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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]狭缝阀门涂层及用于清洁狭缝阀门的方法-CN201780008002.7有效
发明人：奥弗·阿米尔;珍妮弗·Y·孙;迈克尔·R·赖斯;迈克尔·C·库查尔;约瑟夫·F·萨默斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-25 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：提供了狭缝阀门和清洁方法。狭缝阀包括：狭缝阀门，被配置为密封处理腔室的开口，狭缝阀门包含面向处理腔室的处理容积的表面；及非多孔阳极化涂层，在狭缝阀门的表面上。清洁方法包括以下步骤：将狭缝阀门浸入包含去离子水的槽中；在约6W/cm2至约15W/cm2的第一功率密度和约25kHz至约40kHz的频率下对狭缝阀门超声处理第一时间段；在约30W/cm2至约45W/cm2的第二功率密度和约25kHz至约40kHz的频率下对狭缝阀门超声处理第二时间段；及从槽移除狭缝阀门。
狭缝阀门涂层用于清洁方法

[发明专利]为使沉积留存增加而用于表面纹理化的几何形状和图案-CN201811076686.7有效
发明人：王建奇;威廉·明谕·吕;西村由香里;约瑟夫·F·萨默斯;罗绍安;拉扬·巴勒森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种处理腔室部件和用于制造所述处理腔室部件的方法。所述处理腔室部件以在此描述的方式制造，并包括在腔室部件的表面上至少一宏观纹理的产生。所述宏观纹理由多个经设计的特征结构所限定，所述经设计的特征结构在腔室部件的表面上以预定方向布置。在某些实施方式中，这些经设计的特征结构避免在这些特征结构之间限定的视线表面的形成，以增强在腔室部件上沉积的膜留存。
沉积留存增加用于表面纹理几何形状图案

[发明专利]为使沉积留存增加而用于表面纹理化的几何形状和图案-CN201480050497.6有效
发明人：王建奇;威廉·明谕·吕;西村由香里;约瑟夫·F·萨默斯;罗绍安;拉扬·巴勒森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种处理腔室部件和用于制造所述处理腔室部件的方法。所述处理腔室部件以在此描述的方式制造，并包括在腔室部件的表面上至少一宏观纹理的产生。所述宏观纹理由多个经设计的特征结构所限定，所述经设计的特征结构在腔室部件的表面上以预定方向布置。在某些实施方式中，这些经设计的特征结构避免在这些特征结构之间限定的视线表面的形成，以增强在腔室部件上沉积的膜留存。
沉积留存增加用于表面纹理几何形状图案

[发明专利]静电夹盘的氮化铝电介质修复-CN201280020074.0有效
发明人：小温德尔·G·博伊德;约瑟夫·F·萨默斯;威廉·M·吕;拉扬·巴勒森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明一般涉及一种刷新的静电夹盘与一种用于刷新已使用的静电夹盘的方法。一开始，从已使用的静电夹盘移除预定量的电介质材料，以留下基部表面。接着，粗糙化所述基部表面，以提高新的电介质材料对基部表面的粘着性。接着，在粗糙化表面上喷洒新的电介质材料，然后在新的电介质材料上方放置掩模，以助于形成台面，其中在处理期间基板将座落在所述台面上。接着移除一部分新的电介质层，以形成新的台面。在移除掩模之后，台面的边缘变得平滑，且经刷新的静电夹盘可在清洁之后准备返回作业。
静电氮化电介质修复

[发明专利]延长使用期限的纹理腔室部件与制造纹理腔室部件的方法-CN201280013111.5在审
发明人：迈克尔·杰克逊;温德尔·G·博伊德;苏忠凯;吕鸣烨·威廉;吉富吾一;约瑟夫·F·萨默斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-04-10 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种处理腔室部件及制造所述处理腔室部件的方法。处理腔室部件以本文所述的方式制造且所述处理腔室部件包括在腔室部件的表面上产生至少巨观纹理。巨观纹理由多个设计特征限定，所述多个设计特征在腔室部件的表面上以预限定取向布置。在一些实施例中，设计特征防止形成在特征之间限定的视线表面，以增强沉积在腔室部件上的膜的保持。
延长使用期限纹理部件制造方法

[发明专利]用于喷淋头清洁的方法和设备-CN201080051753.5有效
发明人： 约瑟夫·F·萨默斯;健胜·王;大卫·道;萨蒂亚纳拉亚纳·亚当阿拉;罗纳德·特拉罕 -专利权人：量子全球技术有限公司
申请日： 2010-09-14 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的实施例一般地涉及用于室组件部分的非原位清洁的方法和设备。在一个实施例中，提供了用于在清洁化学物质中对组件部分进行清洁的系统。该系统包括湿法工作台装置和可拆卸清洁车，湿法工作台装置包括清洁容器组件，清洁容器组件用于在清洁处理期间保持要被清洁的一个或多个组件部分，可拆卸清洁车可拆卸地连接到清洁容器组件，以用于在清洁处理期间向清洁容器组件提供一个或多个清洁化学物质。
用于喷淋清洁方法设备

[发明专利]将非金属沉积物从含铝基板移除的非破坏性及选择性沉积移除方法-CN201080010398.7有效
发明人：包立源;蒋安北;罗希昂;西村由香里;约瑟夫·F·萨默斯;萨曼莎·S·H·潭 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2010-02-25 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：使用选择性沉积移除(SDR)溶液，选择性地从例如铝面板的含铝基板上移除非金属沉积物。SDR溶液实质上并不蚀刻面板孔洞，因此维持孔洞直径的完整性，并增加面板可清洁或翻新的次数，同时保持在处理孔径公差内。在实施例中，以溶液的wt％计，SDR溶液包含15.5％+/-2％HF或缓冲HF酸、3.8％+/-0.5％NH4F pH缓冲液、59.7％+/-5％乙二醇、及均衡H2O。
非金属沉积物含铝基板移破坏性选择性沉积方法

[发明专利]制程套组屏蔽件及其使用方法-CN200980133993.7有效
发明人： 约瑟夫·F·萨默斯;基斯·A·米勒 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2009-08-24 - 公布日： 2011-07-27 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文提供了一种用于制程腔室中的制程套组屏蔽件以及该制程套组屏蔽件的使用方法。在一些实施例中，制程套组屏蔽件可包含具有壁的主体，该壁包含第一层以及与该第一层结合的第二层，其中，第一层包含第一材料，该第一材料能抵抗用来移除在制程过程中沉积在第一层上的材料的化学清洁剂，并且其中，第二层包含第二材料，第二材料与第一材料不相同并且具有与该第一材料基本相似的热膨胀系数。在一些实施例中，制程套组屏蔽件可以被设置在具有处理容积和非处理容积的制程腔室中。该制程套组屏蔽件可以被设置在处理容积和非处理容积之间。
制程套组屏蔽及其使用方法

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