“高松祐助”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]供液装置和供液方法-CN201880022733.1有效
发明人： 高松祐助;高木康弘;梅野慎一;福井祥吾 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明包括：储存罐(102)，其储存包含第一处理液(硫酸)和第二处理液(过氧化氢水溶液)的处理液；使储存于储存罐(102)的处理液循环的循环路径(104)，其具有使处理液在水平方向上通过的第一管路(104a)；向处理单元(16)供给处理液的分支路径(112)；和分支部(112a)，其具有使处理液从第一管路(104a)向分支路径(112)流出的开口(1121)，在分支部(112a)中剖视第一管路(104a)时，开口(1121)设置于第一管路(104a)的周缘下方。
装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202180045439.4在审
发明人：小佐井一树;井上大诚;高松祐助;大塚贵久;天井胜;菅野至;矢野洋 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式所涉及的液处理装置具备贮存罐、第一循环线路以及第二循环线路。贮存罐贮存处理液。第一循环线路用于使从贮存罐送出的处理液通过第一过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路与第一循环线路连接，第二循环线路用于使处理液通过第二过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路的流路的长度比第一循环线路的流路的长度短。向第二循环线路流入的处理液的流量比向第一循环线路的比第一循环线路与第二循环线路的连接部位靠下游侧的位置流入的处理液的流量少。第二过滤器中的每单位时间的过滤量比第一过滤器中的每单位时间的过滤量少。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201780009904.2有效
发明人：高木康弘;梅野慎一;永井高志;守田寿;绪方信博;高松祐助;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式所涉及的基板处理装置具备贮存容器、基板处理部、回收路径、废弃路径、供给路径、切换部和切换控制部。回收路径使供给到基板处理部的混合液返回到贮存容器。废弃路径将所供给的混合液废弃到贮存容器以外的场所。切换部使所供给的混合液的流入目的地在回收路径与废弃路径之间切换。切换控制部对切换部进行控制，使得在从基板处理部开始供给混合液起到第一时间经过的期间，使所供给的混合液向废弃路径流入，在第一时间经过后且到基于预先决定的回收率决定的第二时间经过为止的期间，使所供给的混合液向回收路径流入，在从第二时间经过起到混合液的供给结束为止的期间，使所供给的混合液向废弃路径流入。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202110666079.1在审
发明人：小佐井一树;高松祐助;井上大诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够提高处理液的清洁度的液处理装置和液处理方法。本发明的实施方式的液处理装置包括储存罐、循环管线、供给管线、返回管线和至少一个过滤器。储存罐用于储存处理液。循环管线用于使从储存罐输送的处理液返回到储存罐。供给管线用于将循环管线和向基片供给处理液的供给部连接。返回管线与供给管线连接，用于使处理液从供给管线返回到储存罐。过滤器设置在供给管线的比返回管线与供给管线的连接部位靠上游侧的位置和返回管线中的至少一者，用于除去处理液中的异物。
处理装置方法

[实用新型]基片处理装置-CN202023211384.1有效
发明人：樱井宏纪;后藤大辅;中泽贵士;高松祐助;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基片处理装置，其能够抑制在利用混合液的蚀刻处理结束时在混合部发生突沸反应。本实用新型的一个方式的基片处理装置包括升温部、混合部和释放部。升温部使硫酸升温。混合部将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液。释放部在基片处理部内对基片释放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供液体流动的液体供给管路合流；和反应抑制机构，其抑制合流部中的升温后的硫酸与液体的反应。
处理装置

[发明专利]基片处理装置-CN202011576637.7在审
发明人：樱井宏纪;后藤大辅;中泽贵士;高松祐助;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置，其能够抑制在利用混合液的蚀刻处理结束时在混合部发生突沸反应。本发明的一个方式的基片处理装置包括升温部、混合部和释放部。升温部使硫酸升温。混合部将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液。释放部在基片处理部内对基片释放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供液体流动的液体供给管路合流；和反应抑制机构，其抑制合流部中的升温后的硫酸与液体的反应。
处理装置

1
共 6 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top