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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法-CN202010580232.4有效
发明人：刘世杰;倪开灶;邵建达;王微微;潘靖宇;邹超逸 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法，该装置包括环形光源、样品、陷波滤波系统、显微系统、相机、XYZ位移平台、光束收集器、光纤、光谱仪和计算机。本发明利用宽光谱光源照明，计算高反膜光滑表面散射光谱特性，陷波滤波系统滤除强散射背景光，增强缺陷图像对比度，提高了测量灵敏度，解决了传统技术对介质高反膜元件表面缺陷大量漏检的问题。
介质高反膜元件表面缺陷测量装置测量方法

[发明专利]一种球面光学元件表面缺陷测量装置和测量方法-CN202010916390.2有效
发明人： 倪开灶;刘世杰;邵建达;李英甲;潘靖宇 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明提出了一种球面光学元件表面缺陷测量装置和测量方法，利用照明反射光和表面缺陷产生的散射光的偏振特性的差异，去除照明反射光对表面缺陷暗场成像的影响，在准直照明条件下，即可实现不同曲率半径光学元件表面缺陷检测，无需因球面光学元件的曲率改变而调整照明光源，也不需要复杂的光学设计来实现不同程度聚焦照明光。结合抛光液等污染性缺陷的光致发光效应，实现对球面光学元件表面残留的抛光液等缺陷的原位同步检测。提出了一种结合位置探测器的原位反射式球面定心光路结构，球面光学元件无需在定心系统和测量系统之间移动，避免了运动定位误差，结构简单方便。
一种球面光学元件表面缺陷测量装置测量方法

[发明专利]掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法-CN202210377804.8在审
发明人： 倪开灶;邵建达;刘世杰;徐学科;顿爱欢;曹俊;方媛媛 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法，该装置采用双方位角斜入射和垂直入射照明，本发明通过反射物镜高效收集不同散射角下的表面缺陷散射信号，提高缺陷探测灵敏度。本发明通过分别采集斜入射照明下的缺陷散射图像和垂直照明下的缺陷散射图像，比较表面缺陷在不同照明方式下的散射信号差异可以判别缺陷的类型，提高检测准确性。
掩模基板表面缺陷检测装置方法

[发明专利]基于微偏振片阵列的偏振成像皮肤病变检测方法和检测装置-CN202010017917.8有效
发明人：刘世杰;倪开灶;邵建达;周游;王微微;徐天柱;潘靖宇;李灵巧 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-01-08 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： A61B5/00 文献下载
摘要：一种基于微偏振片阵列的散射成像皮肤病变检测装置，包括光源、会聚透镜、宽带可调谐滤波器、起偏器、准直器、玻璃片、耦合剂、样品、位移平台、第一成像镜头、微偏振片阵列、第一相机、第二成像镜头、衰减片、第二相机和计算机。本发明结构简单，无需机械旋转机构。通过单次成像和计算即可得到高对比度的偏振度图像。实现了实时动态检测，避免了在检测过程中，活体的移动导致的测量误差。照明波段可以快速连续切换，实现了多波段近实时测量，以凸显不同组织特征。
基于偏振阵列成像皮肤病变检测方法装置

[发明专利]光学元件表层缺陷快速探测和识别的检测装置和检测方法-CN201910840235.4有效
发明人：邵建达;倪开灶;刘世杰;周游;王圣浩;徐天柱;潘靖宇;白云波 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G01N21/63 文献下载
摘要：一种光学元件表层缺陷快速探测和识别装置和检测方法，该装置主要包括激光器、光束整形器、扩束器、反射镜、会聚透镜、样品、XY精密位移平台、变倍镜头、电动光路切换器、第一成像透镜、长波通滤光器、第一面阵光电探测器、准直器、可调谐滤波器、第二成像透镜、第二面阵光电探测器和计算机。本发明利用缺陷光致发光特性，对缺陷成像，实现快速探测；结合高光谱成像技术，根据缺陷的发光光谱峰值特征，对各类缺陷进行识别，并确定缺陷是何种缺陷。本发明设计的测量装置集快速探测和识别于一体，非常适用于大口径光学元件表层缺陷探测。
光学元件表层缺陷快速探测识别检测装置方法

