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[实用新型]一种河道的护坡结构-CN202222834478.7有效
发明人： 黄增智;杨芳芳 -专利权人：河北省水利水电勘测设计研究院集团有限公司
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： E02B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种河道的护坡结构,包括主坡体、储水仓、种植区和喷头,所述主坡体的一侧设置有排水渠，所述主坡体内部的中间位置设置有储水仓，所述储水仓的一侧固定连接有导水管，所述储水仓内部底端的一侧固定安装有水泵，所述水泵的顶端固定连接有输水管，所述主坡体顶端的一侧设置有种植区。本实用新型主坡体顶端种植区的一侧设置有通槽，则通槽可以进行雨水的导流，使雨水通过通管进入储水仓的内部进行收集处理，同时储水仓内部的水泵启动可以通过输水管将水输入喷头内，在干燥时对种植区上的生态植被进行喷洒浇灌，并且在储水仓一侧的顶端设置有导水管，当储水仓内储水过多时，导水管可以将储水仓内的水导入排水渠中进行排出。
一种河道护坡结构

[实用新型]一种具有过滤结构的稳定性渡槽-CN202222793412.8有效
发明人：杨芳芳;黄增智 -专利权人：河北省水利水电勘测设计研究院集团有限公司
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： E01D18/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及渡槽技术领域，具体为一种具有过滤结构的稳定性渡槽，包括槽体，所述槽体的顶端两侧均固定连接有撑板，两端所述撑板的顶端之间固定安装有框架；过滤板，所述过滤板设置于所述框架靠近槽体的内部一端，所述过滤板的中部穿透开设有若干过滤孔，所述过滤板靠近若干所述过滤孔的一侧均设置有锥体。本实用新型通过设置过滤板，水流沿着槽体的内部流动，当河道中漂浮的树枝和水草等杂物随着水流带动流通时，会通过过滤板进行阻挡过滤，水流可以正常穿过过滤孔，然后通过导流板上的导流槽导流，而水草和树枝等杂物会被过滤板阻挡，从而达到便于过滤的目的。
一种具有过滤结构稳定性渡槽

[发明专利]一种图像传感器及其制造方法-CN201910336395.5有效
发明人： 黄增智;龙海凤;夏睿;倪凌云;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明涉及一种图像传感器及其制造方法。所述图像传感器包括感光元件，形成在衬底中以将光信号转换为电信号；滤色层，形成在所述感光元件之上；第一微透镜，形成在所述滤色层上，所述第一微透镜朝入射光的方向凸起以汇聚入射光；以及第二微透镜，形成在所述感光元件和所述滤色层之间并且包括被多个沟槽隔开的多个子微透镜，以使得所述第二微透镜具有从中心到边缘减小的平均折射率。
一种图像传感器及其制造方法

[发明专利]曲线图形光学邻近修正方法-CN202010279739.6有效
发明人：陈世杰;黄增智;郭进 -专利权人：联合微电子中心有限责任公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曲线图形光学邻近修正方法，在对导入的原始设计图形进行光学邻近修正后，对曲线图形进行填充拟合处理以形成标准图形；所述填充拟合处理的步骤包括：在包含所述曲线图形的边线的设定区域内排布标准填充图形的阵列；将与所述曲线图形相交的所述标准填充图形作为填充拟合图形，所述填充拟合图形具有与所述曲线图形重叠的重叠部分以及与所述曲线图形不重叠的非重叠部分；通过使所述曲线图形合并所述非重叠部分或去除所述重叠部分，形成所述标准图形。本发明通过对硅光器件的曲线图形进行填充拟合处理，以形成标准图形，使版图图形符合常规光掩模版标准，在确保光学邻近修正结果接近原始图形的同时，降低光掩膜版生产成本。
曲线图形光学邻近修正方法

