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- [发明专利]一种超低γ透射能量阈值探测器-CN202310844286.0在审
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韩励想;陈敏婷;程叶;奚昂涛
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广东中科揽胜辐射防护科技有限公司
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2023-07-11
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2023-09-22
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G01T1/202
- 本发明公开了一种超低γ透射能量阈值探测器，包括外壳组件、晶体和PMT,所述外壳组件包括外壳主体、连接件和套筒；所述外壳主体和套筒通过连接件连接，所述连接件上设置有通孔，所述连接件与外壳主体连接后使所述外壳主体的内腔形成安装腔室，所述晶体设置于安装腔室内；所述外壳主体与连接件连接处开设有内安装槽；所述连接件包括连接件本体和连接凸台，所述外壳主体与连接件通过内安装槽和连接凸台连接配合；所述PMT设置于通孔内，所以套筒与连接件连接后使所述PMT的入射窗与晶体的出光端耦合。本发明不仅具有超低透射γ能量阈值，同时具有极好机械性能，包括高强度、低密度、好加工、连接稳定等；并且可靠遮蔽光线，即对长波阻隔，对γ尽量透明。
- 一种透射能量阈值探测器
- [实用新型]一种改善膜厚均匀性的CVD设备-CN202222242897.1有效
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程叶;张中玉;杨猛
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聚灿光电科技（宿迁）有限公司
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2022-08-24
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2023-03-07
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C23C16/455
- 本申请提供一种改善膜厚均匀性的CVD设备，包括：外壳、顶盖、加热载台、气柜和通气管道，其中，所述顶盖与外壳铰接，所述加热载台设置在外壳内，所述顶盖与外壳构成反应腔体。所述加热载台包括多个通气区域，所述通气区域中设有多个晶圆载盘，每个所述通气区域分别通过通气管道与气柜连接；所述晶圆载盘包括：真空吸盘和环形分流盘，所述真空吸盘设置在所述环形分流盘的圆环内。通过对不同通气区域的反应气体流量进行调整，以及，环形分流盘在晶圆四周流出反应气体调整晶圆四周反应气体分布，能够有效提高膜厚均匀性，并且不需要针对CVD沉积参数进行调整，不会改变CVD沉积薄膜质量，因此对产品性能无影响。
- 一种改善均匀cvd设备
- [发明专利]一种制备电极图形化的方法-CN202111490350.7有效
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程叶;张海峰;张中玉;刘可;张传宇
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聚灿光电科技（宿迁）有限公司
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2021-12-08
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2022-12-20
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H01L33/38
- 本申请提供一种制备电极图形化的方法，通过将去胶液置于加热和超声的环境下，通入CDA气体后，得到处理溶剂。将电极产品浸泡在处理溶剂中，进行一个预设时长的金属腐蚀处理，通过金属腐蚀处理，电极表面达到图形化的效果，最后将电极产品从处理溶剂中捞出，用水冲洗，晾干保存，得到图形化电极。本方法利用乙醇胺(MEA)在加热超声的条件下容易吸收CDA中CO2，通过一系列化学反应以及水解产生了H3O+和HCO3‑，进而达到对电极表面进行金属腐蚀处理的效果；在此过程中，电极表面同时产生了一层薄薄的羟基。本方法减少制备电极图形化方法的步骤和工艺难度，提高制备电极图形化效率，减少经济和时间成本，可批量生产图形化电极。
- 一种制备电极图形方法
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