专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]双磁穿隧接面与其形成方法-CN201910882982.4有效
  • 维格纳许·桑达;王郁仁;路克·汤马斯;真杰诺;沙希·帕特尔;童儒颖 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-09-18 - 2023-05-30 - H10N50/10
  • 本公开涉及一种双磁穿隧接面与其形成方法,其中第一穿隧阻障层(TB1)具有比上覆的第二穿隧阻障层(TB2)的电阻与表面积乘积RA2大致上较低的电阻与表面积乘积RA1,以提供可接受的净磁阻比(DRR)。此外,第一固定层(PL1)的磁化方向与第二固定层(PL2)的磁化方向反平行排列,以能够获得比平行排列时更低的临界切换电流。在第二固定层上形成具有RACAP的氧化物覆盖层,以提供更高的第二固定层稳定性。当第一穿隧阻障层与氧化物覆盖层具有比第二穿隧阻障层更小的厚度和更低的氧化态中的一者或两者,第一穿隧阻障层(TB1)与氧化物覆盖层包括金属氧化物或金属氮氧化物基质中的导电(金属)通道,或者包括掺杂的金属氧化物或掺杂的金属氮氧化物层时,实现条件RA1RA2和RACAPRA2
  • 双磁穿隧接面与其形成方法

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