[发明专利]材料宽谱吸收特性测量装置和测量方法-CN202210038701.9在审
发明人：邵建达;倪开灶;刘世杰;李岚清;杨为香 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：一种材料宽谱吸收特性测量装置和测量方法，该装置包括宽谱泵浦光路和探测光路。本发明采用常用的高功率宽谱照明光源实现材料在宽波段范围内的吸收光谱直接测量，显著降低成本。解决了泵浦光束聚焦后光斑中心空洞的问题。基于声光调制，并通过光束调控获得强单色泵浦光，提高了光源使用效率，增强了探测信号强度，提升了系统的吸收测量灵敏度和信噪比。
材料吸收特性测量装置测量方法

[发明专利]球面元件表面缺陷散射探测装置和测量方法-CN202111019953.9在审
发明人：刘世杰;倪开灶;邵建达;李岚清;杨为香 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种球面元件表面缺陷散射探测装置和测量方法，利用球面元件的轴对称性，通过球面元件快速旋转和散射暗场探测实现全口径快速高灵敏度测量。通过在不同方位角设置光电探测器采集表面缺陷的散射光，提升了对不同方向的线状表面缺陷探测能力。本发明实现了原位球面元件定中调节和表面缺陷测量，避免了分离调节测量引起的定位误差，同时避免了已有的暗场成像测量系统结构和光源调节的复杂性。
球面元件表面缺陷散射探测装置测量方法

[发明专利]显微散射偏振成像表面缺陷测量装置和测量方法-CN201910609670.6有效
发明人：邵建达;刘世杰;倪开灶;王圣浩;周游;王微微;徐天柱;鲁棋 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种显微散射偏振成像表面缺陷测量装置和测量方法，该装置主要包括激光器、第一会聚透镜、旋转扩散器、第二会聚透镜、光阑、第三会聚透镜、针孔、第四会聚透镜、偏振片、半波片、偏振分束器、X‑Y位移平台、样品、显微镜头、四分之一波片、微偏振片阵列、相机和计算机。本发明采用微偏振片阵列实现表面缺陷实时显微散射偏振成像，通过计算偏振度图像，提升了超光滑元件表面缺陷探测的灵敏度，实现高反膜元件表面缺陷有效检测，能够满足米级大口径超光滑元件表面缺陷快速检测需求。
显微散射偏振成像表面缺陷测量装置测量方法

[发明专利]一种动态双波长移相干涉测量装置和测量方法-CN202010609106.7有效
发明人：刘世杰;鲁棋;周游;白云波;徐天柱;倪开灶;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种动态双波长移相干涉测量装置，该装置中的包括：第一激光器、第二激光器、可调中性滤光片、光开关、反射镜、合束镜、扩束镜、二分之一波片、第一偏振分光棱镜、第一四分之一波片、参考镜、第二四分之一波片、近零位补偿镜、被测面、第三四分之一波片、成像镜、分束镜、第二偏振分光棱镜、第一探测器、第二探测器、第三偏振分光棱镜、第三探测器、第四探测器和计算机；以及测量方法。本发明装置隔振要求低，能实现对最大面形误差斜率小于3.5μm/pixel的非球面/自由曲面元件的面形进行全口径动态干涉测量。
一种动态波长相干测量装置测量方法

[发明专利]大口径元件体内缺陷快速检测装置和方法-CN201810605232.8有效
发明人：邵建达;刘世杰;倪开灶;黄保铭;潘靖宇;徐天柱;李灵巧 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种大口径元件体内缺陷快速检测装置和方法，该装置主要包括激光器、半波片、偏振片、光束整形器、第一成像镜头、第一CCD相机、第二成像镜头、第二CCD相机、显微镜照明光源、光纤、YZ二维移动平台、XYZ三维移动平台、扫描同步控制系统和计算机。本发明利用YZ二维移动平台和XYZ三维移动平台分别控制光源和高、低倍成像系统运动，避免了大口径元件快速运动导致的危险性和测量结果不稳定性。本发明采用低倍全口径激光散射快速扫描成像和高倍定点明场成像相结合的方式，不仅实现体缺陷快速定位，而且能准确测量其尺寸，为元件质量评价、分级提供可靠依据。
口径元件体内缺陷快速检测装置方法

