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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]变焦镜头和摄像设备-CN202110348078.2有效
发明人： 行田裕一;江部裕基 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G02B15/14 文献下载
摘要：本发明提供变焦镜头和摄像设备。变焦镜头从物侧到像侧依次包括：具有负屈光力的第一透镜单元；具有正屈光力的第二透镜单元；以及包括一个或多个透镜单元的后单元。相邻透镜单元之间的距离在变焦期间改变。第一透镜单元包括由树脂制成的负透镜。后单元包括由树脂制成的正透镜。满足预定条件。
变焦镜头摄像设备

[发明专利]变焦镜头和包括变焦镜头的图像捕获装置-CN202011328724.0有效
发明人： 行田裕一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G02B15/177 文献下载
摘要：本发明涉及变焦镜头和包括变焦镜头的图像捕获装置。变焦镜头B0按照从物侧到像侧的次序包括具有负折光力的第一透镜单元B1、具有正折光力的第二透镜单元B2和具有负折光力的第三透镜单元B3。第一透镜单元B1在变焦期间移动。第一透镜单元B1包括至少一个正透镜以及最靠近物侧部署的负透镜G1。第二透镜单元B2中包括的各透镜都具有正折光力。第三透镜单元B3中包括的透镜的数量是两个或更少。第三透镜单元B3在从无穷远到近距离的聚焦期间朝着像侧移动。
变焦镜头包括图像捕获装置

[发明专利]光学系统和包括光学系统的图像拾取装置-CN201710405919.2有效
发明人： 行田裕一;井上卓;杉田茂宣 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-06-01 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G02B13/02 文献下载
摘要：公开了光学系统和包括光学系统的图像拾取装置。光学系统包括具有正折光力的第一透镜单元；在聚焦期间移动并具有正折光力或负折光力的第二透镜单元；以及具有正折光力或负折光力的第三透镜单元。第一透镜单元、第二透镜单元和第三透镜单元顺序地从物侧到像侧设置。在聚焦期间，相邻透镜单元之间的间隔改变。在光学系统中，整个光学系统的焦距f、沿着光轴从第一透镜单元的最靠近物侧的透镜表面到像面的距离LD、第一透镜单元中包括的正透镜的材料以及第一透镜单元中包括的正透镜的布置被适当地设定。
光学系统包括图像拾取装置

[发明专利]光学系统和包括光学系统的图像拾取装置-CN201710405960.X有效
发明人： 行田裕一;井上卓;杉田茂宣 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-06-01 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G02B13/02 文献下载
摘要：提供了光学系统和包括光学系统的图像拾取装置。一种光学系统，包括具有正折光力的第一透镜单元、在聚焦期间移动并且具有正折光力或负折光力的第二透镜单元，以及具有正折光力或负折光力的第三透镜单元。第一透镜单元、第二透镜单元和第三透镜单元按从物侧到像侧的次序部署。在聚焦期间，相邻透镜单元之间的间隔改变。在光学系统中，整个光学系统的焦距f、从第一透镜单元的最靠近物侧的透镜表面到像平面沿着光轴的距离LD以及被包括在第一透镜单元中的正透镜和负透镜的焦距被适当地设置。
光学系统包括图像拾取装置

[发明专利]用于确定掩模图案的方法及信息处理装置-CN201410058925.1有效
发明人：中山谅;行田裕一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法，包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。
用于确定图案方法记录介质信息处理装置

[发明专利]掩模数据产生方法、执行该方法的程序和信息处理装置-CN201380045839.0无效
发明人：荒井祯;行田裕一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：一种掩模数据产生方法，用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后通过使用另一掩模将曝光光照射到基板的多次曝光中使用的多个掩模的数据。该方法包含以下步骤：获得包含多个图案元素的图案的数据，确定图案元素的配置限制条件的规划，分析图案元素之间的距离，确定距离限制条件的规划，以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量并由此划分图案。
数据产生方法执行程序信息处理装置

[发明专利]用于生成掩模图案的方法-CN201310113919.7有效
发明人： 行田裕一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-04-03 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：公开了一种用于生成掩模图案的方法。一种用于经由计算机生成要用于曝光设备的掩模图案的方法，该曝光设备通过照射掩模来在衬底上对掩模图案的图像进行曝光，该方法包括：获得要被形成在衬底上的主图案的数据以及主图案要被转印到的层的下层的图案的数据，使用所述下层的图案的数据，设置相对于主图案的辅助图案的生成条件，使用该生成条件来确定辅助图案，以及生成包括主图案和所确定的辅助图案的掩模图案的数据。
用于生成图案方法

[发明专利]确定方法和信息处理装置-CN201210231564.7有效
发明人： 行田裕一;三上晃司;辻田好一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2012-07-05 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种确定方法和信息处理装置。本发明提供一种确定曝光装置的曝光条件的确定方法，该曝光装置包括照射掩模的照射光学系统和将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该方法包括：设定用于在照射光学系统的瞳面上形成的光强度分布的照射参数和用于投影光学系统的像差的像差参数的步骤；以及确定照射参数的值和像差参数的值以使得掩模的图案的光学图像的图像性能满足对于要在投影光学系统的像面上形成的目标图案设定的评价准则的步骤。
确定方法信息处理装置

[发明专利]决定方法和计算机-CN201210061014.5有效
发明人： 行田裕一;辻田好一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2012-03-09 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及决定方法和计算机。本发明提供一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，该方法包括：从要被用来评价与曝光条件对应地在投影光学系统的像面上形成的图像的多个评价项目中选择关注评价项目的步骤；选择与关注评价项目不同并且在改变包含于曝光条件中的参数值时沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变值的评价项目作为辅助评价项目的步骤；以及设定包含关注评价项目和辅助评价项目作为值的评价函数的步骤。
决定方法计算机

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