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- [发明专利]等离子处理装置-CN201880011654.0在审
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阿尼尔潘迪;釜地义人;角屋诚浩
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株式会社日立高新技术
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2018-07-20
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2020-03-27
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H01L21/3065
- 在等离子处理装置中,通过不使真空容器的真空密封部分的结构为复杂的形状地使密封构件的劣化所导致的损伤减低,能不给密封构件的寿命带来影响地进行清洗,由此,等离子处理装置具备:处理室;将该处理室的内部排气成真空的真空排气部;对处理室的内部提供气体的气体提供部;配置于处理室内的内部来载置处理对象的样品的样品台;在该样品台的上方构成处理室的顶板面的窗部;和对处理室的内部提供高频电力的高频电力提供部,在该等离子处理装置中,窗部和处理室在其间夹着弹性体制的密封构件而连接,在用真空排气部将处理室的内部排气成真空的状态下,在夹着密封构件的窗部与处理室的间隔的部分中的从处理室的内壁面到密封构件的距离相对于所述间隔之比成为3以上的位置设置密封构件。
- 等离子处理装置
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