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- [发明专利]一种引线框架生产的激光曝光设备-CN202310899806.8在审
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高小平;孙煜;雷诚
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安徽立德半导体材料有限公司
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2023-07-21
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2023-10-24
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H01L21/48
- 本发明公开了一种引线框架生产的激光曝光设备，涉及曝光设备技术领域，包括曝光机构，曝光机构的进入端外部设有放卷辊、且输出端外部设有收卷辊；放卷辊与曝光机构之间设有导向辊一与导向辊二，收卷辊与曝光机构之间设有导向辊三与导向辊四，导向辊一与导向辊二之间、以及导向辊三与导向辊四之间均设有自动调节机构；自动调节机构包括压辊机构和重力机构，压辊机构包括支板一和支板二，支板一与支板二之间滑动设置有压辊；重力机构与压辊两端的中心轴相连；本发明通过压辊机构和重力机构对引线框架的张力进行自动调节，使引线框架的张力始终保持稳定，保证引线框架在经过曝光机构中时更加平稳，受到曝光的程度更加均匀，提高曝光效果。
- 一种引线框架生产激光曝光设备
- [发明专利]一种超快压缩相位成像系统及方法-CN202310766102.3在审
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雷诚;李如冰;翁跃云;林思源
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武汉大学
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2023-06-26
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2023-10-10
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G01N21/45
- 本发明属于高速成像技术领域，公开了一种超快压缩相位成像系统及方法。本发明对时域展宽的脉冲进行分光处理得到第一脉冲和第二脉冲；在信号路，对第一脉冲进行编码调制得到结构光信号，结构光信号通过信号采集单元后形成包含样品信息的信号路光脉冲；在参考路，第二脉冲通过调整单元后形成参考路光脉冲；信号路光脉冲与参考路光脉冲均入射至耦合器并得到干涉信号，干涉信号经压缩采集单元进行压缩采集后入射至信号处理单元，信号处理单元利用重构算法恢复样本信息。本发明能够避开当前压缩相位成像复杂的光场调控过程，突破空间光调制器的编码速率，大幅提高成像的帧速率，实现超快连续相位成像。
- 一种压缩相位成像系统方法
- [发明专利]一种超快超分辨成像方法及装置-CN202310525611.7在审
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雷诚;杨凯宁;肖瑞东;王度
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武汉大学
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2023-05-10
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2023-09-15
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G01N21/84
- 本发明属于超快成像技术领域，公开了一种超快超分辨成像方法及装置。本发明利用STAMP单元对待观测样品进行超快成像，得到垂直于z轴方向、按光波长沿x轴分开的m个脉冲；利用分束单元将m个脉冲均沿y轴分束成n组，得到具有相同光强且无光程差的m*n个脉冲；利用空间光调制器分n个区域对入射脉冲进行调制，得到m*n个携带待观测样品信息的结构光脉冲；m*n个结构光脉冲入射至成像透镜，并在超快相机上会聚成像；图像重建单元以超快相机捕获到的m*n幅图像作为超分辨图像重建源，进行图像重建得到超分辨图像。本发明解决了超快成像技术中图像分辨率较低的问题，能够在保证超快成像系统成像速率不变的情况下获得超分辨图像。
- 一种超快超分辨成像方法装置
- [发明专利]一种引线框架及其制备方法-CN202310670260.9在审
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高小平;雷诚
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安徽立德半导体材料有限公司
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2023-06-07
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2023-09-05
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H01L21/48
- 本发明公开了一种引线框架及其制备方法，包括：步骤一、选取铜带基板，并对铜带基板进行电镀前表面预处理；步骤二、将步骤一中铜带基板进行一次曝光，随后对一次曝光后的铜带基板进行电镀处理；步骤三、将电镀后的铜带基板进行退膜清洗，铜带基板清洗完成后进行蚀刻前预处理；步骤四、将步骤三中蚀刻预处理完成的铜带基板进行二次曝光，随后对二次曝光后的铜带基板进行表面蚀刻加工；步骤五、将步骤三中蚀刻加工完成后的铜带基板退膜清洗，烘干后贴带获得成品引线框架；本发明采用先电镀后蚀刻的方式制备引线框架，能够使得引线框架在蚀刻的图形转移工艺中可以做更精准、更小的线距和线宽。
- 一种引线框架及其制备方法
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