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[发明专利]粉体处理装置和粉体处理方法-CN201280044311.7无效
发明人：田中则之;平岩次郎;向井崇洋 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2012-09-11 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： B01J8/24 文献下载
摘要：在反应容器内，设有处理用空间。在反应容器的下端部，设有一个气体导入口。在一个气体导入口，安装有分散板。在反应容器的下部侧面，设有另一个气体导入口。在反应容器内的分散板上，容纳作为被处理物的粉体。分散板构成为气体能够通过且粉体不能通过。氮气从一个气体导入口通过分散板而导入处理用空间，并且，处理用气体从另一气体导入口不通过分散板就导入处理用空间。
处理装置方法

[发明专利]表面处理装置-CN200980107772.2有效
发明人： 平岩次郎;竹林仁;吉本修;田中则之;藤田一郎;佐佐木启能;森一高 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2009-03-06 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本发明的表面处理装置(100)具备：稀释气体供给装置(1)，氟气供给装置(2)，混合稀释气体与氟气的混合器(5)，以及采用由混合器(5)生成的混合气体对被处理物进行处理的反应器(6)。由加热器(8)对从稀释气体供给装置供给的稀释气体进行加热，在混合器(5)中混合加热后的稀释气体与从氟气供给装置供给的氟气。混合后的气体向反应器(6)输送。反应器(6)内的气体通过排气装置(207)从反应器(6)导向流路(219、220、221、222)。阀(223、224、225、226)依次打开，通过使用流路(219、220、221、222)，一边调整反应器(6)内的气体的流量一边将反应器(6)内的气体向除害装置(208)输送。
表面处理装置

[发明专利]气体生成装置-CN201010275685.2无效
发明人：早川宏;吉本修;田中则之;平岩次郎;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2004-12-17 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种气体生成装置，通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置，包括：将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔，将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器，以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀，上述过滤器插入上述除去塔的下游，上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
气体生成装置

[发明专利]半导体制造设备-CN200780005002.8有效
发明人： 平岩次郎;吉本修;早川宏;东城哲朗;冈部庸之;浅野贵庸;和田真一;中尾贤;加藤寿 -专利权人：东洋炭素株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-02-07 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：氟气发生装置与半导体制造装置(3a～3e)经由气体供给系统(2)连接，该气体供给系统(2)具有能够贮藏规定量的由现场氟气发生装置(1a～1e)发生的氟气的贮藏罐(12)，当现场氟气发生装置(1a～1e)中1个以上停止时，通过从贮藏有规定量的氟气的贮藏罐(12)向半导体制造装置(3a～3e)供给氟气，从而维持半导体制造装置(3a～3e)的运用。由此，能够安全稳定地将在氟气发生装置发生的氟气向半导体制造装置供给，并且获得在半导体制造中价格性能比也优越的半导体制造设备。
半导体制造设备

[发明专利]氟系气体产生装置-CN200680030920.1有效
发明人：田中则之;吉本修;平岩次郎;早川宏;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2006-06-28 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：一种氟系气体产生装置，在具备阳极室和阴极室的电解槽内具有由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解浴，通过对前述电解浴进行电解来产生含氟的气体，该氟系气体产生装置具有：原料供给配管，在前述电解槽中到达电解浴中，用于供给电解用原料；常闭型阀，设置在前述原料供给配管的中途；和设置有常开型阀的迂回用配管，将比前述常闭型阀靠向下游侧的前述原料供给配管与前述电解槽的气相部分连接。由此，电解浴不会被吸入到氟系气体产生装置的原料供给配管内，可事先防止在原料供给配管内发生固化。
气体产生装置

[发明专利]制造氟或三氟化氮的电解装置-CN200780000033.4有效
发明人：东城哲朗;平岩次郎;竹林仁;儿玉昌士 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2007-01-19 - 公布日： 2008-07-02 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：本发明的任务在于提供一种通过电解含氟化氢的熔盐而制造氟或三氟化氮的电解装置，此电解装置的优点在于可进行电解，而即使在大电流密度下也不会出现阳极效应，而且不会发生阳极溶解。在本发明中，此任务通过下面的电解装置完成，所述电解装置通过施加1到1000A/dm²的电流密度电解含氟化氢的熔盐以制造氟或三氟化氮，该电解装置以涂覆导电金刚石的电极作为阳极。
制造氟化电解装置

[发明专利]气体生成装置-CN200410081825.7无效
发明人：早川宏;吉本修;田中则之;平岩次郎;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2004-12-17 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种气体生成装置，通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置，包括：将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔，将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器，以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀，上述过滤器插入上述除去塔的下游，上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
气体生成装置

