“鄢定尧”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果35个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种用于方形光学元件数控加工的拼接装置-CN202011398248.X有效
发明人：黄金勇;高胥华;蔡超;王刚;谢磊;赵恒;胡庆;何祥;马平;鄢定尧;李瑞洁 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于方形光学元件数控加工的拼接装置，包括方形支撑板，其为凸台结构，包括上凸台和下凸台，所述下凸台的水平方向的横截面面积大于所述上凸台，所述上凸台面积与待加工光学元件相同；所述上凸台上还依次设置有硅胶垫和防水布；使用时，所述待加工光学元件设置于所述防水布上；还包括四个拼接块，其相互连接后设置于所述下凸台上方用于将设置于所述上凸台上的所述待加工光学元件夹紧，所述待加工光学元件的上表面略高于各所述拼接块的上表面，各所述拼接块的顶面外侧还设置有若干用于固定所述防水布的磁条。上述拼接装置，同时具备元件装夹和抛光液储存两种功能，实现了元件的浸没式抛光，提高了元件的抛光稳定性。
一种用于方形光学元件数控加工拼接装置

[发明专利]提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法-CN202110675352.7在审
发明人：蔡超;尹良君;刘蕴霞;戴红玲;何祥;黄金勇;王刚;胡庆;赵恒;杨佳;陈思洁;李瑞洁;鄢定尧;马平 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心;电子科技大学
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法，首先对熔石英元件进行多频段超声波和兆声波清洗及漂洗，然后再采用多频段超声波辅助热的强碱溶液对熔石英元件进行刻蚀，再对刻蚀后的元件进行精细漂洗，去除元件表面的再沉积层，钝化各种尺寸的损伤前驱体，且不残留刻蚀污染物，从而达到提升光学元件损伤阈值的目的，较好的保持了光学元件的表面质量。本发明适用于不同尺寸的光学元件，操作简单、可控、经济、环保、不破坏光学元件表面质量等优点。
提升石英元件损伤阈值处理方法

[发明专利]一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法-CN201910661952.0有效
发明人：赵恒;蔡超;何祥;马平;鄢定尧;黄金勇;王刚;谢磊;胡庆;蔡红梅;鲍振军;李智钢;卢忠文;崔建朋;朱衡;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法，属于超精密光学表面加工领域。所述抛光装置包括顶部外罩、兆声波换能器、换能器集束座、连接座、储液腔、密封圈、喷嘴，所述喷嘴上设有用于供抛光液喷出的小孔。该共聚焦兆声波微射流抛光装置和方法除了具有传统射流抛光的优点外，由于使用高频、高能兆声波来推动抛光液产生微射流实现射流抛光，因此能够抑制抛光粉颗粒的团聚效应，提高抛光液的悬浮性和分散性；除此之外相比传统的射流抛光，所述装置和方法可控参数更多，可通过调控兆声波换能器阵列的功率、频率参数来实现不同的抛光斑、抛光效率、抛光质量，具有很好的时间响应特性。
一种基于聚焦声波射流抛光装置方法

[发明专利]一种激光系统、激光诱导损伤测试系统及方法-CN202011553952.8在审
发明人：赵恒;吕亮;高胥华;何祥;马平;李瑞洁;鄢定尧;黄金勇;蔡超;王刚;谢磊;胡庆;蔡红梅;周佩幡;鲍振军;李智钢 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光系统，激光产生装置用于产生激光束并将激光束入射到光束控制装置，光束控制装置用于整形激光束以控制输出激光形成的光斑大小，汇聚装置用于将光束控制装置发射出的激光束汇聚而发射出。本发明的激光系统能够调节输出激光的聚焦光斑大小，能够应用于光学元件激光诱导损伤测试，有助于提高测试效率和测试准确度。本发明还公开了一种激光诱导损伤测试系统以及方法。
一种激光系统诱导损伤测试方法

[发明专利]一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置-CN201910496610.8有效
发明人：黄金勇;谢磊;高胥华;胡庆;王刚;赵恒;蔡超;何祥;马平;鄢定尧;张云帆 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置，包括铸铁盘，其固定设置于环形抛光机的大理石盘上方，所述铸铁盘的顶部浇注有沥青抛光膜层，待加工光学元件和校正盘均设置于所述沥青抛光膜层上；热电阻温度传感器，其设置于所述沥青抛光膜层外侧；环形水管，其置于所述铸铁盘内，且其进水端和出水端分别位于所述铸铁盘的上下方；恒温供水系统，其包括相连的水箱及恒定水温控制系统，所述水箱外还设置有循环水泵，所述恒定水温控制系统与所述热电阻温度传感器相连；所述环形水管的所述进水端与所述循环水泵相连，所述出水端与所述水箱相连。上述装置可实时调节沥青抛光盘盘面面形，从而实现光学元件全口径面形的高精度加工。
一种用于调节环形抛光机沥青表面装置

