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[发明专利]硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法-CN201810677751.5有效
发明人：荒山恭平;村山哲;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法，所述硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。本发明的硬化性组合物含有近红外线吸收性色素(A)及硬化性化合物(B)，所述硬化性化合物(B)具有选自氟原子、硅原子、碳数8以上的直链烷基及碳数3以上的分支烷基中的一种以上。本发明的硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。
化性组合硬化红外线截止滤波器照相机模块这些制造方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201980076001.5在审
发明人：王惠瑜;丹吴直紘;高桥秀知;后藤研由;川端健志;吉村务 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-11-12 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C08F220/28 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种所形成的图案的截面形状的矩形性优异，并且在制备后随着时间的经过，所形成的图案的线宽尺寸也不易发生变动的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂，通过酸的作用分解而极性增大；化合物，通过光化射线或放射线的照射而产生酸；以及卤素系溶剂，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，相对于组合物的总质量，上述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且50质量ppm以下。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光性树脂组合物及其制造方法、抗蚀剂膜、图案形成方法以及电子器件的制造方法-CN201980021461.8在审
发明人：山本庆;大石康史;丹吴直紘;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物及其制造方法以及使用上述感光性树脂组合物而成的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光性树脂组合物包含烯属不饱和化合物、通过酸的作用而极性增大的树脂及金属原子，上述金属原子的含量的合计相对于感光性树脂组合物的总质量为1ppt以上且30ppb以下，上述烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂组合物的总质量为0.0001质量％以上且1质量％以下。
感光性树脂组合及其制造方法抗蚀剂膜图案形成以及电子器件

[发明专利]图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜和制造电子器件的方法-CN201380039975.9有效
发明人：上村聪;高桥秀知;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有具有包含能够通过归因于酸的作用的分解而生成极性基团的基团的重复单元和包含羧基的重复单元的树脂(A)，根据使用光化射线或放射线的照射生成酸的化合物(B)，以及溶剂(C)；(ii)使用KrF准分子激光、极紫外线或电子束将所述膜曝光；以及(iii)通过使用包含有机溶剂的显影液将已曝光的膜显影而形成阴图型色调图案。
光化射线放射线敏感树脂图案形成敏感电子束组合物形成电子器件极性基团极紫外线抗蚀剂膜色调图案有机溶剂曝光放射线显影液溶剂树脂显影羧基照射分解制造

[发明专利]图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、电子器件的制造方法以及电子器件-CN201380026683.1有效
发明人：伊藤纯一;山口修平;高桥秀知;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-05-23 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：提供一种图案形成方法，其包括：(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤；(ii)将膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物，(C)溶剂，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分结构的重复单元的树脂。
图案形成方法光化射线敏感放射线树脂组合抗蚀剂膜电子器件制造以及

[发明专利]硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法-CN201480033162.3有效
发明人：荒山恭平;村山哲;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C08L101/00 文献下载
摘要：本发明提供一种硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法，所述硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。本发明的硬化性组合物含有近红外线吸收性色素(A)及硬化性化合物(B)，所述硬化性化合物(B)具有选自氟原子、硅原子、碳数8以上的直链烷基及碳数3以上的分支烷基中的一种以上。本发明的硬化性组合物可获得即便在浸渍于溶剂中的情形时近红外线吸收性色素也不易溶出的硬化膜。
化性组合硬化红外线截止滤波器照相机模块制造方法

[发明专利]用于图案形成方法的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物-CN201410602459.9有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;齐藤翔一;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-25 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
光化射线式( I )树脂辐射敏感树脂组合物图案形成树脂组合物芳族基团极性基团敏感曝光机溶剂显影液溶剂非酚显影照射分解图案辐射

[发明专利]图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法-CN201280068005.7有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;上村聪 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-11-28 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法。一种图案形成方法，包含(一)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(二)对所述膜进行曝光；及(三)使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的所述膜进行显影而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，包含具有由于酸的作用分解而生成极性基的基的重复单元、以及具有芳香族基的重复单元；化合物(B)，通过照射光化射线或放射线而产生酸；及溶剂(C)。其中，树脂(A)是具有萘基等的重复单元的树脂及/或和/或所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有萘环等的化合物(D)。
图案形成方法感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜电子元件制造

[发明专利]近红外线吸收性组合物及其应用、照相机模块及其制造方法、磺酸铜络合物及其混合物-CN201480004195.5有效
发明人：川岛敬史;人见诚一;高桥秀知;奈良裕树;朴星戊 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-02-03 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种近红外线吸收性组合物及其应用、照相机模块及其制造方法、磺酸铜络合物及其混合物，所述近红外线吸收性组合物在制成硬化膜时维持高的近红外线遮蔽性、且可形成耐热性优异的硬化膜。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜络合物及溶剂，上述铜络合物是使两种以上的下述通式(I)所表示的磺酸或其盐与铜成分反应而成。通式(I)中，R1表示有机基。
红外线吸收性组合使用截止滤波器及其制造方法以及照相机模块

