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[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN201210004655.7有效
发明人：小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2005-12-08 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部(B)的缓冲层层叠，使得透光区域与开口部(B)重合，并且在所述透光区域的背面与所述开口部(B)的断面的接触部分，设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN200910169164.6有效
发明人：小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2005-12-08 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，既使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN200910169165.0无效
发明人：小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2005-12-08 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫-CN200910135487.3无效
发明人：数野淳;小川一幸;中森雅彦;山田孝敏;下村哲生 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2006-05-10 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： B24D3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在研磨对象物的表面难以发生划伤，且平坦化特性优越的研磨垫。本发明的研磨垫具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的研磨层，所述聚氨酯树脂发泡体的拉伸断裂伸长是25～120％。
研磨

[发明专利]研磨垫-CN200910135488.8有效
发明人：数野淳;小川一幸;中森雅彦;山田孝敏;下村哲生 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2006-05-10 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： B24D3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在研磨对象物的表面难以发生划伤，且平坦化特性优越的研磨垫。本发明的研磨垫具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的研磨层，所述聚氨酯树脂发泡体的拉伸断裂伸长是25～120％。
研磨

[发明专利]研磨垫-CN200680032101.0有效
发明人：小川一幸;下村哲生;中井良之;中森雅彦;山田孝敏 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2006-08-22 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供研磨垫，其研磨速度良好、不产生中心变缓、进而寿命特性优异。本发明的研磨垫具备由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层，作为前述聚氨酯树脂发泡体的原料成分的高分子量多元醇成分以A/B＝10/90～50/50的重量比含有数均分子量550～800的疏水性高分子量多元醇A和数均分子量950～1300的疏水性高分子量多元醇B。
研磨

[发明专利]研磨垫-CN200680017384.1有效
发明人：数野淳;小川一幸;中森雅彦;山田孝敏;下村哲生 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2006-05-10 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在研磨对象物的表面难以发生划伤，且平坦化特性优越的研磨垫。本发明的研磨垫具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的研磨层，所述聚氨酯树脂发泡体的拉伸断裂伸长是25～120％。
研磨

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148746.7有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148745.2有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148747.1有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法和研磨垫用缓冲层-CN200710139901.9有效
发明人：小野浩一;下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;驹井茂;堤正幸 -专利权人：东洋橡膠工业株式会社
申请日： 2001-11-28 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：一种研磨垫，稳定且以高的研磨速度对半导体装置用的硅晶片、存储盘、磁盘、光学透镜等要求高度表面平坦性的材料进行平坦化处理。本发明提供薄板化、槽等的表面加工等生产容易，厚度精度优异、研磨速度高、可得到均匀的研磨速度的研磨垫子；以及没有由个体差异的质量偏差，可容易改变加工图案，可进行微细加工，形成凹凸时不会有毛边的研磨垫子；以及可对应各种被研磨材料，能够把磨粒混合为极其高浓度、且即使分散磨粒，由于磨粒凝聚而引起的划痕产生少的研磨垫。做成研磨层由通过能量线固化的固化性组合物形成，并且上述研磨层表面具有通过光刻法形成的凹凸的研磨垫。做成分散有磨粒的研磨层树脂是具有20～1500eq/ton离子基的树脂的研磨垫。
研磨及其制造方法缓冲

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148750.3有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148749.0有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148751.8有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148748.6无效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

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