[发明专利]一种平面光学元件及其加工方法-CN201911077129.1有效
发明人：朱衡;吴迪龙;鲍振军;周衡;李智钢;蔡红梅;鄢定尧 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二面形误差阈值，得到第二平面光学元件；研磨第二平面光学元件的第二表面，使研磨后第二平面光学元件的等厚误差值小于厚度误差阈值，得到第三平面光学元件，其中，第二表面与第一表面相对；抛光第三平面光学元件的第一表面和第二表面，使抛光后第三平面光学元件的第一等厚干涉条纹平均间距大于间距阈值，得到平面光学元件。该加工方法使平面光学元件平行度加工精度得到提高。
一种平面光学元件及其加工方法

[发明专利]一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置-CN201710834095.0有效
发明人：吕亮;马平;鄢定尧;朱衡;黄金勇;蒲云体;蔡超;王刚;张明骁 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据缺陷的位置、范围与深度信息以及元件面形数据、表面粗糙度结果设定刻蚀参数，编制生成喷头运动轨迹代码；启动酸射流刻蚀装置，按照程序指令进行酸射流刻蚀加工；超声清洗去除表面残留的抛光颗粒与氢氟酸，采用光学显微镜，光学干涉仪与光学轮廓仪再次测量元件的缺陷、表面面形与表面粗糙度结果，若结果不达标，重上述步骤，直到合格。本发明采用上述原理，实现局部区域定点刻蚀，控制刻蚀过程中的元件面形。
一种石英光学元件射流刻蚀方法装置

[发明专利]一种光学元件抛光工具及抛光方法-CN201910092105.7有效
发明人：黄金勇;胡庆;谢磊;蔡超;王刚;赵恒;高胥华;何祥;马平;鄢定尧 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中心开设中心孔，压圈与磨盘连接并且使包覆了抛光膜层的凸台从压圈的中心孔穿过，压圈将抛光膜层压紧贴附在凸台上。本发明所述的光学元件抛光工具无需安装辅助加工用的拼接块，有效提高加工效率，磨盘的运动范围扩展到元件的外部区域，磨盘不会发生倾覆，使得元件边缘区域与中间区域加工情况一致，有效消除塌边或翘边面形等边缘效应问题，实现光学元件全口径面形的高精度加工。
一种光学元件抛光工具方法

[发明专利]一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法-CN201810973049.3有效
发明人：赵恒;崔建朋;胡庆;刘杰;马平;鄢定尧;黄金勇;蔡超;王刚;何祥;谢磊 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、第一光束分光元件（3）、反射元件组（4、5、6、7、8、9）、滤波小孔（10、11）、第二光束分光元件（12）、被测光学元件（13）、切光刀口（14、15）、数字成像系统（16）；本发明提供的双刀口差分检测装置由于采用了两套对称的刀口检测光路，并形成两个对称的阴影图像，通过使用差分处理分析的方法，具有很好的抗干扰能力，更易于实现刀口阴影检测的全数字化检测，进而能够显著提高刀口检测法对焦距检测的精度。
一种用于焦距检测双刀口差分装置方法数据处理

[发明专利]一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统-CN201810377942.X有效
发明人：黄金勇;胡庆;谢磊;蔡超;王刚;赵恒;马平;鄢定尧;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈值；然后根据匀滑拟合面形误差数据与去除函数计算匀滑驻留时间函数，以确定第二加工路径；根据第二加工路径进行二次抛光加工，直至其RMS值不大于预设GRMS阈值；最后基于匀滑抛光工艺确定伪随机式加工路径，根据伪随机式加工路径进行三次抛光加工，直至其波前PSD1 RMS值、面形PSD2 RMS值和表面粗糙度RMS值均达到合格值，完成元件加工。本申请实现了光学玻璃元件全频段指标的合格加工，提高了光学玻璃元件的加工效率和加工精度。
加工路径光学玻璃元件面形误差数据装置及系统函数计算时间函数数控加工驻留伪随机加工去除预设表面粗糙度二次抛光加工效率抛光工艺抛光加工元件加工次抛光全频段面形拟合申请

[发明专利]一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法-CN201810852663.4有效
发明人：吕亮;黄金勇;胡庆;蒲云体;马平;鄢定尧;张明骁;朱衡;刘杰 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-07-30 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h_i；(3)根据优化目标计算环带权重值：将目标去除函数H作为优化目标，设每一条环带去除函数h_i的权重值为x_i，采用线性优化方法解出满足误差函数Δ＝H‑Σ(h_i×x_i)最小的各环带权重值x_i，x_i满足非负值条件；(4)异形盘图案设计与制作。本发明能够根据目标去除函数反演，快速得到异形抛光盘面形的最优解，有效提高异形抛光盘的设计效率，具有实现复杂形状的异形抛光盘设计的能力，实现复杂图案设计结果的快速、精确制作，缩短抛光周期，提升抛光精度，改善抛光质量。
抛光盘环带异形抛光权重数控抛光机目标去除优化目标双转子制作去除复杂图案复杂形状光学材料光学制造抛光周期设计结果设计效率特征参数图案设计误差函数线性优化异形盘最优解反演盘面分割加工

