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[发明专利]方块电阻模型的建模方法-CN202310686065.5有效
发明人：宋聪强;吕正良;李毅;张劲;王飘飘 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供一种方块电阻模型的建模方法。所述方块电阻模型的建模方法包括：建立金属线方块电阻的初始模型，该初始模型与金属线的电阻率相关；获取金属线的电阻率随线宽变化的特征关系式；将该特征关系式代入初始模型中，获得金属线的方块电阻模型。如此获得的方块电阻模型能够模拟金属线的散射效应，可以提高金属线方块电阻的模拟精度，尤其是提高小线宽金属线的方块电阻的模拟精度，为各尺寸金属线的电阻目标值制定提供较好的参考。
方块电阻模型建模方法

[发明专利]半导体结构的制备方法-CN202310667298.0在审
发明人：宋聪强;吕正良;张劲;李毅 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体结构的制备方法。半导体结构的制备方法包括：提供初始半导体结构；于初始半导体结构上形成低介电常数材料层，低介电常数材料层内具有多个小孔；于低介电常数材料层之上涂布液态的热固性树脂层；在液态的热固性树脂层渗透至少部分小孔的情况下，对低介电常数材料层进行第一热处理，以使热固性树脂层固态化；于低介电常数材料层内形成贯穿低介电常数材料层的至少一金属互连结构；对低介电常数材料层进行第二热处理，以使小孔中固态化的热固性树脂层分解。由于本制备方法能够尽量避免低介电常数材料层内的各小孔出现破裂或坍塌，从而减小对低介电常数材料层的机械损伤，从而能够提高芯片的可靠性。
半导体结构制备方法

[发明专利]一种后浇带临时回顶施工工艺-CN202210047181.8有效
发明人： 吕正良;姚贤良;喻龙寅;郭向明;倪国洪;厉勋 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： E04G25/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种后浇带临时回顶施工工艺，包括如下步骤：模型设计和深化；制作支撑支架构件；原支撑架部分杆件拆除；安装支撑工字钢和千斤顶；安装可调节立柱支撑件：将多根可调节立柱支撑件垂直安装在支撑工字钢和千斤顶之间，调节好可调节立柱支撑件的高度，并做临时固定；对撑安装固定：根据可调节立柱支撑件之间的距离，调节可调节抱箍式连接件，并将其抱箍式固定在可调节立柱支撑件上作为水平对撑，并做固定；原支撑架拆除；千斤顶复顶升。本发明结构简单，操作方便，支撑支架能够进行上下调节和左右调节，适用范围广，精确性较高。
一种后浇带临时施工工艺

[发明专利]半导体器件的制作方法以及半导体器件-CN202310478314.1在审
发明人：张劲;吕正良;宋聪强;许俊康 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本申请提供了一种半导体器件的制作方法以及半导体器件，该方法包括：首先，提供包括衬底、外延层、第一栅极结构以及第二栅极结构的基底，外延层包括左右设置且掺杂类型不同的第一区域以及第二区域；然后，对第二栅极结构两侧的外延层进行第一离子注入，以形成第一源区以及第一漏区；之后，在第二栅极结构以及外延层的第二区域的远离衬底的部分表面上形成应力层；之后，对第一栅极结构两侧的外延层进行第一离子注入，以形成第二源区以及第二漏区，得到预备结构；最后，对预备结构进行退火处理，得到目标结构，并去除应力层。保证了半导体器件的制作工艺较为简单以及成本较低，且保证了半导体器件的性能较好。
半导体器件制作方法以及

[发明专利]一种金属互连结构及其制造方法-CN202310070363.1有效
发明人： 吕正良;黄震麟;游咏晞;郑志成 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路制造技术领域，并公开了一种金属互连结构及其制造方法，金属互连结构的制造方法包括：提供一半导体器件，并于半导体器件上形成第一导电结构；设置介质层于第一导电结构上；蚀刻介质层，形成导电沟槽，且导电沟槽连接于第一导电结构；形成阻挡层于导电沟槽内；形成晶种层于阻挡层上，其中晶种层位于导电沟槽内，且晶种层包括晶种层底壁和晶种层侧壁；减薄晶种层底壁的厚度，使晶种层底壁的厚度小于晶种层侧壁的厚度；以及在导电沟槽内填充金属导体，形成导电结构。本发明提供了一种金属互连结构及其制造方法，提升了半导体器件的响应效率。
一种金属互连结构及其制造方法

[发明专利]一种半导体器件及其制作方法-CN202211417202.7有效
发明人：李毅;吕正良;宋聪强;许玉媛 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L23/538 文献下载
摘要：本发明提出了一种半导体器件及其制作方法，属于半导体制造技术领域，所述半导体器件至少包括：衬底；栅极，设置在所述衬底上；源掺杂区，设置在所述栅极一侧的所述衬底内；漏掺杂区，设置在所述栅极另一侧的所述衬底内；绝缘介质层，覆盖在所述栅极和所述衬底上；多个通孔，位于所述绝缘介质层内，且所述通孔延伸至所述栅极、所述源掺杂区和所述漏掺杂区；以及导电插塞，填充所述通孔，且所述导电插塞包括扩散阻挡层和金属线层，所述扩散阻挡层为叠层结构。本发明提供的一种半导体器件及其制作方法，能有效改善半导体器件的性能。
一种半导体器件及其制作方法

