专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种薄膜图案的形成方法-CN201510417409.8有效
  • 肖志莲;赵海生;裴晓光 - 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
  • 2015-07-15 - 2018-02-16 - H01L21/3213
  • 本发明提供了一种薄膜图案的形成方法,涉及显示技术领域,该方法可极大改善采用湿法刻蚀工艺形成薄膜图案时,因灰尘或者光刻胶侧面的裂缝导致的薄膜图案的局部位置出现尺寸较预设尺寸偏小的问题,进而当形成显示器中的金属线图案时,可极大改善金属线局部位置出现过细甚至断裂的问题。薄膜图案的形成方法包括在薄膜上形成包括半保留部分和保留部分的掩膜图案,保留部分对应于待形成薄膜图案所在的区域,半保留部分紧邻保留部分;采用湿法刻蚀工艺刻蚀掉薄膜中未被掩膜图案覆盖的部分;采用干法刻蚀工艺去除掩膜图案的半保留部分并减薄保留部分;采用干法刻蚀工艺刻蚀掉薄膜中未被剩余的掩膜图案覆盖的部分。本发明适用于薄膜图案的制作。
  • 一种薄膜图案形成方法
  • [发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板-CN201610438382.5在审
  • 林子锦;赵海生;裴晓光 - 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
  • 2016-06-17 - 2016-11-09 - G02F1/1362
  • 本发明涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板,阵列基板包括基底、形成在基底上的测试线、形成在测试线上方的静电屏蔽图形及形成在静电屏蔽图形与测试线之间的绝缘层;静电屏蔽图形包括主体部分和静电引出部分;静电引出部分与主体部分相连,并延伸至压接区域,适于压接到阵列基板上的驱动电路。本发明中,由于在测试线的上方设置有包括静电引出部分的静电屏蔽图形,因此当对阵列基板进行抗静电测试时,主体部分会优先吸收静电电荷,并通过静电引出部分将静电电荷引至压接到阵列基板上的驱动电路上,可减少通过测试线的断面处进入阵列基板内部的静电电荷量,减少静电释放不良的发生,降低内部电路被破坏和显示异常的可能性。
  • 阵列及其制作方法显示面板

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