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[发明专利]处理方案的评价方法、评价用辅助装置和液体处理装置-CN201810153767.6有效
发明人：鹤田丰久;桾本裕一朗;羽山隆史;滨田佳志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种在该液体处理装置中能够对处理方案的液体飞溅的风险进行评价的技术，该液体处理装置对基片供给处理液体并且使基片旋转来对基片进行液体处理。在显影装置中，预先在第一存储部(93)制作了风险数据，该风险数据针对晶片(W)的转速和在晶片(W)的显影液的供给位置的每一组合对应有液体飞溅数。并且，当使用者制作处理方案时，根据上述风险数据显示该处理方案中设定的液体飞溅数的经时变化、在处理方案设定的液体飞溅的总数、在各显影步骤中设定的液体飞溅数等的液体飞溅风险。因此，使用者能够掌握重新制作的或者变更了的处理方案的液体飞溅风险，所以能够对处理方案的评价有贡献。
处理方案评价方法辅助装置液体

[实用新型]调整用喷嘴和液处理装置-CN202122271488.X有效
发明人：松浦和宏;羽山隆史;桾本裕一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B05B15/68 文献下载
摘要：本实用新型涉及调整用喷嘴和液处理装置。其目的在于，使用低分辨率的摄像图像，准确地调整喷出喷嘴相对于旋转保持部的位置。本实用新型的一技术方案为一种调整用喷嘴，其用于在具有能够在基板的上部移动的臂和与所述臂连接并向基板喷出处理液的喷出喷嘴的液处理装置中进行所述喷出喷嘴的位置调整，其特征在于，该调整用喷嘴包括：安装部，其能够安装于所述臂侧的连接部；以及喷嘴形状部，其向所述安装部的下方延伸，在所述喷出喷嘴的位置调整时，该调整用喷嘴代替所述喷出喷嘴而安装于所述臂。
调整喷嘴处理装置

[发明专利]监视装置、基板处理装置、监视方法以及存储介质-CN202080078123.0在审
发明人：桾本裕一朗;滨田佳志;羽山隆史;冈田基;滨口翔喜 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的课题在于，在基于摄像运动图像监视基板处理时减少计算机的处理负荷。本公开的一个方面所涉及的监视装置是基板处理装置的监视装置，该基板处理装置具备：保持部，其用于保持基板；以及处理液供给部，其通过从喷嘴喷出处理液来向保持于保持部的基板的表面供给处理液。该监视装置具备：摄像部，其能够拍摄喷嘴和保持于保持部的基板的表面；监视用数据生成部，其在由基板处理装置执行包括第一处理和第二处理的基板的处理的执行期间，基于由摄像部得到的摄像运动图像数据来生成监视用运动图像数据；以及监视条件变更部，其在基板的处理的执行期间变更监视用运动图像数据的生成条件，使得与第一处理的执行期间的监视用运动图像数据相比较，第二处理的执行期间的监视用运动图像数据至少分辨率或帧数不同。
监视装置处理方法以及存储介质

[发明专利]喷嘴的位置调整方法和液处理装置-CN202111109907.8在审
发明人：松浦和宏;羽山隆史;桾本裕一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： B05B15/68 文献下载
摘要：本发明涉及喷嘴的位置调整方法和液处理装置。使用低分辨率的摄像图像，准确地调整喷出喷嘴相对于旋转保持部的位置。一种在液处理装置中进行喷嘴的位置调整的方法，其包括以下工序：一边使用于保持基板并使其旋转的旋转保持部在未保持基板的状态下旋转，一边利用配设为在摄像区域中包含旋转保持部的摄像部进行多次摄像；将多次的摄像结果合成并获取合成图像；利用图案匹配从合成图像确定旋转保持部在摄像图像上的位置；在使调整用喷嘴移动至基准位置的状态下利用摄像部进行摄像；根据摄像结果确定调整用喷嘴在摄像图像上的位置；以及基于根据旋转保持部在摄像图像上的位置而确定的目标位置和调整用喷嘴在摄像图像上的位置的差来校正基准位置。
喷嘴位置调整方法处理装置

