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[发明专利]闪存浮栅的制作方法-CN202310635721.9在审
发明人：高毅;马开阳;左睿昊;周婧涵 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司;华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H10B41/30 文献下载
摘要：本发明提供一种闪存浮栅的制作方法，包括：提供一具有存储区和外围区的衬底，衬底中形成有浅沟槽隔离和有源区；形成浮栅层；采用化学机械研磨工艺减薄浮栅层；刻蚀减薄后的浮栅层形成浮栅，存储区刻蚀剩余的浮栅层作为浮栅。本发明形成浮栅层后，先采CMP工艺减薄部分厚度的浮栅层，然后通过刻蚀定义浮栅厚度。本发明CMP工艺需要减薄的厚度降低且研磨对象为材质相同的浮栅层，因此受负载效应影响较小，较好控制减薄后的浮栅层的厚度均匀性，刻蚀减薄后的浮栅层通过刻蚀终点控制，有效提高浮栅厚度均匀性，可以消除由于台阶差导致的浮栅多晶硅颗粒，方法简单，成本较低。实现了浮栅层在有源区后形成，保证了与逻辑工艺较好地兼容。
闪存制作方法

[发明专利]闪存器件及其制备方法-CN202310476340.0在审
发明人：高毅;周婧涵;左睿昊;马开阳 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司;华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H10B69/00 文献下载
摘要：本发明提供一种闪存器件及其制备方法，包括：提供衬底，衬底包括外围区，外围区包括浅沟槽隔离和位于浅沟槽隔离两侧的NMOS区域和PMOS区域；衬底上形成有第一氧化层和栅极；形成侧墙，侧墙位于NMOS区域和PMOS区域各自栅极的侧壁；湿法刻蚀去除衬底表面裸露的第一氧化层；O2处理形成第二氧化层，第二氧化层位于侧墙两侧的衬底上；形成源区和漏区，在NMOS区域和PMOS区域分别进行各自区域的源漏离子注入以在栅极两侧的衬底表面形成源区和漏区。本发明在源漏离子注入前增加O2处理生成第二氧化层的步骤，提高有源区第二氧化层厚度，有效减少了由于源漏离子注入导致的有源区表面损伤斑点，且闪存器件的电性能不受影响。
闪存器件及其制备方法

[发明专利]闪存浮栅的制作方法-CN202310476323.7在审
发明人：高毅;左睿昊;马开阳;周婧涵 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司;华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H10B41/30 文献下载
摘要：本发明提供一种闪存浮栅的制作方法，包括：提供一具有存储区和外围区的衬底，刻蚀部分厚度的衬底形成沟槽并定义出有源区，有源区位于沟槽两侧的衬底中；采用HARP工艺形成隔离介质，隔离介质填充沟槽且包括高出衬底的隔离凸起部；形成浮栅层，在存储区浮栅层覆盖衬底和隔离凸起部的上表面和侧面，浮栅层还覆盖位于外围区的衬底；形成保护层，保护层填充浮栅层的位于有源区的凹陷区域；以保护层为掩膜，刻蚀去除在存储区内浮栅层覆盖隔离凸起部的部分，并去除浮栅层位于外围区的部分；去除保护层，剩余的浮栅层构成浮栅。本发明实现了浮栅层在有源区后形成，形成STI结构中的隔离介质采用HARP工艺，保证了与逻辑工艺较好地兼容。
闪存制作方法

[发明专利]一种自修复本征可拉伸发光弹性体及其制备方法与应用-CN202110697696.8有效
发明人：赖文勇;周婧涵;刘绪;徐世豪 -专利权人：南京邮电大学
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C08G12/06 文献下载
摘要：本发明公开一种自修复本征可拉伸发光弹性体及其制备方法与应用。该弹性体是有机发光单体、双(胺)封端的聚(二甲基硅氧烷)为原料，通过席夫碱反应交联聚合而制得。本发明通过席夫碱反应，将可逆的动态亚胺键引入本征可拉伸发光弹性体中，亚胺键的断裂重组实现了弹性体的自修复性，在弹性体具有可拉伸发光性能的同时，兼备自修复性，解决了刚性发光单元同时兼具可拉伸和自修复性的问题。本发明制备方法简单、单体来源广泛成本低廉、产物易于提纯、产率高，在可拉伸传感器、可拉伸电致发光器件、可穿戴器件、生物医药等领域具有重要的潜在应用价值。
一种自修复本拉伸发光弹性体及其制备方法应用

[发明专利]一种本征可拉伸发光弹性体及其制备方法与应用-CN202110694068.4有效
发明人：赖文勇;周婧涵;刘绪;徐世豪 -专利权人：南京邮电大学
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： C08F257/00 文献下载
摘要：本发明公开一种本征可拉伸发光弹性体及其制备方法与应用。该弹性体是由有机发光单体、(4‑乙烯基苯基)甲醇、2‑溴异丁酰溴、丙烯酸丁酯为原料，通过原子转移自由基聚合的方式制备而成。本发明以接枝共聚的方式，将具有拉伸性的弹性体长链聚合在发光单元构筑的刚性骨架上，制备得到的发光弹性体不仅具有超高拉伸性及断裂韧性，同时能够实现高效率的有机电致发光。本发明解决了传统的刚性发光材料无法实现可拉伸发光的问题，同时为可拉伸电子照明和可拉伸电子显示的应用奠定了基础；该类发光弹性体作为发光功能层材料，可应用于制备可拉伸柔性有机电致发光器件。
一种拉伸发光弹性体及其制备方法应用