专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]薄膜晶体管、显示面板以及薄膜晶体管的制造方法-CN201380002146.3无效
  • 奥本有子;宫本明人 - 松下电器产业株式会社
  • 2013-06-05 - 2014-03-19 - H01L29/786
  • 本发明的薄膜晶体管具有:位于基板(1)的上方的栅电极(2a、2b);与栅电极(2a、2b)对向的栅极绝缘层(3);隔壁(6),其对内部包含栅极绝缘层(3)的表面的开口部(6a、6b)进行区划,拨液性比栅极绝缘层(3)高;半导体层(8a、8b),其隔着栅极绝缘层(3)与栅电极(2a、2b)对向,通过涂敷法形成在开口部(6a、6b)的内部;与半导体层(8a、8b)电连接的源电极(4a、4b)及漏电极(5a、5b);和中间层(7a、7b),其由与隔壁(6)的材料相同的材料构成,位于栅极绝缘层(3)和半导体层(8a、8b)之间,中间层离散地存在于所述栅极绝缘层的上方。
  • 薄膜晶体管显示面板以及制造方法
  • [发明专利]有机薄膜晶体管-CN201280015998.1有效
  • 受田高明;宫本明人 - 松下电器产业株式会社
  • 2012-09-05 - 2013-12-25 - H01L29/786
  • 本发明提供一种有机薄膜晶体管及其制造方法,包括:在基板(1)上形成栅电极(2)的工序;在栅电极上形成栅极绝缘膜(3)的工序;在栅极绝缘膜上形成源电极(4S)和漏电极(4D)的工序;在源电极和漏电极上形成牺牲层(5)的工序;在牺牲层上形成隔壁层(6R)的工序;通过对隔壁层进行图案形成,使牺牲层的一部分露出而形成开口的工序;通过除去露出的牺牲层,使源电极和漏电极露出的工序;和遍及源电极和漏电极的上表面以及栅极绝缘膜的上表面而形成有机半导体层(7)的工序,从开口露出的源电极和漏电极的表面积为开口面积的50%以上,源电极与漏电极的间隔小于至少一部分位于源电极和漏电极上的有机半导体层的结晶的平均粒径。
  • 有机薄膜晶体管
  • [发明专利]纵型有机FET及其制造方法-CN200480023853.1无效
  • 宫本明人 - 松下电器产业株式会社
  • 2004-08-23 - 2006-09-27 - H01L51/00
  • 本发明提供一种抑制由有机半导体构成的活性层的分子取向、提高载流子迁移率的纵型有机FET。本发明涉及基板上至少设有源极层、漏极层、栅电极和活性层,具有源极层、活性层和漏极层依次叠层的结构的纵型有机FET,其特征在于:(1)上述源极层和漏极层实质上与基板表面平行地配置;(2)上述源极层和漏极层由导电性部件构成;(3)上述活性层实质上由以4价或6价的元素作为中心原子、并且分子面的上下方向分别配位有配位基X1和X2的酞菁类化合物构成;(4)上述化合物以上述化合物的各分子的分子面与源极层和漏极层中的至少一方成为平行状态的方式叠层。
  • 有机fet及其制造方法
  • [发明专利]非易失性存储器及其制造方法-CN200480000648.3无效
  • 森田清之;山田升;宫本明人;大塚隆;田中英行 - 松下电器产业株式会社
  • 2004-05-07 - 2005-11-16 - H01L27/10
  • 一种非易失性存储器,包括:第一基板(100)和第二基板(110),所述第一基板(100)具有多个排列成矩阵的开关元件(4)和多个连接在所述开关元件(4)的第一电极(18),所述第二基板(110)具有导电膜(32),和通过提供电脉冲改变阻值的记录层(34),其中,所述多个第一电极(18)被所述记录层(34)完整地覆盖,该记录层(34)由此位于所述多个第一电极(18)和所述导电膜(32)之间;所述第一基板(100)还包括第二电极(22),和所述第二电极(22)与所述导电膜(32)电联接,当给所述记录层(34)施加电流时,所述第二电极(22)的电压保持在一定的水平上。该非易失性存储器以低成本获得高集成度。
  • 非易失性存储器及其制造方法

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