专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202110597845.3在审
  • 广城幸吉;野中纯;高山和也;中森光则 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-05-31 - 2021-12-10 - H01L21/67
  • 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供如下技术:将基板用拒水剂拒水化,抑制基板的凹凸图案的倒塌、另外抑制拒水剂所导致的颗粒的发生。基板处理方法包括下述(A)~(E)。(A)将附着有处理液的基板搬入至处理容器的内部。(B)对前述搬入后的前述基板供给第1有机溶剂,将附着于前述基板的前述处理液去除。(C)对去除了前述处理液的前述基板供给拒水剂,将前述基板拒水化。(D)对前述拒水化了的前述基板供给第2有机溶剂。(E)使附着于前述基板的前述第2有机溶剂挥发,将前述基板干燥。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基片液处理装置-CN201911299983.2在审
  • 大津孝彦;高山和也;稻田尊士 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-12-17 - 2020-07-07 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基片液处理装置。本发明的一个方面的基片液处理装置包括:处理槽,其贮存用于对多个基片实施液处理的处理液;基片支承部,其在处理槽内,以多个基片各自的主面沿铅垂方向的方式支承多个基片;处理液排出部,其设置在比由基片支承部支承的多个基片靠下方处,通过将处理液排出到处理槽内来生成上升流;和在侧方空间中调节处理液的液流的整流部,其中侧方空间形成在处理槽的第1侧壁与多个基片中具有和第1侧壁相对的主面的第1基片之间。本发明对基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的。
  • 基片液处理装置
  • [发明专利]图像显示装置-CN201280033692.9有效
  • 佐藤雄一;前田健次;夏见昌之;渡边辰雄;高山和也;安本隆;稻森良充 - 夏普株式会社
  • 2012-07-06 - 2016-10-19 - G09G3/36
  • 本发明提供一种不会对二维显示时的分辨率造成影响而且可抑制以三维方式显示的图像的颜色平衡的劣化的、具有4色的子像素的图像显示装置。在图像显示装置中,左眼用的用于显示红色的子像素与右眼用的用于显示绿色的子像素的排列被调换为左眼用的用于显示绿色的子像素(Lg1、430)和右眼用的用于显示红色的子像素(Rr1、440)的排列。左眼用的用于显示蓝色的子像素和右眼用的用于显示黄色的子像素的排列被调换为左眼用的用于显示黄色的子像素(Lx1、450)和右眼用的用于显示蓝色的子像素(Rb1、460)的排列。子像素(430)与(440)的调换以及子像素(450)与(460)的调换每隔1个像素进行。
  • 图像显示装置

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