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[实用新型]一种石英管清洗台-CN202022598043.8有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B08B9/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种石英管清洗台，包括一清洗台主体；一清洗组件，包括一设置在清洗台主体内腔中的清洗池，在清洗池内部的底端安装有一对并列分布的支撑辊，在支撑辊的圆周外壁上分布有数个沿着支撑辊的长轴方向并列分布的支撑滚轮，支撑辊由一旋转机构驱动进行转动，在清洗池内部的上端还安装有一清洗管，在清洗管的下部位置安装有数个清洗喷嘴；一烘干组件，包括一设置于清洗池旁侧的烘干池，在烘干池内安装有一烘干台，所述烘干池内位于烘干台的旁侧还安装有一加热管。本实用新型的优点在于：通过清洗台主体、清洗组件、烘干组件之间相互配合，从而实现了石英管清洗过程中的自动翻转，无需人工转动，非常的方便。
一种石英管清洗

[实用新型]一种氢氟酸换热器-CN202022816401.8有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司
申请日： 2020-11-30 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： F28D7/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种氢氟酸换热器，包括一换热基座，所述换热基座包括换热筒体、换热盖板；一换热组件，包括一换热支架以及缠绕在换热支架上的换热软管，所述换热支架为一长方体框架式结构，在换热支架的每个侧面上均具有一对并列分布的安装柱，在安装柱的外壁自上而下依次具有数个弧形安装槽，所述换热软管置于换热空腔中的一段呈螺旋状依次嵌入在各个安装柱上的各个安装槽内。本实用新型的优点在于：对于换热软管采用螺旋状的分布形成，则是为了能够尽可能多的与物料之间的接触，提高换热效果，而换热软管的安装通过嵌入安装柱上的弧形安装槽内来实现，这样的设计对于换热软管与安装柱之间并无直接固定件，方便换热软管的安装与拆卸。
一种氢氟酸换热器

[实用新型]一种化学药剂加热装置-CN202022624915.3有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司
申请日： 2020-11-13 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： F24H1/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种化学药剂加热装置，包括一加热基座，所述加热基座包括一加热外壳；一置于加热外壳内的加热组件，包括一内置于加热外壳内腔中的加热筒体，在加热筒体内具有一容化学药剂流通的加热空腔，在加热筒体内安装有数个石英加热管，石英加热管为一侧开口、另一侧封口的空心管状结构，在石英加热管内安装有线圈加热陶瓷管；一设置于加热外壳与加热筒体之间的隔热组件。本实用新型的优点在于：利用石英加热管的配合，有效的将线圈加热陶瓷管与化学药剂隔离开，避免化学药剂与线圈加热陶瓷管直接接触而造成腐蚀，提高线圈加热陶瓷管的使用寿命，而且采用这种加热方式直接对化学药剂进行加热，无需热交换，减少了热量的损失，加热效率高。
一种化学药剂加热装置

[实用新型]一种晶圆KOH单面蚀刻治具-CN202022762945.0有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆KOH单面蚀刻治具，包括一上盖，所述上盖包括一上盖主体；一与上盖相配合的底座，包括一底座主体；所述上盖主体与底座主体对接后，上盖主体与底座主体之间共同形成一蚀刻空腔，在上盖主体与底座主体对接处还连接有一压力平衡组件，所述压力平衡组件包括一对平衡管，平衡管的一侧与蚀刻空腔相连通，另一侧连接有一固定座，在固定座上还具有容平衡管安装的通孔。本实用新型的优点在于：通过增设一压力平衡组件，利用两根平衡管的配合，将蚀刻空腔中产生的气体及时排至外界空气中，保证蚀刻治具内外的压力平衡，相对应的也就解决了因这部分气体的存在而导致的晶圆表面的平整度等质量问题以及安全隐患。
一种 koh 单面蚀刻

[实用新型]一种基于硫酸与双氧水混合去除光阻胶的装置-CN202022594695.4有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基于硫酸与双氧水混合去除光阻胶的装置，包括一混合组件，所述混合组件包括一混料桶，在混料桶的顶端分别具有一硫酸加料口、一双氧水加料口，其中，硫酸加料口通过硫酸输送管道接入硫酸供料箱，双氧水加料口通过双氧水输送管道接入双氧水供料箱；一测压组件，所述测压组件包括一安装在混料桶旁侧的测压箱，在测压箱上安装有一对测压气管，分别为第一测压气管、第二测压气管。本实用新型的优点在于：采用硫酸与双氧水的混合来共同进行光阻剥离，有效的避免了因有机物剥离而带来的金属掏空现象；而测压组件的设计，采用测压箱与测压气管的配合来对混料桶内的溶液的液位进行测量，测量更加的精准。
一种基于硫酸双氧水混合去除光阻胶装置

