专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN200710153565.3有效
  • 井守义久 - 株式会社东芝
  • 2007-09-21 - 2008-03-26 - H01L23/10
  • 本发明的半导体装置,具备半导体元件,该半导体元件具备具有元件区域的半导体基板和在半导体基板上形成的包括低介电常数绝缘膜的叠层膜,以及被设置为至少切断低介电常数绝缘膜的激光加工槽。半导体元件对于布线基板通过突块电极进行连接。在半导体元件与布线基板之间,填充底填材料。底填材料的倒角长度Y(mm),对于激光加工槽的宽度X(μm),满足Y>-0.233X+3.5(其中,X>0、Y>0)的条件。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体器件的制造方法-CN200510051377.0有效
  • 井守义久;堀将彦 - 株式会社东芝
  • 2005-03-08 - 2005-09-14 - H01L21/301
  • 在晶片中形成半导体元件,在该晶片的上层形成包含相对介电系数低的绝缘膜的多层膜。然后,在上述多层膜的切片线上边形成作为位置对准标记和测试焊盘中的至少一方发挥作用的金属层。其次,向把切片线上边的上述位置对准标记和测试焊盘覆盖起来的区域上照射激光。然后,通过对切片线的位置对准标记和测试焊盘中的至少一方上进行比激光的照射区域更窄的机械性的切片,使半导体晶片个片化,形成半导体芯片。
  • 半导体器件制造方法

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