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[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法、ECR高度监视器-CN201980003567.5有效
发明人：池田纪彦;安井尚辉;山田一也 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，具备：处理室(101)，使用等离子体(111)对晶片(114)进行处理；高频电源(106)，供给用于生成等离子体(111)的高频电力；机构，使用于形成ECR的磁场形成，并且控制该磁通密度；以及样品台(113)，载置晶片(114)。上述等离子体处理装置还具备：控制部(107)，根据等离子体(111)的图像数据，监视通过上述高频电力和上述磁场的相互作用而产生的电子回旋谐振即ECR的高度，控制上述高频电力的频率，使得监视的上述ECR的高度成为给定的高度。
等离子体处理装置以及方法 ecr 高度监视器

[发明专利]等离子处理装置-CN201980005152.1在审
发明人：森功;伊泽胜;安井尚辉;池田纪彦;山田一也 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子处理装置具备：对试样进行等离子处理的处理室；供给用于生成等离子的高频电力的第一高频电源；载置所述试样的试样台；以及向所述试样台供给高频电力的第二高频电源，等离子处理装置还具备：直流电源，其将直流电压施加给所述试样台，所述直流电压通过周期性重复的波形而变化，一个周期的所述波形具有在给定时间变化给定量以上的振幅的期间。由此，能够除去晶片表面的带电粒子而得到垂直性高的沟道形状，此外能够降低沟道内部的并非蚀刻对象的膜的损坏。
等离子处理装置

[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法-CN201711453386.1有效
发明人：山田一也;山本浩一;安井尚辉;池田纪彦;森功 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种提高了样品的处理的均匀性的等离子体处理装置以及等离子体处理方法。等离子体处理装置具备：处理室；设置在该处理室的内部并载置样品的被电分割成多个区域的样品台；将电磁波导入至处理室的内部的电磁波导入部；以及向样品台施加偏置电力的偏置电力施加部，偏置电力施加部具备：向样品台的被电分割成多个的区域之中的第一区域施加第一高频电力的第一高频电力施加部；向样品台的被电分割成多个的区域之中的第二区域施加第二高频电力的第二高频电力施加部；以及对第一高频电力施加部和第二高频电力施加部进行控制从而使第一高频电力和第二高频电力的相位偏移给定量的相位调整部。
等离子体处理装置以及方法

[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法-CN201710816103.9有效
发明人：川上雅敏;田中基裕;园田靖;佐藤浩平;安井尚辉 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种提高了处理的成品率的等离子体处理装置或方法。等离子体处理装置或方法通过气体供给单元向配置在真空容器内部的处理室内供给给定流量的处理用气体，利用包括使用以各不相同的条件供给的处理用气体在处理室内形成等离子体的多个处理步骤的工序，对载置于配置在处理室内的试样台上的晶片进行处理，上述工序具备在前后两个处理步骤之间向处理室内供给稀有气体的转移步骤，上述转移步骤包括：第一转移步骤，对稀有气体将其压力调节为与在前面的处理步骤中使用的处理用气体的条件相等来进行供给；和第二转移步骤，在该第一转移步骤之后，对稀有气体将其压力和流量调节为与在后面的处理步骤中使用的处理用气体的条件相等来进行供给。
等离子体处理装置以及方法

[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201410030630.3有效
发明人：森本未知数;安井尚辉;大越康雄 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供在对等离子体生成用高频电力和高频偏置电力进行时间调制的等离子体处理装置中能稳定地供应高频偏置电力的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置具备供应用于在真空容器内生成等离子体的第一高频电力的第一高频电源、对载置样品的样品台供应第二高频电力的第二高频电源、以及第二高频电源的匹配器，在对第一高频电力和第二高频电力进行时间调制的情况下，匹配器在采样有效期间内采样用于进行匹配的信息，该采样有效期间设为从以时间调制后的第二高频电力的导通开始时间作为开始时间的给定时间经过后起至导通结束时间为止的期间；且从导通结束时间后起至下一采样有效期间为止，进行控制来维持在采样有效期间内所进行的匹配状态。
等离子体处理装置方法