[发明专利]大口径光学元件表面缺陷三维形貌测量装置和方法-CN201811123643.X有效
发明人：邵建达;刘世杰;倪开灶;黄保铭;潘靖宇;周游;王微微;鲁棋 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种大口径光学元件表面缺陷三维形貌测量装置和方法。该装置主要包括瞬态干涉测量系统、俯仰偏摆姿态调节机构、激光位移传感器、XYZ精密位移平台、大口径平面光学元件、样品夹持装置、样品调平机构、计算机和隔振平台。本发明对大口径光学元件表面缺陷三维形貌能实现全口径快速扫描测量，深度测量分辨率达到亚纳米量级；能够准确识别区分表面缺陷的类型，提升了测量结果的可靠性。
口径光学元件表面缺陷三维形貌测量装置方法

[发明专利]光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法-CN202011014593.9在审
发明人：刘世杰;倪开灶;邹超逸;邵建达;王微微;李英甲 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提出了一种光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法，包括泵浦激发系统、散射照明系统、吸收探测系统、光致发光探测系统、发光光谱探测系统和散射探测系统。本发明基于光学元件加工过程中产生的各类缺陷的吸收、光致发光和散射效应实现了不同类型缺陷原位测量，解决了单一测量技术漏检，不同测量装置之间错位测量、表征不准确的问题，根据缺陷的发光光谱可以判定缺陷物质类型，能够更准确评价同一位置的缺陷性质，为客观完整地评价光学元件加工质量提供有力支撑。
光学元件多模态原位缺陷测量装置测量方法

[发明专利]多波长激光干涉仪-CN201810749061.6有效
发明人：刘世杰;鲁棋;周游;王圣浩;倪开灶;潘靖宇;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2018-07-10 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种多波长激光干涉仪，该装置包括：激光器、孔径光阑、扩束次镜、针孔光阑、分光棱镜、准直主镜、透射标准镜、压电陶瓷换能器、待测平面元件、反射标准镜、成像透镜、高光谱相机和计算机。本发明装置中的准直主镜为三透镜，成像透镜与扩束次镜参数完全相同且为单透镜；为了减小本发明装置中透镜的加工难度和降低整套系统光路装调的难度，本发明装置中的扩束次镜和准直主镜各有1个面可为平面。本发明能在600nm～1600nm波长范围内，能对待测的平面光学元件的透射波前或反射波前进行测量。
波长激光干涉仪

[发明专利]二氧化硅微球三维全形貌检测装置及其检测方法-CN202010435506.0在审
发明人：刘世杰;潘靖宇;王圣浩;倪开灶;徐天柱 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-05-21 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： G01N23/046 文献下载
摘要：一种二氧化硅微球三维全形貌检测装置，包括X射线管、光栅G0、旋转台、光阑、波带片、光栅G1、光栅G2、闪烁体、显微物镜和接收器，适用于几到几十微米二氧化硅微球的三维全形貌检测，为提高检测的灵敏度，采用三个光栅，实现X射线相衬成像，为提高检测的分辨率，采用波带片与光阑相配合，实现X射线的显微成像旋转微球360°，对微球的所有投影面进行成像，获取微球投影面的相衬图像，再通过相衬图像计算出微球的断层图像，使用断层拼接软件，重构出微球的三维数字模型。该平台可对二氧化硅微球的三维全形貌，包括内部的结构进行检测，并且分辨率高成像对比度好，适用于微米量级的微球。
二氧化硅三维形貌检测装置及其方法

[发明专利]吸收性缺陷单光束光热测量装置和测量方法-CN202010391287.0在审
发明人：刘世杰;倪开灶;邵建达;王微微;徐天柱;李英甲;鲁棋 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种吸收性缺陷单光束光热测量装置和测量方法，该装置包括共光路型和非共光路型结构。本发明光路结构简单，便于安装调试。测量结果稳定，避免环境振动、样品倾斜导致的测量信号异常。通过探测光斑边缘的光束的功率变化，系统的测量灵敏度得到显著提升。
吸收性缺陷光束光热测量装置测量方法

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