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[发明专利]一种阵列基板制造方法及阵列基板-CN201710067036.5有效
发明人： 董宜萍;陈磊;王生辉 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-02-07 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板制造方法及阵列基板，属于显示器领域。所述方法包括：提供一基板；在所述基板上依次制作栅极层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层和钝化层；在所述钝化层上形成一层光刻胶；将待形成栅极过孔的区域的光刻胶全部去除，并将待形成源极过孔的区域的光刻胶去除掉设定厚度，所述设定厚度小于所述光刻胶的总厚度；对光刻胶全部去除的区域进行刻蚀；将待形成源极过孔的区域的光刻胶全部去除；再次对光刻胶全部去除的区域进行刻蚀，直到露出源漏极层和栅极层。上述阵列基板制造方法在进行刻蚀时，没有造成源极出现过刻现象，保证了源极信号的正常传输。
一种阵列制造方法

[发明专利]一种多层膜层图案、多层膜层图案的制作方法及阵列基板-CN201710002753.X有效
发明人：陈磊;董宜萍;安杨 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本申请提供一种多层膜层图案、多层膜层图案的制作方法及阵列基板，以解决现有技术在通过一次成膜形成两层图案化的功能层膜层时，多层膜层图案的制作效率较低的问题。所述制作方法包括：在衬底上依次形成第一功能层薄膜和第二功能层薄膜；在所述第二功能层薄膜上形成图案化的第一光刻胶层；利用所述第一光刻胶层的遮挡，形成第二功能层的图案；在所述第一光刻胶层上形成图案化的第二光刻胶层；利用所述第二光刻胶层的遮挡，形成第一功能层的图案，其中，所述第一功能层的图案与所述第二功能层的图案在所述衬底上的正投影互不交叠；同时去除所述第二层光刻胶层和所述第一层光刻胶层。
一种多层图案制作方法阵列

[发明专利]显示基板及其制造方法、以及显示装置-CN201610571821.X有效
发明人： 董宜萍;张磊;郭海波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-07-20 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及显示基板及其制造方法、以及显示装置。该显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域，所述非显示区域包括：位于衬底基板上的第一信号线、绝缘层和多条平行设置的第二信号线，所述第一信号线和所述第二信号线在所述衬底基板上的投影相互交叉，所述绝缘层使所述第一信号线与所述第二信号线彼此绝缘，其中，相邻两条平行设置的第二信号线之间包括与所述第二信号线同层且平行设置的虚设电极，并且所述虚设电极与所述绝缘层之间设置有半导体层，所述虚设电极在所述衬底基板上的投影位于所述半导体层在所述衬底基板上的投影内。
显示及其制造方法以及显示装置

[发明专利]一种膜层图案化的方法-CN201510614255.1有效
发明人：李丽;彭志龙;代伍坤;董宜萍 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2015-09-23 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜层图案化的方法，该方法包括首先在衬底基板表面形成待图案化膜层；然后在衬底基板搬运至刻蚀设备以对待图案化膜层进行图案化之前，于待图案化膜层表面形成用于阻挡异物的保护层；最后去除保护层并形成图案化掩膜，以图案化掩膜对待图案化膜层进行刻蚀形成图案化膜层。这样，这样带有保护层的待图案化膜层在搬运至刻蚀设备的过程中，直至进行刻蚀工艺前，都能够抵御异物与待图案化膜层粘连，可以有效地阻挡刻蚀过程中异物对待形成的图案化膜层的影响，达到提高产品良率的目的。
一种图案方法

[实用新型]显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统-CN201620226332.6有效
发明人：张磊;代伍坤;陈磊;李嘉鹏;董宜萍 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-03-23 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供的显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统，其包括用于承载显示器件的承载架、控制装置、检测装置和分析装置，其中，控制装置用于在承载架处于工艺间的空闲时间时，根据预先存储的显示器件的对中位置的坐标信息，向检测装置发送控制指令。检测装置用于根据控制装置的控制指令移动至承载架上显示器件的对中位置，并采集该位置的图像，且将图像发送至分析装置。分析装置用于判断显示器件的对中情况。本实用新型提供的显示器件的对位检测设备，其无需测量显示器件的关键尺寸就可以判断显示器件的对中情况，从而可以提高检测效率，从而可以实现对全部的显示器件进行检测，进而可以提高产品质量。
显示器件对位检测设备曝光工艺系统

[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置-CN201610145997.9在审
发明人： 董宜萍;张磊;高天佑 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-03-14 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上依次形成透明导电层和金属层；在形成有透明导电层和金属层的衬底基板上形成光刻胶图案；去除无光刻胶区对应的透明导电层和金属层；去除第二光刻胶区的光刻胶；去除第二光刻胶区对应的金属层，露出像素电极；去除第一光刻胶区的光刻胶，露出预设金属图案。本发明通过同一光刻胶图案来形成第一数据线及第二数据线，使第一数据线能够正好叠在第二数据线上，解决了相关技术中可能由于人工误差和机械误差等因素，使第二数据线失效的问题。达到了第一数据线与第二数据线能够正好重叠在一起的效果。
阵列制造方法灰度掩膜板显示装置

[实用新型]一种壁板和反应腔室-CN201420464505.9有效
发明人：谢海征;朱孝会;蒋会刚;王志强;董宜萍;吴平;陈皓 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-08-18 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种壁板和反应腔室，所述壁板包括多个侧板和多个连接装置，所述侧板之间通过所述连接装置连接以围合形成容纳空间，部分所述侧板上设置有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔和所述第二通孔以所述侧板的中心线为中心对称设置。本实用新型提供的壁板和反应腔室中，所述第一通孔在所述侧板的正面处于使用状态时开启，所述第二通孔在所述侧板的正面处于使用状态时关闭，所述第二通孔在所述侧板的背面处于使用状态时开启，所述第一通孔在所述侧板的背面处于使用状态时关闭，使得所述壁板的两面都能得到有效利用，从而延长所述壁板的使用寿命，降低所述壁板的成本。
一种壁板反应

[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置-CN201410253659.8在审
发明人：曲连杰;郭建;董宜萍;林雨 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的薄膜晶体管液晶显示器因对盒时发生的对位偏移所导致显示品质降低以及影响正常观看的问题。本发明的阵列基板包括多个子像素单元，在所述阵列基板的出光面侧设置有与各所述子像素单元对应的用于形成不同颜色光的光形成单元。本发明的阵列基板应用于显示装置中可提高显示装置的显示品质。
阵列及其制备方法显示装置

[实用新型]基板承接腔及刻蚀设备-CN201320048578.5有效
发明人：谢海征;肖红玺;吴平;刘华锋;董宜萍;王志强;蒋会刚 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2013-01-29 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基板承接腔及刻蚀设备，涉及干法刻蚀设备，为了解决了采用干刻设备刻蚀基板时，干刻设备成本较高，操作步骤繁琐的问题。该基板承接腔与传送腔气密性连接，包括密闭的腔体及位于腔体内的具有多个基板的基板架，腔体上设有可开启或关闭的第一门，第一门位于腔体与传送腔之间。
承接刻蚀设备

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