专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]液体捕集罐和用于捕集液体的方法-CN202310043502.1在审
  • 赵妿罗;高定奭;朴在训;张镐镇;李正悦;徐庚进;郑雨信 - 细美事有限公司
  • 2023-01-29 - 2023-10-17 - B01D19/00
  • 本发明涉及一种液体捕集罐和用于捕集液体的方法,所述液体捕集罐可以包括:罐体,配置为具有形成在所述罐体中的能够容纳液体的容纳空间,具有形成在所述罐体的一部分中的流入单元并且具有形成在所述罐体的另一部分中的排出单元;第一容纳部分,形成在所述罐体内部并且配置为初次且暂时地容纳所述液体使得气泡从通过所述流入单元引入的所述液体中被分离;以及第二容纳部分,形成在所述罐体内部并且配置为第二次且暂时地容纳从所述第一容纳部分移动的所述液体或者通过所述排出单元将移动的所述液体排出到外部。
  • 液体捕集罐用于方法
  • [发明专利]液体供应单元及液体供应方法-CN202210315991.7在审
  • 高定奭;金局生;林度延;郑完熙 - 细美事有限公司
  • 2022-03-28 - 2023-10-10 - H01L21/67
  • 本发明提供一种液体供应单元和液体供应方法。该液体供应单元包括:喷嘴;液体供应管,该液体供应管用于向喷嘴供应处理液;杂质去除单元,该杂质去除单元安装在液体供应管中以去除处理液中的杂质,其中杂质去除单元包括:测量单元,该测量单元用于测量处理液中杂质的特性并形成杂质数据;振动单元,该振动单元用于对处理液施加振动;捕获单元,该捕获单元配置为吸附被施加振动的处理液中的杂质;以及控制单元,该控制单元用于控制测量单元和振动单元,以及当杂质数据超过参考数据范围时,控制单元运行振动单元。
  • 液体供应单元方法
  • [发明专利]键合装置以及键合方法-CN202010135241.2有效
  • 高定奭;李恒林;金旼永;金度延;朴志焄;张秀逸;金光燮 - 细美事有限公司
  • 2020-03-02 - 2023-09-19 - H01L21/60
  • 本发明公开一种键合装置以及键合方法,其能够将基板与键合对象(管芯或基板)键合时,避免基板与键合对象之间的键合界面的气体捕集现象的同时,通过阳极键合有效使得基板与键合对象键合。根据本发明实施例的键合方法,其在第一基板上键合包括管芯或第二基板的键合对象,包括:通过从一个或多个等离子体装置的各个等离子体尖端,在要键合所述键合对象的所述第一基板上的键合区域中产生等离子体来对所述键合区域进行亲水化;在所述第一基板上的已被亲水化的键合区域上配置所述键合对象,并使所述等离子体尖端接触于所述键合对象的上部面;以及通过在与所述第一基板的下部面接触的第一电极与设置于所述等离子体尖端的第二电极之间施加电压的阳极键合热处理,在所述第一基板上键合所述键合对象。
  • 装置以及方法
  • [发明专利]键合装置及键合方法-CN201911051463.X有效
  • 金度延;李恒林;李忠现;金光燮;金旼永;金度宪;高定奭 - 细美事有限公司
  • 2019-10-31 - 2023-08-18 - H01L21/607
  • 本发明公开一种能够在将接合对象(芯片或基板)接合到基板上的过程中提高贯通电极(TSV孔)的对准准确度的键合装置及键合方法。根据本发明的实施例的键合方法为用于将接合对象的第二贯通电极对准并接合到基板上的第一贯通电极的键合方法,包括以下步骤:在所述基板上布置所述接合对象;以及通过将具有已设定的共振频率的振动施加到所述接合对象并使所述第一贯通电极和所述第二贯通电极共振,从而将所述第二贯通电极的位置和所述第一贯通电极对准。
  • 装置方法
  • [发明专利]基板处理装置及利用其的基板处理方法-CN202210563549.6在审
  • 李在晟;高定奭;崔海圆 - 细美事有限公司
  • 2022-05-23 - 2023-03-10 - H01L21/67
  • 本发明提供在更低的压力条件下执行工艺以确保稳定性的基板处理装置及利用其的基板处理方法。所述基板处理装置包括:腔室,残留有冲洗液的基板被搬入所述腔室,且所述腔室包括壳体和处理区域;供应端口,设置于所述壳体,并且向所述处理区域供应第一干燥气体和第二干燥气体;第一供应线,与所述供应端口连接,且所述第一干燥气体在所述第一供应线中移动;以及第二供应线,与所述供应端口连接,且所述第二干燥气体在所述第二供应线中移动,其中,所述第一干燥气体是温度低于第一温度的气体,且所述第二干燥气体是温度为所述第一温度以上的气体,以及所述第二干燥气体对残留在所述基板上的所述冲洗液进行干燥。
  • 处理装置利用方法

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