专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果72个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种半导体分立器件动态特性测试机柜-CN202222376581.1有效
  • 陈桥梁;王舶男;崔金茜 - 龙腾半导体股份有限公司
  • 2022-09-07 - 2023-03-28 - G01R1/04
  • 本实用新型公开了一种半导体分立器件动态特性测试机柜,包括接地处理的柜体,柜体的前部无门,两侧及后部分别设置有侧门及后门,侧门及后门独立开合,柜体一侧设置有总空开,柜体顶部设置有报警灯,柜体前部设置有多个安装槽位,柜体前部还设置有显示器,显示器与柜体通过摇臂连接,所述安装槽位下端设置有出线孔;柜体前部还设置有急停开关、存储位、托盘;所述柜体内部设置有多个排插。本实用新型组装灵活,外形美观、结构坚固,将不同的测试仪器集中在一起,便于在同一位置检测不同的产品或不同项目,同时保证测试工作的安全性。
  • 一种半导体分立器件动态特性测试机柜
  • [发明专利]一种具有高k介质的屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法-CN202211693751.7在审
  • 麻泽众;杨乐;李铁生;陈桥梁 - 龙腾半导体股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-03-17 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种具有高k介质的屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法,包括步骤:在衬底上方生长外延层;形成由依次叠加的第一氧化层、氮化硅介质层和第二氧化层组成的硬掩模结构;通过光刻形成沟槽;在沟槽内部淀积形成侧壁氧化层;淀积并回刻形成源极多晶硅;湿法刻蚀侧壁氧化层至目标深度;淀积高k介质层填充沟槽并回刻至目标深度;淀积产生氧化层回填沟槽;去除氮化硅上方的氧化层,湿法刻蚀氧化层形成隔离氧化层;采用热氧化工艺形成栅极氧化层;形成栅极多晶硅。本发明可利用高k介质来增强源极多晶硅与漂移区的电荷耦合效果,使漂移区纵向电场分布更加均匀,进一步提高器件的击穿电压以及实现更优的比导通电阻和栅漏电荷。
  • 一种具有介质屏蔽沟槽mosfet制造方法
  • [发明专利]一种屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制造方法-CN202211693735.8在审
  • 麻泽众;杨乐;李铁生;陈桥梁 - 龙腾半导体股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-03-14 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制造方法,所述屏蔽栅沟槽MOSFET结构包括沟槽内部的栅极多晶硅和源极多晶硅,栅极多晶硅与源极多晶硅被中间氧化层相隔离,源极多晶硅和沟槽侧壁之间的绝缘介质膜由氧化层、氮化硅和氧化层组成,源极多晶硅和沟槽底部之间的绝缘介质膜由氧化层组成;在漏极承受反向偏置时,源极多晶硅对漂移区进行横向耗尽,从沟槽的顶部到底部方向上,氮化硅夹层会使漂移区的电场分布更加均匀。本发明所述屏蔽栅沟槽MOSFET结构能提高器件的击穿电压,降低器件的比导通电阻,进一步提高屏蔽栅沟槽MOSFET的应用范围。
  • 一种屏蔽沟槽mosfet结构及其制造方法
  • [发明专利]一种具有高k介质的屏蔽栅沟槽型MOSFET结构-CN202211692949.3在审
  • 麻泽众;杨乐;李铁生;陈桥梁 - 龙腾半导体股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-03-07 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种具有高k介质的屏蔽栅沟槽型MOSFET结构,隶属于屏蔽栅沟槽型MOSFET。本发明包括重掺杂N型衬底、衬底上方的N型外延层、P型阱区、重掺杂N型源区以及重掺杂P型接触区,结构内部设有伸入到N型外延层的深沟槽,深沟槽两侧拥有侧壁氧化层介质和高k介质,沟槽内部的源极多晶硅通过中间氧化层与栅极多晶硅相隔离。高k介质的存在可以有效提高漂移区中部的电场强度,与传统SGT MOSFET相比,可以在保证击穿电压相等的情况下增加外延层的掺杂浓度,使导通电阻进一步降低。另外高k介质可以增强源极多晶硅与漏极的电荷耦合效应,使栅漏电容和栅电荷都有一定程度的降低,有效提高了器件性能。
  • 一种具有介质屏蔽沟槽mosfet结构
  • [实用新型]一种高效市政道路标线划线装置-CN202222697790.6有效
  • 陈桥梁;徐鑫;杨二武;邓镜辉;曹木凌;杜凯凯;毛晓飞;陈涛 - 中交广州航道局有限公司
  • 2022-10-13 - 2023-02-17 - E01C23/24
  • 本实用新型提供了的一种高效市政道路标线划线装置,包括支撑板,所述支撑板的表面开设有滑槽,支撑板的上表面滑动连接有多个移动板,多个移动板的表面均开设有通孔,移动板的上表面安装有两个电动推杆,两个电动推杆的顶端设有连接组件。本实用新型通过电动推杆可便于调节漏斗瓶与地面之间的距离,从而可调节定位尖端推动堵塞板滑动到漏斗瓶内部的距离,可便于对划线液体的流速进行调节,通过固定组件可便于对调节漏斗瓶与漏斗瓶之间间距后,对调节好位置的移动板和漏斗瓶进行固定,通过多个漏斗瓶滑动在支撑板的表面,从而可便于同时对道路表面滑出多条指示线,提高划线效率。
  • 一种高效市政道路标线划线装置
  • [发明专利]一种降低GaN HEMT器件温度的结构-CN202211187070.3在审
  • 赵宏美;张园园;肖晓军;陈桥梁;李铁生 - 龙腾半导体股份有限公司
  • 2022-09-28 - 2023-01-06 - H01L29/06
  • 本发明为一种降低GaN HEMT器件温度的结构,其克服了现有技术中存在的GaNHEMT器件温度过高降低了器件的可靠性的问题。本发明能降低常规型GaN HEMT器件内部温度,进一步提高器件的可靠性。本发明其结构具有GaN梯形微阱和AlGaN矩形微阱,主要用于降低器件温度,器件结构从底部到顶部依次为:衬底、GaN梯形微阱、GaN缓冲层、AlGaN势垒层、AlGaN矩形微阱、钝化层、源极、栅极、漏极,其中栅极与AlGaN势垒层构成肖特基接触,源极和漏极与GaN缓冲层构成欧姆接触。GaN梯形微阱能增加缓冲层和衬底界面的热扩散面积,具有减小界面热阻的作用,AlGaN矩形微阱具有调制沟道温度分布的作用。
  • 一种降低ganhemt器件温度结构

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top