[发明专利]半导体结构的失效分析方法-CN202211594013.7在审
发明人：龚超;吕正良 -专利权人：合肥新晶集成电路有限公司
申请日： 2022-12-13 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：本申请涉及一种半导体结构的失效分析方法。半导体结构的失效分析方法包括：提供半导体结构，半导体结构内具有多个位于同一层的第一互连叠层；各第一互连叠层均包括第一金属层、位于第一金属层底部的第一导电阻挡层以及位于第一金属层顶部的第二导电阻挡层；第二导电阻挡层上以及相邻第一互连叠层之间均具有介质层；去除位于第二导电阻挡层上的介质层以及位于相邻第一互连叠层之间的部分介质层，以暴露出各第一互连叠层中的第一金属层；去除第一金属层及第二导电阻挡层；刻蚀相邻第一互连叠层之间的介质层；判断相邻第一互连叠层之间是否存在第一导电阻挡层，若是，则判定半导体结构失效。采用本方法能够提高失效分析的准确度。
半导体结构失效分析方法

[发明专利]一种对高空起重机械巡检作业的监控系统及其方法-CN202210972259.7在审
发明人： 吕正良;厉勋;姚贤良;王思源;俞恺;洪涛 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司;中国计量大学
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： H04N7/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种对高空起重机械巡检作业的监控系统及其方法，该系统包括RFID电子标签、无人机、遥控器、移动客户端、后台系统客户端和后台云系统，后台系统客户端新建巡检监控任务，并传送到移动客户端上，高空巡检人员在移动客户端上选中任务并执行，设于巡检人员安全帽内的RFID电子标签辅助无人机进行定位，同时无人机拍摄相关视频和图像，检测巡检人员姿态，进行分析预警，视频和图像传输到后台系统客户端，进行查看。本发明为整个维保作业的监控提供了原始的作业的素材，增进了双方的可信度；通过将监控作业的全过程整合成完整的可追溯系统，方便任务相关信息快速保存及查找；无需作业人员直接参与监控作业的操作，保证了高空作业人员的安全性。
一种高空起重机械巡检作业监控系统及其方法

[发明专利]一种集成电路结构及其形成方法-CN202210566009.3有效
发明人： 吕正良;黄震麟;郑志成 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： H01L23/528 文献下载
摘要：本发明提供了一种集成电路结构及其形成方法，集成电路结构包括衬底；层间介质层，形成于所述衬底上，所述层间介质层中形成有开口；扩散阻挡层，所述扩散阻挡层覆盖所述开口的侧壁和底壁；导电结构，填充于所述开口中，且所述导电结构的顶面高度低于所述扩散阻挡层的侧壁的顶面高度；刻蚀停止层，覆盖所述层间介质层的顶面、所述导电结构的顶面、所述扩散阻挡层的顶面和所述扩散阻挡层的部分侧壁。通过利用化学机械研磨的工艺在研磨到扩散阻挡层时，增加过研磨工艺中研磨导电材料层的时间，去除所述开口内预定高度的导电材料层，增加后续的蚀刻停止层与所述扩散阻挡层侧壁附着的表面积，使蚀刻停止层更牢靠，降低测试中刻蚀停止层剥离的风险。
一种集成电路结构及其形成方法

[实用新型]一种后浇带临时回顶支撑装置-CN202220108941.7有效
发明人： 吕正良;姚贤良;喻龙寅;郭向明;倪国洪;厉勋 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： E04G25/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种后浇带临时回顶支撑装置，包括可调节立柱支撑件、可调节抱箍式连接件和支撑工字钢，多根可调节立柱支撑件与支撑工字钢垂直连接，支撑工字钢固定在顶板上，可调节抱箍式连接件包括第一可调节槽钢、第二可调节槽钢和连接槽钢，第一可调节槽钢作为可调节立柱支撑件之间的水平对撑，第一可调节槽钢上垂直连接第二可调节槽钢，第二可调节槽钢与第二可调节槽钢之间通过连接槽钢实现连接，可调节立柱支撑件位于第一可调节槽钢、第二可调节槽钢和连接槽钢之间，实现可调节抱箍式连接件在可调节立柱支撑件上的卡紧和连接。本实用新型结构简单，操作方便，稳定性好，可满足不同的施工要求，适用性强。
一种后浇带临时支撑装置

[实用新型]一种地坪标高调平装置-CN202123256323.1有效
发明人： 吕正良;陈淼;吕樱樱;庄峥宇;钱旭;江龙明;张琴琴;王刚峰 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： E04F21/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种地坪标高调平装置，包括角钢和多个调节结构，其特征在于，调节结构设于角钢的下方，与角钢垂直连接，通过调节角钢下方的所有调节结构的高度以调节角钢的高度，调节结构包括上调节结构、下调节结构和支撑结构，下调节结构与支撑结构固定连接，上调节结构与上调节结构连接，下调节结构包括钢套筒和螺纹钢杆，钢套筒的下端与支撑结构固定连接，上端与螺纹钢杆螺纹连接。本实用新型采用钢套筒与螺纹钢杆螺纹连接，使得调节结构可拆卸，方便携带，且易安装。
一种地坪标高平装