[发明专利]相位检测自动对焦像素元件及其形成方法，图像传感器及其形成方法-CN201910638161.6有效
发明人： 黄增智;倪凌云;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本申请涉及半导体技术领域，具体地涉及一种相位检测自动对焦像素元件及其形成方法，以及图像传感器及其形成方法。所述相位检测自动对焦像素元件(PDAF)包括：半导体衬底，所述半导体衬底包括至少两个像素区域；增透层，所述增透层位于所述半导体衬底上；至少两个掩埋透镜，所述至少两个掩埋透镜位于所述增透层上，位置对应于所述至少两个像素区域。所述掩埋透镜可以聚集射入到PDAF像素元件中的光线，增加所述PDAF像素元件的进光量，增大所述PDAF元件中像素区域之间的光强差别，增大所述PDAF像素元件对光线的响应角度，提高对焦灵敏度。
相位检测自动对焦像素元件及其形成方法图像传感器

[发明专利]图像传感器及其形成方法-CN201811248576.4有效
发明人： 黄增智;夏睿;李天慧;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：一种图像传感器及其形成方法，图像传感器包括：衬底，所述衬底包括相邻的第一像素区和第二像素区；位于第一像素区衬底表面的第一滤光层；位于第二像素区衬底表面的第二滤光层，所述第二滤光层和第一滤光层顶部齐平；位于第一滤光层表面的第一透镜层；位于第二滤光层表面的第二透镜层，所述第二透镜层高度大于所述第一透镜层高度，所述第二透镜层包括第一底透镜层和位于第一底透镜层表面的第一凸透镜层，所述第一底透镜层侧壁与第一底透镜层底面的夹角为预设角度。所述图像传感器的性能得到提高。
图像传感器及其形成方法

[发明专利]隔离结构及其形成方法，图像传感器及其制造方法-CN201910145468.2有效
发明人： 黄增智;龙海凤;藤井光一;黄晓橹;张祥平 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种隔离结构及其形成方法，图像传感器及其制造方法，所述图像传感器包括：半导体衬底，所述半导体衬底内形成有分立的光电二极管和沟槽隔离结构，所述光电二极管位于所述沟槽隔离结构之间；对应于所述沟槽隔离结构的隔离结构，包括位于所述半导体衬底上的相移层和位于所述相移层上的金属栅格，所述金属栅格包括位于所述相移层上的金属层，所述相移层宽于所述金属栅格；滤光层，位于所述隔离结构之间。本发明技术方案能够有效改善光线串扰。
隔离结构及其形成方法图像传感器制造

[发明专利]图像传感器及其制造方法-CN201811096775.8有效
发明人： 黄增智;倪凌云;李天慧;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明涉及一种图像传感器及其制造方法。根据本公开的一个示例性实施例的图像传感器包括：第一像素单元，其中所述第一像素单元包括：由第一半导体材料构成的第一光电二极管；和至少部分由第二半导体材料构成的第二光电二极管，与第一光电二极管在水平方向上并排布置；其中第二半导体材料对入射光的光电转换效率比第一半导体材料高；其中所述第一像素单元被配置为通过合并第一和第二光电二极管对入射光进行光电转换的结果来产生第一相位检测对焦信号。
图像传感器及其制造方法

[发明专利]曲线图形光学邻近修正方法-CN202010280525.0有效
发明人：陈世杰;黄增智;郭进 -专利权人：联合微电子中心有限责任公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曲线图形光学邻近修正方法，在对导入的原始设计图形进行光学邻近修正后，在进行设计规则检查前，对曲线图形边线进行直角切割处理以形成标准图形边线；所述直角切割处理包括采用多条相互连接的沿水平或垂直方向延伸的边线拟合所述曲线图形边线。本发明通过对硅光器件的曲线图形进行直角切割处理，形成标准图形边线，使版图图形符合常规光掩模版标准，在确保光学邻近修正结果接近原始图形的同时，降低光掩膜版生产成本。
曲线图形光学邻近修正方法

[发明专利]图像传感器及其形成方法、成像设备-CN201811006618.3有效
发明人： 黄增智;龙海凤;倪凌云;李天慧;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本公开涉及图像传感器及其形成方法以及成像设备。一种图像传感器包括：衬底，所述衬底中形成有感光元件区域；以及在所述感光元件区域的周围区域形成的第一聚光部，其中，所述第一聚光部被成形为使得要进入所述感光元件的周围区域的光通过所述聚光部向所述感光元件区域折射。本公开涉及的图像传感器及用于形成图像传感器的方法，使得更多的光进入衬底中的感光元件的区域，从而改善图像传感器的光敏感度。
图像传感器及其形成方法成像设备