[实用新型]一种气体加热器-CN201821356370.9有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： F24H3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种气体加热器，包括加热器本体、隔板组件和加热芯，以及由内至外依次设置于加热器本体外的隔热棉层和聚丙烯外罩；隔板组件包括支撑连接板以及若干个设置于两支撑连接板之间且沿加热器本体长度方向延伸的隔板，且相邻两隔板之间形成一个独立的腔体；述支撑连接板及隔板上设有连通腔体之间的过气孔，且每个腔体内均设有所述加热芯；支撑连接板的外周设有凹槽，靠近气体进口和气体出口的加热器本体的内壁上设有与凹槽配合连接的凸起，通过凹槽与凸起的配合连接，使支撑连接板与加热器本体形成一体。本实用新型的优点在于：本实用新型结构保温效果好、加热效果稳定，同时，便于隔板维护或更换，且方便加热器本体腔室清洗。
加热器本体支撑连接板隔板本实用新型气体加热器隔板组件加热芯凸起长度方向延伸方便加热器聚丙烯外罩凹槽配合隔热棉层加热效果结构保温连通腔体配合连接气体出口气体进口依次设置过气孔内壁腔室腔体外周清洗体内维护

[实用新型]一种用于晶圆片生产的后处理系统-CN201821370239.8有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于晶圆片生产的后处理系统，包括依次设置的装片机构、一次清洗机构、二次清洗机构和甩干离心机构，所述装片机构和甩干离心机构包括内端面开口的长方体移动支撑框架，且所述装片机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有进料口，所述甩干离心机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有出料口；所述一次清洗机构和二次清洗机构包括两端面开口的长方体移动支撑框架，且所述相邻机构之间通过快速连接结构连接。本实用新型的优点在于：本实用新型采用分体式结构，组装方便，方便更换工序，且机械手的两机械臂共用一气缸，节省能源和减少占用空间，同时该后处理系统能够提高晶圆片表面处理效果，并且能够避免酸腐蚀其它设备。
移动支撑框架本实用新型后处理系统离心机构装片机构甩干外端面中心二次清洗一次清洗晶圆片开口快速连接结构分体式结构晶圆片表面方便更换相邻机构依次设置占用空间组装方便机械手出料口机械臂进料口两端面内端面酸腐蚀生产能源

[实用新型]一种晶圆片表面处理系统-CN201821370850.0有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆片表面处理系统，包括依次设置的装片机构、一次酸洗机构、二次酸洗机构和甩干离心机构，所述装片机构和甩干离心机构包括内端面开口的长方体移动支撑框架，且所述装片机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有进料口，所述甩干离心机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有出料口；所述一次酸洗机构和二次酸洗机构包括两端面开口的长方体移动支撑框架，且所述相邻机构之间通过快速连接结构连接。本实用新型的优点在于：本实用各机构之间通过快速连接结构进行活动连接，方便各机构之间的连接或拆卸，即整个晶圆片表面处理系统采用分体式结构，组装方便，同时，可根据工艺流程改进或优化，方便更换工序。
移动支撑框架离心机构装片机构甩干快速连接结构一次酸洗机构本实用新型外端面中心处理系统二次酸洗圆片表面种晶开口表面处理系统分体式结构方便更换活动连接相邻机构依次设置整个晶圆组装方便工艺流程出料口进料口两端面内端面拆卸优化改进

[实用新型]一种混酸装置-CN201821218174.5有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-07-31 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： B01F3/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种混酸装置，包括一混酸室及与混酸室连通的溢流室，所述溢流室设置在混酸室上端侧部，且混酸室与溢流室之间设有与溢流室底端固定且与溢流室底端垂直的由混酸室向溢流室倾斜向下设置的溢流板，所述由混酸室向溢流室倾斜向下设置的溢流板与混酸室及溢流室的顶端之间形成溢流口；所述混酸室的下端设有与混酸室连通的排酸口，且排酸口上设有与排酸口配合的帽盖A；所述溢流室的下端设有与溢流室连通的检测口，且检测口上设有检测口配合的帽盖B；所述混酸室的顶端设有与混酸室连通的进料口，且所述混酸室内设有至少两个顶端位于混酸室外端的导向柱，所述导向柱可沿混酸室进行上下移动。本实用新型的优点在于：本实用新型装置能够节省时间、劳动强度小且适用于同批次混酸量取。
混酸室溢流室连通本实用新型检测口排酸口混酸混酸装置倾斜向下导向柱溢流板底端帽盖下端上下移动上端垂直的进料口溢流口量取配合室外室内

