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[发明专利]光学装置及加工装置-CN202080103223.4在审
发明人： 长坂博之;川辺喜雄 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B23K26/082 文献下载
摘要：光学装置包括：第1光学系统，将第1面上的第1区域的光引导至第2面，并且将第2面设为与第1面相对的瞳面；第2光学系统，配置于第2面与第3面之间，且将第2面设为与第3面相对的瞳面；第1反射构件，设置于第1光学系统的射入侧的第1光程上，且具有摇动自如地设置的第1反射面；以及第2反射构件，设置于第1光学系统与第2光学系统之间的第2光程上，且具有摇动自如地设置的第2反射面。
光学装置加工

[发明专利]处理装置、处理方法、计算机程序、记录媒体及控制装置-CN201980011153.7在审
发明人：松田壮史;长坂博之;白石雅之;江上茂树;山本岳洋 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： B29C64/153 文献下载
摘要：处理装置具备：将能量束照射至照射位置的照射装置、以及对上述照射位置供给材料的供给装置；并且使上述照射位置从第1物体上的第1位置移动至远离上述第1物体的第2位置而形成造形物。
处理装置方法计算机程序记录媒体控制

[发明专利]曝光装置的控制方法、曝光装置及元件制造方法-CN201510591955.3有效
发明人：大和壮一;长坂博之;菅原龙 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-08-01 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。
载台曝光装置液浸区域投影光学系统像面光路空间光学元件基板曝光期望状态元件制造多孔质供应口回收口透过液移动填满流出回收

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法-CN201710243823.0在审
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-02-26 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板，该曝光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域，从在多个不同的方向上与投影区域隔开的多个位置上同时向基板上进行液体供给的液体供给机构。
曝光装置方法以及器件制造

[发明专利]曝光方法以及器件制造方法-CN201510058647.4有效
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-02-26 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
曝光方法以及器件制造

[发明专利]曝光装置和限制液体的方法-CN201280040882.3有效
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-08-24 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。
曝光装置限制液体方法

[发明专利]曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法-CN201210468689.1无效
发明人：大和壮一;长坂博之;菅原龙 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-08-01 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法。提供曝光装置（EX），其具备投影光学系统（PL），该投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的像面的第1光学元件（LS1）。曝光装置（EX）具备：第1液浸机构（1），用以在设置于投影光学系统（PL）像面侧的透明构件（64）的上面（65）与第1光学元件（LS1）之间形成第1液体（LQ1）的第1液浸区域（LR1）；及观察装置（60），用以观察第1液浸区域（LR1）的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
曝光装置控制方法组件制造

[发明专利]曝光装置及元件制造方法-CN201210184248.9有效
发明人： 长坂博之;奥山猛 -专利权人：尼康股份有限公司;尼康工程股份有限公司
申请日： 2005-06-09 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置(EX)，是透过液体(LQ)将曝光用光(EL)照射于基板(P)，以使基板(P)曝光，具备：光学系统(PL)，具有与基板(P)对向的端面(T1)，使照射于基板(P)的曝光用光(EL)通过；以及液浸机构(11，21等)，是供应液体(LQ)且回收液体；该液浸机构具有板构件(172D)，该板构件具有以和基板(P)平行对向的方式配置于基板(P)与光学系统端面(T1)之间、且配置成包围曝光用光(EL)的光路的平坦面(75)；从供应口(12)将液体(LQ)供应至光学系统端面(T1)与板构件(172D)间的空间(G2)，且透过液体回收口(22)回收从该供应口供应的液体，该回收口(22)是在较该板构件的平坦面(75)更离开曝光用光(EL)光路的位置配置成与基板(P)对向。本发明还公开了一种元件制造方法。
曝光装置元件制造方法

[发明专利]曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法-CN201110446843.0无效
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-04-25 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板(P)上形成液体(LQ)的液浸区域(LR)的步骤；根据在基板(P)表面与液体(LQ)之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域(LR)的液体(LQ)使基板(P)曝光的步骤。根据本发明，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。
曝光方法装置组件制造以及评估

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法-CN201210012709.4有效
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-02-26 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
曝光装置方法以及器件制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法和器件制造方法-CN201110089474.4有效
发明人： 长坂博之;高岩宏明;蛭川茂 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-12-03 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。
曝光装置方法器件制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法-CN201010129961.4有效
发明人：大和壮一;长坂博之;菅原龙 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-08-01 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
曝光装置方法组件制造

[发明专利]曝光装置及元件制造方法-CN200910207128.4无效
发明人： 长坂博之;恩田稔 -专利权人：尼康股份有限公司
申请日： 2005-06-08 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：曝光装置(EX)具有投影光学系统(PL)。投影光学系统(PL)，具有最接近其像面的第1光学元件(LS1)、及次于第1光学元件(LS1)接近像面的第2光学元件(LS2)。第1光学元件(LS1)，具有：配置成与基板(P)表面对向的下面(T1)、及配置成与第2光学元件(LS2)对向的上面(T2)。以第2液体(LQ2)充满于第1光学元件(LS1)的上面(T2)与第2光学元件(LS2)之间，以在上面(T2)中、在包含曝光用光(EL)通过的区域(AR’)的区域形成液浸区域，通过第1光学元件(LS1)的下面(T1)侧的第1液体(LQ1)、与上面(T2)侧的第2液体(LQ2)将曝光用光(EL)照射于基板(P)上，由此使基板(P)曝光。如此能防止因光学元件污染使曝光精度劣化，并抑制液浸区域的巨大化。
曝光装置元件制造方法

[发明专利]液体回收系统、浸没式曝光装置、浸没式曝光方法以及器件制造方法-CN200880002821.1有效
发明人： 长坂博之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-01-23 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种液体回收系统，其由浸没式曝光装置使用。该液体回收系统设置有：第一开口(33)；间隙部(15)，其设置成使得与第一开口相对的物体上的液体能够通过第一开口流进该间隙部；液体回收部，其通过多孔部件(30)来抽吸流进所述间隙部的液体的至少一部分；以及第二开口(34)，其不同于第一开口。所述间隙部通过所述第二开口向大气敞开。
液体回收系统浸没曝光装置方法以及器件制造

[发明专利]清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置、以及器件制造方法-CN200780049273.3无效
发明人： 长坂博之;森田博志;床嶋裕人 -专利权人：株式会社尼康;栗田工业株式会社
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置以及器件制造方法。曝光装置借助曝光用液体利用曝光光对基板进行曝光。为了清洗曝光装置的至少一部分，将清洗用液体供给到曝光装置。清洗用液体中溶解了饱和浓度以上的规定气体。
清洗液体方法产生装置曝光以及器件制造

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