专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法以及基板清洗装置的控制方法-CN201810298844.7有效
  • 蓑岛大介;今井正芳 - 株式会社荏原制作所
  • 2018-04-04 - 2023-10-27 - H01L21/67
  • 提供一种具有较高的清洗性能的基板清洗装置、基板清洗方法以及这样的基板清洗装置的控制方法。提供一种基板清洗装置,具备:基板保持旋转部,该基板保持旋转部保持基板并使该基板旋转;长条状的清洗部件,该长条状的清洗部件与旋转的所述基板接触而清洗所述基板;以及第一喷嘴和第二喷嘴,该第一喷嘴和该第二喷嘴相对于所述清洗部件的长度方向配置于同一侧,与所述第二喷嘴相比,所述第一喷嘴更有力地向第一区域供给液体,该第一区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第一喷嘴侧,所述第二喷嘴向第二区域供给液体,该第二区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第二喷嘴侧,且比包括至少基板的周缘部外侧的区域的所述第一区域宽。
  • 清洗装置方法以及控制
  • [发明专利]清洗部件的清洗装置、基板清洗装置及清洗部件组件-CN202110333492.6在审
  • 梶川敬之;饭泉健;今井正芳 - 株式会社荏原制作所
  • 2021-03-29 - 2021-10-01 - H01L21/67
  • 作为本发明的一方式,清洗部件的清洗装置具有:保持虚设基板(Wd)的基板支承部(200);保持具有清洗部件(90)的清洗部件组件(1)的保持部(100);使所述清洗部件旋转的部件旋转部(80);向所述清洗部件内供给清洗液的内清洗液供给部(110);从所述清洗部件外供给清洗液的外清洗液供给部(120);进行控制,以进行一边以第一压力将所述清洗部件按压于所述虚设基板一边从所述外清洗液供给部向虚设基板供给清洗液的第一处理和一边使所述清洗部件从所述虚设基板离开或以第一压力以下的第二压力将所述清洗部件按压于所述基板一边从内清洗液供给部供给清洗液的第二处理的控制部(350)。
  • 清洗部件装置组件
  • [发明专利]基板清洗方法-CN201810810886.4有效
  • 前田幸次;下元博;中野央二郎;今井正芳;盐川阳一 - 株式会社荏原制作所
  • 2013-09-30 - 2020-07-03 - B24B37/04
  • 一种基板清洗装置,具有:保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(1);将药液供给到基板(W)上的药液喷嘴(11);将双流体喷流供给到基板(W)上的双流体喷嘴(12);以及使药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)一体地从基板(W)的中心部向周缘部移动的移动机构(15,21,22),药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)隔开规定距离而相邻,关于药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)的移动方向,药液喷嘴(11)位于双流体喷嘴(12)的前方。采用本发明,可高效地清洗晶片等基板。
  • 清洗方法
  • [发明专利]基板清洗装置-CN201310185238.1无效
  • 今井正芳 - 株式会社荏原制作所
  • 2013-05-17 - 2013-12-04 - H01L21/67
  • 一种基板清洗装置,具有:处理室(40),在内部具有将基板表面向上地水平保持、向一个方向输送的基板输送部(30);清洗部(50、52),向在处理室(40)内移动的基板的表面供给清洗液、非接触地清洗该表面;以及非活性气体吹送部(64、66),分别向由清洗部(50、52)清洗的基板的表面以及背面吹送非活性气体、一边用非活性气体干燥基板一边使处理室(40)内成为非活性气体环境。即使是表面是疏水性的大口径基板,也能够更均匀高效地清洗基板的全部表面,而且能够通过比较简易的结构尽可能防止因作为配线金属而采用的铜和纯水等接触所造成的腐蚀。
  • 清洗装置

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