专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]道路桥梁施工用安全警示装置-CN202221938008.9有效
  • 王艳升;黄凌隆;武焕有;王永奎;尹乾 - 河南至盛建设工程有限公司
  • 2022-07-25 - 2023-03-07 - E01F9/608
  • 本实用新型涉及安全警示装置技术领域,且公开了道路桥梁施工用安全警示装置,包括底座和警示牌,所述底座的数量为两个且呈左右对称分布。该道路桥梁施工用安全警示装置,通过设置T型拉杆,向后拉动两个T型拉杆,通过T型拉杆、牵引绳和导向轮的配合,使得上下两个T型卡接杆相对移动与上下两个延伸块脱离连接,再向前拉动警示牌,使其带动延伸块与立柱脱离连接,进而可以对安全警示装置进行拆卸分离,便于工作人员分开携带,同时转动螺纹杆,使得两个螺纹块相背移动,通过螺纹块和连接杆的配合,使得移动板下移,将底座撑起,进而可以推动立柱移动,无需人工对立柱进行搬运,降低了工作人员的劳动强度,提高了装置的实用性。
  • 道路桥梁施工安全警示装置
  • [发明专利]能有效减少大理石横梁长度的方法-CN201710131733.2有效
  • 袁征;王艳升 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2017-03-07 - 2019-06-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种方法,尤其是一种能有效减少大理石横梁长度的方法,属于直写式光刻胶的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述能有效减少大理石横梁长度的方法,包括大理石横梁以及安装于所述大理石横梁上的光路轴,在大理石横梁的下方设有左台面以及右台面,所述左台面、右台面在大理石横梁下方呈并置式放置;在进行曝光时,放置于左台面上的左台面板体与放置于右台面上的右台面板体呈对称式放置。本发明有效减少大理石横梁的长度,减少占用面积,降低光刻机的重量,提高光刻机安装环境的适应能力,减小光路轴的行程,降低光光刻机的成本。
  • 有效减少大理石横梁长度方法
  • [实用新型]一种带有定位器的吸盘-CN201720256841.8有效
  • 王成智;王艳升 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2017-03-16 - 2017-12-12 - G03F9/00
  • 本实用新型公开了一种带有定位器的吸盘,属于曝光机技术领域,所述带有定位器的吸盘包括吸盘主体、定位器,吸盘主体包括台面和固定卡槽,所述定位器包括底座和调节模块;本实用新型解决了同时曝光多板时,定位相机不易捕捉定位孔的问题,根据不同大小PCB板,将调节模块调整到适当位置,PCB板沿调节模块和调节支架组成的L形结构放置,根据调节标尺上的计数读取PCB板的位置,对位相机根据此位置,可很容易捕捉到PCB板的定位孔。
  • 一种带有定位器吸盘
  • [发明专利]一种对位精度检测方法及系统-CN201310518659.1在审
  • 王艳升;李显杰 - 天津芯硕精密机械有限公司
  • 2013-10-29 - 2014-01-22 - G03F9/00
  • 本发明提供了一种对位精度检测方法,包括如下步骤:第1步,利用试验板上的同一组对位标记来进行对准;第2步,利用所述对位标记进行第一次对准曝光,曝出第一组标尺;再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光,曝出第二组标尺;第3步,所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线,获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。本发明的有益效果为,本发明可对高对位精度镭射直接成像设备的重复对位精度与层间对位精度进行检测,具备自身影响转移的特征且精度高最小误差可达到1um,另外,利用本发明无需进行量测,直接观察便可以很精确的知道检测精度,避免了因量测设备的精度及量测误差的存在。
  • 一种对位精度检测方法系统
  • [发明专利]一种利用灰度测试曝光能量的方法及系统-CN201310478284.0在审
  • 王艳升;李显杰 - 天津芯硕精密机械有限公司
  • 2013-10-14 - 2014-01-08 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种利用灰度测试曝光能量的方法,所述方法在空间光调制器作为图形发生器的无掩模光刻系统中使用,所述曝光基底与所述微镜阵列相对匀速运动,控制所述与选取的曝光基底上的某一个像素点相对应的某一行M个微镜的翻转个数,根据所述翻转个数的不同获得不同的灰度值,与已知的感光干膜的能量格相对比,得到所述灰度值与所述曝光能量的对照关系数据;本发明提供一种利用灰度测试曝光能量的系统,所述系统在空间。本发明使用空间光调制器(SLM)进行灰度调制,可以按不同灰度灰阶实现STOUFFER21阶曝光尺功能,为客户准确寻找曝光条件提供方便、快捷的方法,并节约成本。
  • 一种利用灰度测试曝光能量方法系统

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