行方向排列的激光束(4)的光轴向与列方向相同的方向的主扫描方向偏转的同时，使被绘制体向与行方向相同的方向的副扫描方向移动，采用柱状透镜(10)向副扫描方向使基于栅格数据而调制的激光束聚集并照射到被绘制体(11)上，由此在被绘制体上绘制所需的图案，设置设定机构，其将上述行方向的激光束的光轴的数量设为作为正整数的q和s的乘积p，并且设定绘图部位的光量；旋转机构，其使柱状透镜在上述行列面内旋转，根据上述设定机构所设定的光量确定柱状透镜的位置，在沿行方向每次按照s行错开的同时，将激光束照射到被绘制体上，由此进行绘图部位的光量为1重曝光的场合的q倍的q重曝光。
激光直接绘图方法装置

[发明专利]无掩模曝光装置-CN200910007180.5无效
发明人： 押田良忠;内藤芳达;铃木光弘 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2009-02-13 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供在把多个半导体激光器用作光源的场合也能够使从各半导体激光器出射的光束的光轴高效地平行的无掩模曝光装置。对多个激光光源(LD)(12)的每个设置把激光光束的出射角度调整到所希望的角度的整形透镜(13)、由调整透镜(2011、2012)及可使调整透镜(2012)定位于相对于该光轴成直角方向的调整透镜(2012)的保持机构所组成的光束角度调整机构(2)，将光束角度调整机构(2)配置在激光光源(12)和轴间距变换装置(14)之间使得调整透镜(2011、2012)的光轴与激光光源(12)的设计上的光轴平行，通过使调整透镜(2012)移动到相对于该光轴成直角的方向，使激光光束的光轴与设计上的光轴平行。
无掩模曝光装置

[发明专利]无掩模曝光装置-CN200810144948.9有效
发明人： 押田良忠;小林和夫 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2008-08-13 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供工件上有弯曲和厚度不均时、也能够在工件表面上曝光均匀宽度的图案的无掩模曝光装置。设置板厚方向一面相对于板厚方向另一面是角度为θ的倾斜面的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)，和使楔形玻璃(717、727)中至少一个移动的移动装置，使楔形玻璃(717)的面(717u)与第2投影透镜(67)的光轴垂直设置、并且将组合成楔形玻璃(727)的面(727u)与(717u)面的距离为预定值δ的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)设置在第2投影透镜(67)的入射侧或出射侧，第2投影透镜(67)的光轴方向的成像位置与曝光基板(8)表面错开时，通过以使间隔δ不变的方式将楔形玻璃(717)向角度θ方向移动，使第2投影透镜(67)的成像面定位在曝光基板(8)表面。
无掩模曝光装置

[发明专利]激光直描装置-CN200810210446.1有效
发明人：内藤芳达;押田良忠;铃木光弘 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2008-08-15 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将各种灵敏度的感光材料进行曝光并且能够根据工件的变形来修正描画位置的激光直描装置。该激光直描装置使基于光栅数据调制的激光束(5a)通过圆柱形透镜(9)向副扫描方向聚光的同时偏向主扫描方向，并且使被描画体(10)向副扫描方向移动而将所期望的图形描画到被描画体(10)上，构成为使圆柱形透镜(9)的中心轴(P)能够在水平方向旋转，并能够改变圆柱形透镜(9)的中心轴(P)相对于主扫描方向的角度。
激光装置

[发明专利]基板曝光装置及照明装置-CN200710136083.7有效
发明人： 押田良忠;小林和夫 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2007-07-17 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供即使在使二维光空间调制器的光调制面的横Hx和纵Hy(其中，纵向为曝光基板的移动方向)之比Hx/Hy为例如1.5以上的情况下也可进行品质优良的曝光且可提高作业速度的照明装置及曝光装置。使将来自积分器(13)的出射光导向二维光空间调制器(21)的第二光学系统(15)的x方向的焦距(fx)与y方向的焦距(fy)为不同的值，例如，使fx/fy为1.6。这样，使棒透镜131的横纵比dx∶dy为接近1的1.6∶1，使积分器(13)的数量横纵相同，且可使Hx/Hy的值为2.5。此外，在实用上，可使二维光空间调制器的照射区域的横纵比Hx/Hy的值为3.5以上。
曝光装置照明

[发明专利]光束的轴间间距转换装置及基板曝光装置-CN200710104673.1有效
发明人： 押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;山口刚;丸山重信 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种加工及使用容易且可使光束的平行度优良的光束的轴间间距转换装置及曝光位置精度优良的基板曝光装置。本发明的技术方案是，使xy方向的断面为平行四边形的四角柱的平行玻璃(1418)和xy方向的断面为平行四边形的四角柱且在与xy方向成直角的z方向的一个表面上具有槽(G)的平行玻璃(1411～1417)以槽(G)为内侧的方式贴紧重叠，使要进入槽(G)内的光全反射，从而将以13mm的间距(Px)入射的平行光束(10A)的光轴为以1mm的间距(Px′)射出的平行光束(10)。
光束间间转换装置曝光

[发明专利]调制器-CN200710112121.5无效
发明人： 押田良忠;丸山重信;小林和夫;内藤芳达;大坂义久 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2003-07-02 - 公布日： 2007-11-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r₁与上述被照明区域的纵横比r₀之比r₁/r₀为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
调制器

[发明专利]图形曝光方法及装置-CN200610008345.7无效
发明人： 押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;山口刚;丸山重信 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2006-02-17 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为405nm的激光(1a)的蓝紫半导体激光器(12A)和出射波长为375nm的激光(1b)的紫外线半导体激光器(12B)，使激光(1a)、(1b)的光轴同轴，照射到基板(8)上。这时，用激光(1a)、(1b)多次照射基板(8)上的同一地点，使激光(1a)、(1b)的强度偏差平均化。
图形曝光方法装置

[发明专利]图形曝光方法以及图形曝光装置-CN200510008894.X无效
发明人： 押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;内山文二;山口刚 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2005-02-24 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。
图形曝光方法以及装置

[发明专利]照明方法和曝光方法及其装置-CN03805595.3有效
发明人： 押田良忠;丸山重信;小林和夫;内藤芳达;大坂义久 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2003-07-02 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r₁与上述被照明区域的纵横比r₀之比r₁/r₀为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
照明方法曝光及其装置

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