专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]控制装置、内燃机的排气净化装置及排气净化装置的控制方法-CN201480032944.5有效
  • 谷冈谦一 - 博世株式会社
  • 2014-05-19 - 2018-03-09 - F01N3/08
  • 本发明在具备吸附还原剂并还原氮氧化物的还原催化剂的系统中,准确地推定还原剂的浓度。涉及本发明的控制装置(60)具备实测NOx净化率计算部(72)、推定NOx净化率计算部(70)和还原剂浓度推定部(76),前述实测NOx净化率计算部(72)基于设置在还原催化剂(20)的上游及下游的NOx传感器(14,16)的输出,计算还原催化剂(20)的实测NOx净化率,前述还原催化剂(20)还原废气中的氮氧化物,前述推定NOx净化率计算部(70)基于还原催化剂(20)的温度、废气的流量和还原催化剂(20)处的还原剂的吸附量,计算还原催化剂的推定NOx净化率,前述还原剂浓度推定部(76)基于实测NOx净化率及推定NOx净化率,推定从还原剂喷射阀(34)喷射的还原剂的浓度。
  • 控制装置内燃机排气净化方法
  • [发明专利]NOx传感器的传感器值校正装置和内燃机的排气净化装置-CN200980147236.5无效
  • 谷冈谦一 - 博世株式会社
  • 2009-08-31 - 2011-10-19 - F01N3/00
  • 本发明提供谋求NOX浓度的检测精度的提高的NOX传感器的传感器值校正装置和具备这样的传感器值校正装置的内燃机的排气净化装置。在进行安装于用于NOX的还原的催化剂的下游侧的NOX传感器的传感器值的校正的NOX传感器的传感器值校正装置中,推测相对于催化剂上游侧的上游NOX浓度的上游NO浓度的比率(RUno)和上游NO2浓度的比率(RUno2),并且,推测催化剂的NOX的净化效率(η),基于上游NO浓度的比率(RUno)和上游NO2浓度的比率(RUno2)以及催化剂的NOX的净化效率(η),推测相对于催化剂下游侧的下游NOX浓度的下游NO浓度的比率(RLno)或下游NO2浓度的比率(RLno2),基于下游NO浓度的比率(RLno)或下游NO2浓度的比率(RLno2),校正NOX传感器的传感器值(S)。
  • nosub传感器校正装置内燃机排气净化
  • [发明专利]排气净化系统的异常诊断装置及方法以及排气净化系统-CN201110081842.0有效
  • 谷冈谦一 - 博世株式会社
  • 2011-04-01 - 2011-10-12 - F01N11/00
  • 本发明提供一种不使下游侧NOx浓度或者下游侧氨浓度显著上升就可以判定排气净化系统的异常状态的排气净化系统的异常诊断装置及异常诊断方法以及排气净化系统。异常诊断装置包括:传感器值检测单元,读入特定气体浓度传感器的传感器信号并检测气体浓度;减小装置控制单元,在气体浓度为预定的诊断开始阈值以上时、或者从气体浓度减去由计算求出的选择还原催化剂的下游侧的推定NOx浓度的差值为预定的诊断开始阈值以上时,利用设在选择还原催化剂的下游侧的通路面积减小装置使排气通路内的压力上升来使选择还原催化剂中的氨的可吸附量增大;以及判定单元,基于排气通路内的压力上升后的气体浓度或者差值来判定异常状态。
  • 排气净化系统异常诊断装置方法以及
  • [发明专利]排气净化装置的控制装置及控制方法以及内燃机的排气净化装置-CN200880015677.5有效
  • 谷冈谦一;黑木史宏;宫本武司 - 博世株式会社
  • 2008-04-14 - 2010-03-24 - F01N3/36
  • 提供一种内燃机的排气净化装置的控制装置及控制方法,即便在催化剂温度持续既定时间以上地向低温侧移行时,也能够防止实际吸附量从饱和吸附量曲线过度地减少,能够防止还原催化剂的还原效率的降低。具有:温度推移判定机构,用于预测还原催化剂的温度推移而判定还原催化剂的温度是否持续既定时间以上地降低;第1喷射控制机构,用于在被判定为还原催化剂的温度没有持续既定时间以上地降低时与第1目标吸附量对应而喷射还原剂,所述第1目标吸附量的值比与还原催化剂的温度对应的还原剂的饱和吸附量小;第2喷射控制机构,用于在被判定为还原催化剂的温度持续既定时间以上地降低时与第2目标吸附量对应而喷射还原剂,所述第2目标吸附量的值比第1目标吸附量大且比饱和吸附量小。
  • 排气净化装置控制方法以及内燃机

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