[发明专利]近红外线吸收性组合物及使用其的近红外线截止滤波器、以及照相机模块及其制造方法-CN201480004079.3有效
发明人：川岛敬史;高桥秀知;江副利秀 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-01-31 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明提供一种近红外线吸收性组合物及使用其的近红外线截止滤波器、以及照相机模块及其制造方法。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜化合物、及具有下述式(1)所表示的部分结构的化合物，并且相对于具有下述式(1)所表示的部分结构的化合物1g，上述铜化合物的含量为3×10‑3mol～1mol。(式(1)中，R1表示氛原子或有机基)
红外线吸收性组合使用截止滤波器以及照相机模块及其制造方法

[发明专利]图案形成方法、多层抗蚀剂图案、有机溶剂显影用多层膜、抗蚀剂组合物、用于制造电子器件的方法以及电子器件-CN201280032605.8有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;男谷唯纮;中村敦;高桥秀知;岩户薰 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-06-28 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： G03F7/095 文献下载
摘要：所提供的是一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用第一树脂组合物(I)在基板上形成第一膜的步骤；(ii)通过使用与所述树脂组合物(I)不同的第二树脂组合物(II)在所述第一膜上形成第二膜的步骤；(iii)将具有所述第一膜和所述第二膜的多层膜曝光的步骤；和(iv)通过使用含有有机溶剂的显影液将经曝光的多层膜中的所述第一膜和所述第二膜显影以形成负型图案的步骤。
图案形成方法多层抗蚀剂有机溶剂显影组合用于制造电子器件以及

[发明专利]裂纹生成方法、利用激光的切割方法以及裂纹生成装置-CN201410160380.5有效
发明人：米村正寿;加藤觉;塚田敏彦;太田道春;高桥秀知 -专利权人：爱信精机株式会社
申请日： 2014-04-21 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：本发明提供能够根据加工对象物的材料来生成微细裂纹的裂纹生成方法、利用激光的切割方法以及裂纹生成装置。从第一激光光源对加工对象物照射第一光脉冲，从而在加工对象物的内部沿着预先设定的预定线形成光吸收率暂时变高的第一区域，该第一光脉冲具有预先设定的第一脉冲宽度以及使加工对象物的材料产生多光子吸收的光强度的，并且在光吸收率暂时变高了的第一区域的光吸收率复原之前，从第二激光光源对第一区域的至少一部分照射第二光脉冲并吸收第二光脉冲，来沿着预先设定的预定线在加工对象物生成裂纹，该第二光脉冲具有针对加工对象物的材料而预先设定的不使加工对象物的材料产生多光子吸收的光强度以及比第一脉冲宽度宽的第二脉冲宽度。
裂纹生成方法利用激光切割以及装置

[发明专利]近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法、照相机模块及其制造方法以及固体摄影元件-CN201480041231.5在审
发明人： 高桥秀知;川岛敬史;稲崎毅;人见诚一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-07-23 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： C08L101/02 文献下载
摘要：本发明提供一种近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法、照相机模块及其制造方法、以及固体摄影元件，所述近红外线吸收性组合物可形成可维持高的近红外线遮蔽性且耐热性优异的硬化膜。本发明的近红外线吸收性组合物含有：近红外线吸收性化合物(A1)，其是由含有两个以上的对金属成分的配位部位、或含有对金属成分的配位部位与交联性基且分子量为1800以下的低分子化合物或其盐与金属成分的反应所得；以及近红外线吸收性化合物(B)，其是由含有下述式(II)所表示的重复单元的高分子化合物或其盐与金属成分的反应所得。下述式(II)中，R²表示有机基，Y¹表示单键或二价连结基，X²表示对金属成分的配位部位。
红外线吸收性组合使用截止滤波器及其制造方法照相机模块以及固体摄影元件

[发明专利]近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法以及照相机模块-CN201480028969.8在审
发明人：川岛敬史;稲崎毅;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-05-22 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明提供一种近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法以及照相机模块，所述近红外线吸收性组合物可形成维持高的近红外线遮蔽性、且耐热性优异的硬化膜。本发明的近红外线吸收性组合物含有由含有酸基或其盐的聚合物(A1)与铜成分的反应所得的化合物。本发明的近红外线吸收性组合物含有：由含有酸基或其盐的聚合物(A1)及铜成分的反应所得的化合物、以及由具有配位部位的低分子化合物及铜成分的反应所得的铜络合物。
红外线吸收性组合使用截止滤波器及其制造方法以及照相机模块

[发明专利]红外线吸收性组合物、红外线截止滤波器、照相机模块及照相机模块的制造方法-CN201480017426.6在审
发明人：高桑英希;江副利秀;高桥秀知;嶋田和人 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-03-26 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明提供一种红外线吸收性组合物，其可制作与应用红外线吸收性组合物的基材的密接性良好的红外吸收图案。本发明的红外线吸收性组合物含有红外线吸收物质、及具有下述式(1)所表示的部分结构的聚合性化合物。式(1)(式(1)中，R¹表示氢原子或有机基。*表示与其他原子的键结部位)。
红外线吸收性组合截止滤波器照相机模块制造方法

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