[发明专利]基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质-CN202080055978.1在审
发明人：滨田佳志;只友浩贵;桾本裕一朗;羽山隆史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-04 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B05B15/50 文献下载
摘要：本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。
处理装置喷嘴检查方法存储介质

[发明专利]基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型-CN201980074177.7在审
发明人：下青木刚;桾本裕一朗;滨田佳志;羽山隆史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-11-12 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括：将数据集输入到机器学习装置的步骤，其中，数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据，基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理；和基于学习模型导出基片处理的推荐处理条件的步骤，其中，学习模型是由机器学习装置基于多组数据集通过机器学习而生成的模型，能够响应于处理条件的输入而输出关于基片处理的质量的预测数据。
处理条件设定辅助方法系统存储介质学习模型

[发明专利]液处理装置和液处理装置的液检测方法-CN202010921031.6在审
发明人：桾本裕一朗;羽山隆史;铃木秀启 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理装置的液检测方法。液处理装置包括：能够载置基片的载置部；对载置于上述载置部的上述基片供给处理液以进行处理的喷嘴；用于拍摄上述喷嘴以获取图像数据的拍摄部；和检测部，其基于多个上述图像数据来检测液面，该多个上述图像数据是在不从上述喷嘴供给上述处理液的期间内的彼此不同的时刻获得的，上述液面由设置于上述喷嘴内的上述处理液的流路中的该处理液或者该处理液以外的液体形成。本发明在对基片进行液处理时，能够可靠性高地防止处理异常。
处理装置检测方法

[发明专利]基板处理装置和检查方法-CN201910935053.5在审
发明人：滨田佳志;桾本裕一朗;羽山隆史;水篠真一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括将被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；以及控制部，其基于被所述旋转保持部保持的正在旋转的被处理基板的朝向，来控制基于所述摄像部的摄像结果进行的检查中的所述光源的发光定时。
处理装置检查方法

[发明专利]基板处理装置和检查方法-CN201910936746.6在审
发明人：滨田佳志;桾本裕一朗;羽山隆史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查；以及选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。
处理装置检查方法

[发明专利]液处理装置和液处理装置的示教方法-CN201910106647.5在审
发明人：桾本裕一朗;水篠真一;羽山隆史;饭田成昭 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-02-02 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理装置的示教方法，在使进行液处理用的喷嘴的卡合部与喷嘴搬送体的被卡合部卡合来搬送喷嘴的液处理装置中，能够容易且准确地设定用于形成卡合的被卡合部的位置。装置构成为，具备：摄像部，其设置于喷嘴搬送体，以分别检测喷嘴搬送体的被卡合部分别位于第一高度和第二高度时的被卡合部在横向上的第一位置和第二位置，并且所述摄像部在被卡合部分别位于第一高度和第二高度时拍摄设置于进行待机的所述喷嘴的目标物来获取图像数据；控制部，其基于用于在被卡合部与卡合部之间形成卡合的第三高度，求出用于形成所述卡合的横向上的第三位置，并且输出控制信号以在第三高度以及第三位置形成卡合。
被卡合部喷嘴液处理装置卡合搬送体第三位置摄像部示教获取图像数据第二位置第一位置输出控制卡合部目标物液处理待机拍摄检测

[发明专利]液处理装置-CN201110121754.9有效
发明人：野田康朗;福富亮;羽山隆史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-05-09 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置，从处理液供给部(7)对基板(W)的表面供给涂布液(R)，使之向基板表面喷出以进行液处理，该液处理装置包括：形成处理液的流路(10e)的喷嘴(10)；对从喷嘴的前端部(10d)到基板表面W1间的区域照射光L的光源(110)；对喷嘴与基板表面间的区域进行摄影的摄影部(17)；输出用于从喷嘴向基板喷出处理液的喷出信号，并使摄影部开始摄影的控制部(9a)；和判定部(9b)，在光入射到向着基板喷出的处理液中而在处理液反射时的光的明暗被摄影后，基于该摄影结果进行识别，由此判定有无处理液从喷嘴喷出和从喷嘴喷出的处理液的喷出状态有无变化。
处理装置

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