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[发明专利]等离子体处理装置的保养方法-CN201780024736.4有效
发明人：松本和也;保坂勇贵;大秦充敬;山本高志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-04-10 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。
等离子体处理装置保养方法

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN202210222843.0在审
发明人：郑和俊;大秦充敬;保坂勇贵;郑完崧 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明的等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；配置在等离子体处理腔室内的基片支承部；环状挡板，其以包围基片支承部的方式配置，且具有多个开口；第一环状板，其配置在环状挡板的下方；第二环状板，其配置在第一环状板的下方，具有环状重叠部分，环状重叠部分与第一环状板的一部分在纵向上重叠；压力检测器，其构成为能够检测等离子体处理腔室内的压力；和至少1个致动器，其构成为能够基于检测出的压力来使第一环状板和第二环状板中的至少一者在纵向上移动，以变更第一环状板与第二环状板之间的距离。根据本发明，能够在短时间内控制处理腔室的内部压力。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体处理装置-CN201680073889.3有效
发明人： 保坂勇贵;梅泽义弘;中岛俊希;宇田真代 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子体处理装置(10)包括：隔挡件(61)、遮闭件(62)和驱动装置(70)。隔挡件(61)为圆筒形，在侧壁形成有多个贯通孔(61h)。遮闭件(62)为圆筒形，在隔挡件(61)的轴向上沿隔挡件(61)的侧壁可移动地设置于隔挡件(61)的周围。驱动装置(70)使遮闭件(62)沿隔挡件(61)的侧壁移动。多个贯通孔(61h)以遮闭件(62)越向下方移动，与遮闭件(62)的移动量对应的、没有被遮闭件(62)覆盖的的合成传导率的变化量越增加的方式配置于隔挡件(61)的侧壁。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置和天线组件-CN202111143115.2在审
发明人：山泽阳平;齐藤武尚;藤原直树;藤原香;仓科大辅;保坂勇贵 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体处理装置和天线组件。使进行等离子体处理时的电场强度降低，并且使对基板而言的等离子体分布的均匀性提高。等离子体处理装置具有：主线圈，其设于等离子体处理腔室的上部或上方；和副线圈组件，其设于主线圈的径向内侧或径向外侧。副线圈组件包含第1螺旋状线圈和第2螺旋状线圈。第1螺旋状线圈的各匝部和第2螺旋状线圈的各匝部在铅垂方向上交替地配置。第1螺旋状线圈的第1上侧端子借助一个以上的电容器连接于接地电位，第1螺旋状线圈的第1下侧端子连接于接地电位。第2螺旋状线圈的第2上侧端子借助一个以上的电容器或一个以上的其他的电容器连接于接地电位，第2螺旋状线圈的第2下侧端子连接于接地电位。
等离子体处理装置天线组件

[发明专利]等离子体处理装置-CN202110585481.7在审
发明人：郑和俊;铃木雅弘;保坂勇贵;大秦充敬 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，能够在控制基板边缘处的倾斜的同时抑制基板的中央和中间区域的工艺变化。等离子体处理装置具有：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于等离子体处理容器内，包括静电吸盘；第一环，其以包围静电吸盘上的基板的方式配置于静电吸盘上，包括内侧环状部分、中间环状部分以及外侧环状部分，内侧环状部分的上表面比中间环状部分的上表面高，外侧环状部分的上表面比内侧环状部分的上表面高；第二环，其配置于第一环的中间环状部分的上表面；以及致动器，其构成为使第二环沿纵向移动以将第二环的上表面维持为第一高度，第一高度比第一环的内侧环状部分的上表面的高度大且比第一环的外侧环状部分的上表面的高度小。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201580025777.6有效
发明人： 保坂勇贵;梅泽義弘;中岛俊希 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-05 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201780024567.4在审
发明人：松本和也;保坂勇贵;大秦充敬;山本高志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-04-10 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子体处理装置具备：腔室主体，其提供腔室；支承构造体，其在腔室主体内支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体在腔室主体内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括保持被加工物的静电卡盘，设置成能够绕与第1轴线正交的第2轴线旋转；容器，其设置到保持部的下侧；以及第2驱动装置，其构成为，使保持部绕第2轴线旋转。容器具有筒状的容器主体和使容器主体的下侧开口封闭的底盖。底盖能够从容器主体拆卸。
腔室主体支承构造轴线旋转等离子体处理装置被加工物驱动装置容器主体底盖从容器主体方向延伸静电卡盘铅垂方向下侧开口轴线正交内支承正交的腔室筒状拆卸封闭

[发明专利]等离子体处理装置-CN201210039725.2有效
发明人： 保坂勇贵;古谷直一;大秦充敬 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-02-21 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置与以往相比能够更细致地控制等离子体。该等离子体处理装置包括：第一接地构件，其由导电性材料形成，整体形状形成为环状，以至少一部分暴露于处理空间的方式配置在处理腔室内，用于形成接地电位；第二接地构件，其与第一接地构件相对地设置在形成于处理腔室下部的排气空间内，由导电性材料形成，整体形状形成为环状，至少一部分暴露于排气空间，用于形成接地电位；接地棒，其在第一接地构件与第二接地构件之间上下运动，与第一接地构件及第二接地构件中的任一个接触，能够调整第一接地构件及第二接地构件的接地状态。
等离子体处理装置

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