[实用新型]一种低预制率施工用承插式支模架-CN202122247726.3有效
发明人： 吕正良;杨琦;刘兵;陈淼;钱旭;庄峥宇;施维;陈飞;王刚峰 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： E04G25/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及建筑施工技术领域，尤其涉及一种低预制率施工用承插式支模架。所述低预制率施工用承插式支模架第一连接杆、第二连接杆、连接组件和锁紧机构，两个结构相同第一连接杆和第二连接杆一端均固定连接有连接头，第一连接杆和第二连接杆另一端端均开设有连接槽，连接头与连接槽滑动配合，且连接头上端固定连接有圆杆，圆杆上端固定连接有梯形板，梯形板内部开设有卡槽，用于连接锁紧连接头的连接组件设置于第一连接杆和第二连接杆位于连接槽的一端，用于锁紧相邻的第一连接杆和第二连接杆的锁紧机构设置于第一连接杆和第二连接杆位于连接头的一端。本实用新型提供的低预制率施工用承插式支模架具有装卸快速便捷和连接牢固的优点。
一种预制施工用承插式支模架

[发明专利]一种耐磨混凝土地坪的施工方法-CN202111585627.4在审
发明人： 吕正良;施炯;黄宗铁;庄峥宇;吕樱樱;钱旭;诸永明;张琴琴;王刚峰 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： E04F15/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐磨混凝土地坪的施工方法，包括如下步骤：预先铺设好200‑300mm厚级配碎石垫层，并采用碾压机压实和压平整，然后铺设100m厚C15素砼垫层，并在其上铺设PE防潮薄膜；确定地面分格，以标高线为基准设置钢钎，并采用红外线水平仪反复校核，采用标高装置进行标高定位，在墙边、柱脚边及设备基础边上围上聚塑板，然后浇筑混凝土；采用激光整平机进行混凝土层的整平，然后进行耐磨材料的撒播和面层的抹光；面层抹光完成后，进行切缝操作，最后进行成品的水养护。通过本发明的施工方法得到的地坪具有很高的耐磨性能与强度，抗裂性能显著提高、表面平整光洁。
一种耐磨混凝土地坪施工方法

[发明专利]一种预制楼梯吊装连接结构及吊装方法-CN201910098906.4在审
发明人： 吕正良;刘兵;顾俊;陈飞;诸永明;谭超群;高建岭;殷直义 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： B66C13/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种预制楼梯吊装连接结构及吊装方法，所述吊装连接结构包括预制楼梯、连接件、手动葫芦及吊机，预制楼梯近两端头的至少两个台阶内预埋设置套筒，四个套筒构成吊装支点，连接件包括D型卸扣和L形角钢，L形角钢用于连接预制楼梯的套筒和D型卸扣，吊机上的钢丝绳套索穿过每个支点的D型卸扣进行吊装。本发明通过采用限定结构的连接件，其原料简单易得、结构简单、十分经济，整体受力科学，其刚性约束少，角钢、卸扣材质均匀、强度高，应力集中现象能大大减小，安全可靠、可操作性强；使吊装更稳定、安全、便捷，提高其可操作性。
吊装预制楼梯连接结构连接件套筒应力集中现象钢丝绳套索刚性约束手动葫芦限定结构整体受力吊机减小角钢卸扣预埋穿过安全

[发明专利]一种邻近地铁隧道的异形深基坑施工方法-CN201810055222.1在审
发明人：刘兵;唐志成;吕正良;蒋美锦;厉勋;吴巧妙 -专利权人：浙江省一建建设集团有限公司
申请日： 2018-01-19 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： E02D17/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种邻近地铁隧道的异形深基坑施工方法，包括如下步骤：施工准备、施工部署、支撑的安装、基坑平面开挖、基坑竖向开挖、基坑周边防护及支撑的拆除。本发明为了提高施工质量及进程，在施工过程中增加了栈桥结构和止水帷幕。本发明通过采用上述方法对邻近地铁隧道的深基坑进行施工，在整个施工过程中，实时监测地铁隧道的水平位移位移量、沉降位移量和收敛位移量，地铁隧道水平位移量＜±3mm，地铁隧道沉降位移量＜±5mm，地铁隧道收敛位移量＜±5mm，得出邻近地铁隧道位移量未超控制值率为95%，超出了预定90%的未超控制告率，大大提高了施工质量；降低了维修次数，增加了经济效益；确保了地铁隧道的安全。
地铁隧道位移量施工深基坑邻近基坑施工过程沉降异形收敛开挖水平位移量基坑周边施工准备实时监测水平位移止水帷幕竖向栈桥支撑防护拆除维修部署进程安全

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