专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种母线槽与插接箱的安装结构以及母线槽系统-CN202220132523.1有效
  • 黎汉华;黄剑远;肖天金;吴小任 - 施耐德电气(中国)有限公司
  • 2022-01-18 - 2022-09-23 - H02G5/06
  • 本实用新型涉及一种母线槽与插接箱的安装结构以及母线槽系统,该安装结构包括安装构件、配合构件及吊具,安装构件用于设置于母线槽;配合构件用于设置于插接箱,插接箱通过配合构件与安装构件配合连接;吊具的一端连接于插接箱或安装构件,吊具的另一端连接于母线槽上方的安装基础,以使插接箱或安装构件两端的受力趋于平衡;上述母线槽与插接箱的安装结构通过吊具分担母线槽的侧板的受力,避免插接箱与母线槽垂直安装时带来的母线槽侧板集中受力的情况,从而实现大电流插接箱在母线槽上的垂直安装,防止大电流插接箱对于母线槽上相邻的插接口的干扰,使母线槽上相邻两个插接口可以同时安装插接箱,达到充分利用母线槽上的插接口的目的。
  • 一种母线槽插接安装结构以及系统
  • [实用新型]用于插接式母线的导体装置和插接式母线-CN202120887036.1有效
  • 肖天金;黄剑远 - 施耐德电气工业公司
  • 2021-04-27 - 2022-01-21 - H01R13/02
  • 本公开的实施例提供了一种用于插接式母线的导体装置和插接式母线。导体装置包括:导体主体(12),其由铝材制成;以及分接头(14),其被附接至导体主体(12),分接头(14)包括由铝材制成的分接头主体(142)以及至少部分地覆盖分接头主体(142)的外表面的接头区(144),其中接头区(144)包括铜‑铝材料并且适于与取电插爪(70)配合以从导体主体(12)提取电力。根据本公开实施例的用于插接式母线的导体装置和插接式母线能够提高热传导效率,延长产品的使用寿命。
  • 用于插接母线导体装置
  • [实用新型]母线槽-CN201920934161.6有效
  • 黄剑远;肖天金 - 施耐德电气工业公司
  • 2019-06-20 - 2020-06-19 - H02G5/06
  • 本公开的实施例涉及一种母线槽。该母线槽包括相互平行的第一侧板和第二侧板以及中间板。中间板被一体地形成在第一侧板和第二侧板之间以将第一侧板和第二侧板之间的空间分隔成第一容纳部和第二容纳部,以用于分别容纳母线槽中的母线的多个相线。以此方式,提供了一种制造简单且易于散热的母线槽。
  • 母线槽
  • [发明专利]改善激光退火热分布的方法-CN201410428585.7有效
  • 邱裕明;肖天金;曹坚 - 上海华力微电子有限公司
  • 2014-08-27 - 2020-06-09 - G06F30/392
  • 本发明公开了一种改善有源区退火热分布的方法,包括:在芯片版图的有源区图层中定义出冗余图形的填充区域和禁止填充区域,在填充区域中填充冗余图形;在禁止填充区域中根据相邻有源区间距的大小定义出有源区稀疏区域和有源区密集区域,其中有源区稀疏区域和有源区密集区域均包括有源区和围绕所述有源区的浅沟槽隔离区;以及以尺寸小于冗余图形的辅助图形替换部分的所述有源区稀疏区域的浅沟槽隔离区的图形以在对有源区退火时增加所述有源区稀疏区域的热吸收。本发明改善有源区温度分布的均匀性,从而提高器件的整体性能。
  • 改善激光火热分布方法
  • [实用新型]插接箱-CN201921232158.6有效
  • 黎汉华;宋显凤;黄剑远;李宁;肖天金 - 施耐德电器工业公司
  • 2019-08-01 - 2020-03-17 - H02G5/08
  • 本实用新型公开了一种插接箱,包括:插爪,其构造为插接到母线槽的直身插接口,以将电流从直身引导到插接箱;开关,其通过电缆联接到插接箱外部的用电设备;连接铜排,其连接所述插爪和所述开关,以将电流从插爪引导到开关;以及散热导板,其一端安装到连接铜排,其另一端延伸到插接箱的箱体侧壁并安装在箱体侧壁上。根据本实用新型的插接箱能够提升普通插接口的载流能力,解决大电流插接箱散热困难、温升过高的问题。
  • 插接
  • [实用新型]母线槽的接头结构及母线槽-CN201921429553.3有效
  • 黄剑远;肖天金;容健彬 - 施耐德电器工业公司
  • 2019-08-30 - 2020-03-17 - H02G5/06
  • 本实用新型涉及一种母线槽的接头结构及母线槽。接头结构包括:螺杆,其至少一部分为方形;第一盖板,其具有使螺杆穿过的第一方形开口;第二盖板,其具有使螺杆穿过的第二方形开口;多个隔板,堆叠地设置在第一盖板和第二盖板之间,每个隔板具有中间方形孔,以供螺杆穿过,每个隔板具有从第一表面突出的第一方形配合件和从第二表面突出的第二方形配合件,在接头结构装配期间,位于最上方的隔板的第一方形配合件插入第一盖板的第一方形开口中,位于最下方的隔板的第二方形配合件插入第二盖板的第二方形开口中,对于相邻的两个隔板,位于下方的隔板的第一方形配合件插接到位于上方的隔板的第二方形配合件中。
  • 母线槽接头结构
  • [发明专利]浅沟槽隔离结构的制备方法-CN201410427369.0有效
  • 肖天金;康俊龙 - 上海华力微电子有限公司
  • 2014-08-27 - 2019-11-22 - H01L21/762
  • 本发明提供了一种浅沟槽隔离结构的制备方法,包括依次进行:在半导体衬底中形成沟槽、在沟槽中形成线形氧化层、在沟槽内填充隔离介质层和高温退火,其中,形成线形氧化层的方法包括:在沟槽的内表面沉积氮化层;氧化氮化层,在沟槽的内表面形成氮氧化层。沉积了氮化层之后再进行氧化,可以圆滑沟槽表面和缓解沟槽内的应力,还可以避免直接对沟槽侧壁进行氧化对沟槽侧壁材料的严重损耗,进而增加了后续退火过程中含氧基团或形成的H2O向半导体衬底中的扩散的难度;氮氧化层可以作为后续沟槽填充的过渡性材料,还可以有效阻止后续退火过程中含氧基团或形成的H2O的扩散到沟槽侧壁的衬底,避免对有源区边界的氧化,从而减少有源区临界尺寸的缩小。
  • 沟槽隔离结构制备方法
  • [发明专利]离子注入设备及监控方法-CN201610608697.X有效
  • 邱裕明;肖天金 - 上海华力微电子有限公司
  • 2016-07-29 - 2018-08-24 - H01J37/317
  • 本发明提供一种离子注入设备及其监控方法,包括:工艺腔体和位于工艺腔体内的承载台,所述承载台用于放置监控半导体衬底,还包括:电磁场提供单元,设置在承载台的两侧,用于在承载台两侧形成电磁场,所述电磁场用于在监控离子注入设备时过滤离子束中的二次电子;接地单元,用于在监控离子注入设备时将监控半导体衬底接地;电子计数器,与所述接地单元电连接,用于在监控离子注入设备时计算监控半导体衬底中的掺杂离子的剂量。本发明解决了利用监控半导体衬底进行高能离子注入监控时由于半导体衬底自身差异、退火工艺不稳定、测量机台不稳定等外界干扰,并且,能够检测检测半导体衬底中实际的掺杂离子的剂量。
  • 离子注入设备监控方法

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