[实用新型]一种硅片清洗装置-CN201821218175.X有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-07-31 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种硅片清洗装置，包括一清洗池，所述清洗池内铺设有两个平行设置且沿清洗池长度方向延伸的喷洗管，所述喷洗管沿其中心线的两侧边开有若干个等间距分布的喷洗孔；所述喷洗管上设置有支撑基座，所述支撑基座上设有一沿清洗池长度方向延伸的弧形凹槽，且弧形凹槽的侧边与喷洗管的外侧边平齐设置；所述弧形凹槽的两端的外端部通过支撑架与支撑基座固定连接，且所述弧形凹槽内设有若干个等间距分布的隔板，使相邻隔板与弧形凹槽之间形成可容硅片放置的空腔。本实用新型的优点在于：本实用新型硅片清洗装置能够大大提高硅片清洗效果。
弧形凹槽喷洗管清洗池硅片清洗装置本实用新型支撑基座长度方向延伸等间距分布隔板硅片放置硅片清洗平齐设置平行设置相邻隔板喷洗孔外侧边外端部支撑架侧边空腔铺设

[实用新型]一种硅晶片烘干设备-CN201821218214.6有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-07-31 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种硅晶片烘干设备，包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，且旋转支撑座通过电机驱动旋转。本实用新型的优点在于：本实用通过卤素灯电加热，进行热辐射，并结合低流量的氮气，氮气均化热辐射，使烘干箱内的硅晶片的受热均匀，并提高了烘干效率；此外，使放置在烘干箱内的硅晶片能够旋转，提高各部分与热源的接触面积，大大保证烘干的均一性。
烘干箱体硅晶片旋转支撑座顶盖卤素灯烘干氮气本实用新型烘干设备氮气源热辐射上端气缸连通对称氮气源装置电机驱动烘干效率受热均匀低流量电加热放置架均一性热源侧端底端铰接均化进口配合保证

[实用新型]一种晶片旋转装置-CN201821218227.3有效
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-07-31 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶片旋转装置，包括一Z字型支撑架，所述Z字型支撑架的上水平支撑架上设有电机，所述Z字型支撑架的竖直支撑架上自上而下依次固定有与竖直支撑架平行的第一旋转轴和连接架，电机依次带动第一旋转轴和连接架；所述连接架的下端设有锥齿轮传动组，所述锥齿轮传动组包括相互垂直的第一锥齿轮和第二锥齿轮，所述Z字型支撑架的下水平支撑架上方设有与下水平支撑架平行的第二旋转轴，所述第二锥齿轮的齿轮轴的一端与第二旋转轴固定连接；所述Z字型支撑架的下水平支撑架上固定连接有横跨第二旋转轴的晶片放置架。本实用新型的优点在于：本实用新型晶片旋转装置能够使硅晶片在浸泡液中旋转，使清洗更均匀，清洗效果更佳。
旋转轴水平支撑架本实用新型连接架锥齿轮锥齿轮传动组竖直支撑架旋转装置种晶平行电机晶片旋转装置晶片放置清洗效果齿轮轴垂直的硅晶片浸泡液下端横跨清洗

[发明专利]一种用于晶圆片生产的后处理系统-CN201810970959.6在审
发明人：山世清;黎弈夆 -专利权人：江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于晶圆片生产的后处理系统，包括依次设置的装片机构、一次清洗机构、二次清洗机构和甩干离心机构，所述装片机构和甩干离心机构包括内端面开口的长方体移动支撑框架，且所述装片机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有进料口，所述甩干离心机构的长方体移动支撑框架的外端面中心设置有出料口；所述一次清洗机构和二次清洗机构包括两端面开口的长方体移动支撑框架，且所述相邻机构之间通过快速连接结构连接。本发明的优点在于：本发明采用分体式结构，组装方便，方便更换工序，且机械手的两机械臂共用一气缸，节省能源和减少占用空间，同时该后处理系统能够提高晶圆片表面处理效果，并且能够避免酸腐蚀其它设备。
移动支撑框架后处理系统离心机构装片机构甩干外端面中心二次清洗一次清洗晶圆片开口快速连接结构分体式结构晶圆片表面方便更换相邻机构依次设置占用空间组装方便机械手出料口机械臂进料口两端面内端面酸腐蚀生产能源

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