[发明专利]一种光学邻近效应修正方法-CN201910797126.9在审
发明人：黄双龙;倪凌云;黄增智;夏睿 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-27 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学邻近效应修正方法，包括：筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，第一类型边缘线包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角；量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差；修正步骤，根据计算步骤中确定的边缘放置误差，对第一类型边缘线进行修正；其中，第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同，由此减少了光学邻近效应修正的时间。
边缘放置误差边缘线光学邻近效应修正计算步骤拐角筛选修正参考位置依次连接量测内角平角外角样本

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201910746475.8在审
发明人： 黄增智;夏睿;黄双龙;倪凌云 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供目标光刻图形，所述目标光刻图形包括相邻的第一子目标光刻图形和第二子目标光刻图形；对所述目标光刻图形进行第一光学邻近修正，得到与所述目标光刻图形对应的第一修正图形，以及与所述第一修正图形对应的第一模拟光刻图形；当所述第一修正图形的修正最小间距等于最小预设距离，且所述第一模拟光刻图形的第一边缘放置误差和第二边缘放置误差中的一者或两者大于或等于预设边缘放置误差时，对所述第一修正图形进行第二修正。以所述光学邻近修正方法得到的修正图形形成的光刻图形效果好。
光刻图形修正光学邻近修正边缘放置误差模拟光子目标图形形成预设距离预设

[发明专利]掩模及其配置方法、光刻系统和光刻方法-CN201910617337.X在审
发明人： 黄增智;夏睿;藤井光一 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩模及其配置方法、光刻系统和光刻方法。该掩模包括：第一掩模图案和第二掩膜图案。第一掩模图案对应于通过光刻工艺将在晶圆上形成的目标图案，该第一掩模图案包括沿第一方向延伸的一个或多个第一条状图形。第二掩模图案包括沿与第一方向成角度的第二方向延伸的一个或多个第二条状图形，并且第二掩模图案对应于通过光刻工艺将在晶圆上形成的冗余图案。
掩模图案掩模方向延伸光刻工艺光刻系统条状图形光刻晶圆目标图案冗余图案掩膜图案配置

[发明专利]图像传感器及其制造方法-CN201910118727.2在审
发明人： 黄增智;倪凌云;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本公开涉及图像传感器及其制造方法。提供一种图像传感器，包括衬底，该衬底具有形成在衬底中的至少一个像素单元。每个像素单元包括浮置扩散结构，该浮置扩散结构包括：第一浮置扩散区，形成在衬底中邻近上表面处；第二浮置扩散区，形成在衬底中第一浮置扩散区的下方，并且与第一浮置扩散区物理地隔开，其中，衬底为第一掺杂类型，第一浮置扩散区和第二浮置扩散区为第二掺杂类型；以及控制部。该控制部包括：栅极，嵌入在衬底中并且从衬底的上表面起向下延伸；以及栅极电介质层，形成在衬底中并且围绕栅极的底壁和侧壁。其中，栅极经由栅极电介质层与第一浮置扩散区和第二浮置扩散区邻接，以用于控制第一浮置扩散区和第二浮置扩散区的连通和断开。
浮置扩散区衬底图像传感器栅极电介质层掺杂类型浮置扩散像素单元上表面向下延伸邻接侧壁底壁隔开断开连通嵌入制造邻近

[发明专利]图像传感器及其形成方法-CN201910196053.8在审
发明人： 黄增智;倪凌云;黄晓橹 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：一种图像传感器及其形成方法，图像传感器包括：基底，基底包括若干个相互分立的像素区，各个像素区包括相邻第一区和第二区，所述第一区与第二区沿第一方向排列；位于各个所述像素区第一区表面的滤色器边框，所述滤色器边框具有第一侧壁，所述第一侧壁朝向第二区，所述第一侧壁与第二区基底表面的夹角为钝角。有利于提高相位对焦的灵敏度。
图像传感器第一侧壁第一区像素区边框滤色器基底方向排列基底表面灵敏度夹角为对焦钝角分立

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