专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体存储装置及其制造方法-CN201911282806.3在审
  • 坂本涉;铃木亮太;冈本达也;加藤龙也;荒井史隆 - 东芝存储器株式会社
  • 2015-01-07 - 2020-03-31 - H01L27/11556
  • 本发明涉及半导体存储装置及其制造方法。根据一个实施例,一种半导体存储装置包括基板、设置在所述基板上且在竖直方向上延伸的半导体柱、设置在所述半导体柱的侧方且在第一方向上延伸的多个第一电极膜。所述多个第一电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第一电极膜之间的多个第二电极膜。所述多个第二电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第二电极膜之间的第一绝缘膜,以及设置在所述第二电极膜与所述第一电极膜之间的第二绝缘膜。
  • 半导体存储装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体存储装置及其制造方法-CN201580004157.4在审
  • 坂本涉;铃木亮太;冈本达也;加藤龙也;荒井史隆 - 株式会社东芝
  • 2015-01-07 - 2016-11-23 - H01L27/115
  • 根据一个实施例,一种半导体存储装置包括基板、设置在所述基板上且在竖直方向上延伸的半导体柱、设置在所述半导体柱的侧方且在第一方向上延伸的多个第一电极膜。所述多个第一电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第一电极膜之间的多个第二电极膜。所述多个第二电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第二电极膜之间的第一绝缘膜,以及设置在所述第二电极膜与所述第一电极膜之间的第二绝缘膜。
  • 半导体存储装置及其制造方法

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