[发明专利]熔盐电解浴的控制装置及其控制方法-CN200410071217.8有效
发明人：东城哲朗;平岩次郎;吉本修 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2004-07-14 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： C25B15/02 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种能够从电解浴熔解安全地转化到可开始电解的状态的控制装置及其控制方法。是使装容在电解槽(1)中的固体状电解浴(2)熔融、而自动地形成可电解的状态的熔盐电解槽的控制装置，具有通过设置在电解槽(1)上的检测器(33)检测电解槽的状态变化的检测机构，和在检测机构实施检测后调整电解浴液面为可电解的状态的调整机构。
电解控制装置及其方法

[发明专利]气体发生装置的电流控制方法和电流控制装置-CN200410047497.9有效
发明人：东城哲朗;平岩次郎;吉本修 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2004-05-28 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够持续最佳的电解状态并稳定操作，且无需靠人工就能够发生氟或氟化物气体的气体发生装置的电流控制方法和电流控制装置。本发明是一种使由含有氟化氢的混合熔化盐构成的电解浴(5)，用碳电极作为阳极(4a)进行电解而发生氟或氟化物气体的气体发生装置的电流控制方法，测定在气体发生装置上施加了一定电流后的阴极(4b)、阳极(4a)之间的电压变动幅度，并一边按照电压变动幅度改变投入电流量一边施加电流。
气体发生装置电流控制方法

[发明专利]溶融盐电解装置-CN200410003530.8无效
发明人： 平岩次郎;吉本修;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2004-01-29 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种小型化，电绝缘性、气体密封性、相对热及气体的安全性优异的溶融盐电解装置。在设置电解由混合溶融盐构成的电解浴用的电解槽的溶融盐电解装置中，包括：加热及/或冷却前述电解槽主体用的第一热交换机构，相对于前述第一热交换机构、在进一步隔开一定的空间的外周上配置的将前述第一热交换机构密闭的外框，形成在前述外框内的减压乃至真空隔热层。进而，在要求电绝缘性和气体密封性的部位，配备电绝缘材料和气体密封件。
溶融盐电解装置

[发明专利]氟气发生装置-CN200310119692.3无效
发明人：东城哲朗;吉本修;平岩次郎 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2003-11-20 - 公布日： 2004-06-09 - 主分类号： C01B7/20 文献下载
摘要：目的在于即使在氟气发生装置的HF的供给停止或异常时，也不会使电解液腐蚀上游管路，且管路内不会残留HF。是用来电解由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解液而产生氟气的氟气发生装置，具有：向前述电解液中提供氟化氢气体的氟化氢气体供给管路；配置在前述氟化氢气体供给管路上且在前述氟化氢气体的供给停止时关闭的第1自动阀；在前述氟化氢气体的供给停止时，排出残存在前述氟化氢气体供给管路的比前述第1自动阀更下游侧的管路内的氟化氢气体并置换为惰性气体的惰性气体置换机构。
氟气发生装置

[发明专利]氟气产生装置及其电解液液面控制的方法-CN200310113891.3有效
发明人： 平岩次郎;吉本修;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2003-11-10 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种安全的氟气产生装置，即使在电解停止时也能控制电解槽的电解液液面的位置。在用于通过电解含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解液而产生氟气的氟气产生装置中，具有通过隔壁而分离的阳极室和阴极室，备有在氟气的产生停止时对前述阳极室或前述阴极室的至少任一方的电解液液面高度进行控制的电解液液面控制机构。
氟气产生装置及其电解液液面控制方法

[发明专利]氟气发生装置-CN03125594.9无效
发明人： 平岩次郎;吉本修;东城哲朗 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2003-09-20 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种氟气发生装置，即使在万一气体泄漏出来的情况下，也能使使用或产生的气体尽可能不混合，而且不向外部泄漏，可以安全地处理，另外，维护和交换作业等也容易进行。配备有容纳氟气发生用电解槽(2)的筐体(100)的氟气发生装置。该筐体(100)被分隔为包括容纳上述电解槽(2)的区段(101)的2个以上的区段(102)、(103)。
氟气发生装置

[发明专利]氟气发生装置-CN03133020.7有效
发明人：东城哲朗;平岩次郎;吉本修;竹林仁;多田良辰;田中宇大 -专利权人：东洋炭素株式会社
申请日： 2003-05-29 - 公布日： 2004-03-03 - 主分类号： C25B1/24 文献下载
摘要：提供一种氟气发生装置，它能够稳定地、安全地产生高纯度的氟气。该氟气发生装置，是对包含氟化氢的混合熔融盐组成的电解液2进行电解以产生高纯度的氟气的氟气发生装置，包括：利用隔壁16分离为用于设置阳极的阳极室3和用于设置阴极的阴极室4的电解槽1；使上述阳极室3和上述阴极室4内保持大气压的压力保持装置；及能够对上述阳极室3和上述阴极室4的各自的上述电解液2的液位进行3个级别以上的检测的液面检测装置5、6。
氟气发生装置

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