专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于Chamfer距离的保结构纹理合成方法-CN201310738949.7无效
  • 汤颖;史晓颖;范菁;肖廷哲 - 浙江工业大学
  • 2013-12-27 - 2014-04-09 - G06T11/00
  • 基于Chamfer距离的保结构纹理合成方法,包括:先将纹理样图S和纹理特征图Fs合并成一张四通道的图片S',每个像素的格式为RGBA;S'的RGB通道存储样图的颜色值,A通道存储样图对应的结构特征图中的标签值;接着初始化输出图R',从S'随机选取一块区域复制到R'的左上角;R'同样有四个颜色通道,RGB通道存储输出纹理图的颜色值,A通道存储输出纹理图对应的结构特征图中的标签值;然后按扫描线顺序逐块合成输出图R':对于当前待合成的块,计算其与样图中各个块的边缘区域的距离,将距离满足阈值的样图中的块作为候选块;再从这组候选块中,随机选择一个块放到待合成的位置,并与已合成区域形成一定的重叠区;在重叠区中找到一条最小误差缝合路径,沿此路径将新选择的块缝合到输出纹理中。
  • 基于chamfer距离结构纹理合成方法

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