[发明专利]一种高陡度光学元件研磨抛光装置和加工方法-CN201810768815.2在审
发明人：鲍振军;朱衡;崔建朋;李智钢;鄢定尧;马平;蔡红梅;吴迪龙;张贤红;周衡 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： B24B21/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于高陡度光学元件进行研磨抛光的装置和相应的加工方法，涉及光学元件加工领域，该装置包括连接块（8）、第一驱动部、加工部、第二驱动部、支撑架（2）、竖向导轨（5）、竖向滑块（6）、横向导轨（13）、横向滑块（12）、张紧及导向轮（15）、张紧气缸（14）；所述加工部与支撑架（2）连接，所述支撑架（2）还与第一驱动部、第二驱动部分别连接，加工部与被加工光学元件（16）接触并在所述装置启动后对所述被加工光学元件（16）进行研磨抛光。本发明提供的装置和加工方法既能实现精密研磨和初抛光阶段加工余量的快速去除，又能进行精加工，能够解决研磨抛光过程的全部问题。
加工支撑架驱动加工光学元件光学元件研磨抛光高陡度光学元件加工研磨抛光过程研磨抛光装置横向导轨横向滑块加工余量精密研磨快速去除竖向导轨竖向滑块张紧气缸装置启动初抛光导向轮精加工张紧

[实用新型]一种数控抛光工具-CN201820067361.1有效
发明人：黄金勇;马平;鄢定尧;胡庆;何祥;吕亮;谢磊;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设置于所述金属盘底部，所述金属盘与所述抛光模层通过液体通道连通，且所述过滤网设置于各所述液体通道上。该数控抛光工具，与现有的对光学元件抛光技术工艺相比，过滤网设置于引流孔上侧，保证杂质颗粒无法进入抛光模层底部，避免了抛光液中的杂质颗粒划伤光学元件表面的可能性。抛光颗粒在抛光液的离心力作用下，与加工碎屑一起被排到金属盘外侧，保证了光学元件表面在抛光工艺过程中的平整程度。
金属盘抛光模层数控抛光过滤网套圈光学元件表面液体通道杂质颗粒可拆卸抛光液清扫层光学元件抛光抛光工艺过程本实用新型离心力作用技术工艺加工碎屑抛光颗粒周向侧壁地连接引流孔划伤连通平整保证

[实用新型]一种新型研磨抛光工装-CN201820072167.2有效
发明人：李智钢;马平;李瑞洁;鄢定尧;朱衡;鲍振军;蔡红梅 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开一种新型研磨抛光工装，包括铝合金衬底、铝盘、万向节从动叉、十字连接件和万向节主动叉，铝合金衬底上设置有用于进行研磨抛光作业的抛光垫层，且铝合金衬底设置于铝盘底部，铝盘顶部与万向节从动叉连接，万向节从动叉与万向节主动叉通过十字连接件连接，万向节主动叉的顶端与抛光机动主轴连接。本实用新型提供的新型研磨抛光工装，与传统的铁笔下压式随动单转方式抛光作业相比，能够实现抛光加工过程中双转研磨抛光，控制抛光过程的压强和速度两个参数，研磨抛光过程中与元件紧贴，受力均匀，有效过滤加工过程中的细碎振动，还实现压强从零开始的线性增加，有利于陶瓷材料研磨抛光过程的稳定和精确控制。
万向节研磨抛光从动叉铝合金主动叉工装衬底铝盘研磨抛光过程压强本实用新型十字连接件抛光加工过程抛光过程抛光作业受力均匀陶瓷材料线性增加主轴连接传统的抛光垫抛光机细碎随动压式紧贴过滤

[实用新型]一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置-CN201820185991.9有效
发明人：何祥;谢磊;黄颖;黄金勇;蔡超;胡庆;王刚;赵恒;鄢定尧;马平 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-02-02 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置，包括用于装置元件的保持架和环抛驱动机构，保持架对抛光盘面进行压力加载，并使元件贴合在抛光盘面上，环抛驱动机构带动保持架在抛光盘面旋转从而使元件进行环抛加工，并且还设置有带动保持架沿着抛光盘面进行偏摆运动的偏摆机构，保持架的外围还设置有贴合在抛光盘面上的抛光盘磨损补偿块。本实用新型实现元件在环抛同时进行偏摆抛光，有效抑制元件产生环形的痕迹，利用抛光盘磨损补偿块对抛光盘面径向的不均匀磨损进行补偿，保持抛光盘面的面形长期稳定，提高元件加工精度和面形一致性，通过保持架对抛光盘面进行压力加载减少元件边缘的不均匀受力，避免元件发生塌边、塌角的状况。
抛光盘面保持架磨损补偿平面抛光装置本实用新型驱动机构压力加载抛光盘偏摆式面形贴合不均匀磨损长期稳定盘面径向偏摆机构偏摆运动有效抑制元件边缘元件产生元件加工装置元件不均匀偏摆受力塌边塌角外围加工

1
2
3
下一页»
尾页
共 35 条