专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种塑料封装及其制备方法-CN201410177641.4有效
  • 蔡坚;谭琳;王谦;陈瑜;王水弟 - 清华大学
  • 2014-04-29 - 2018-09-14 - H01L23/13
  • 本发明涉及一种塑料封装及其制备方法,该塑料封装包括芯片1、用以支撑芯片1的支撑件2和封装壳体5,其中,所述封装壳体5包括包覆芯片1以使芯片1密封的第一塑封层3和包覆第一塑封层3以使第一塑封层3密封的第二塑封层4,其中,所述第一塑封层3由第一树脂材料制成;所述第二塑封层4由第二树脂材料制成;且所述第一树脂材料的等效热膨胀系数小于所述第二树脂材料的等效热膨胀系数。本发明提供的塑料封装的材料选择面广,且能够降低产品脱层失效,从而提高产品的可靠性。
  • 一种塑料封装及其制备方法
  • [发明专利]一种用于测量薄膜厚度的方法-CN201310011223.3有效
  • 王谦;贾松良;陈瑜;陈禹吉;蔡坚;王水弟 - 清华大学
  • 2013-01-11 - 2013-05-01 - G01B21/08
  • 本发明针对现有技术中没有更好的方法来测量表层是易延展金属层的多层薄膜的各层厚度的缺陷,提供一种能够克服该缺陷的用于测量薄膜厚度的方法。本发明提供一种用于测量薄膜厚度的方法,该方法包括:在不破坏包括多层镀层的薄膜的最外层镀层的情况下,在所述薄膜的所述最外层镀层的表面上覆盖不易变形的保护层;将形成所述保护层后的所述薄膜进行固定;对固定后的所述薄膜进行研磨和抛光,以得到便于对各个镀层的厚度进行测量的剖面;基于所述剖面对各个镀层的厚度进行测量。
  • 一种用于测量薄膜厚度方法
  • [发明专利]一种制备焊料凸块的方法-CN201110439629.2有效
  • 蔡坚;王水弟;王谦;浦园园 - 清华大学
  • 2011-12-23 - 2012-06-27 - H01L21/60
  • 本发明针对现有技术中因焊球上表面为球面而导致探针不能与焊球良好接触的缺陷,提供一种能够克服上述缺陷的制备焊料凸块的方法。本发明提供一种制备焊料凸块的方法,该方法包括:提供硅圆片,在该硅圆片上需要制备焊料凸块;在所述硅圆片的形成有焊盘的一侧上形成凸点下金属化层;在具有焊盘的位置处在所述凸点下金属化层上制作焊料;对所述焊料进行回流,并且在回流时采用与所述硅圆片平行的限高器来限制所形成的焊料凸块的高度低于未使用限高器时所形成的焊球的高度以使得回流后所形成的焊料凸块的上表面为平面。
  • 一种制备焊料方法
  • [发明专利]一种应力测试芯片及其应力测试方法-CN201110379324.7无效
  • 蔡坚;李金睿;王谦;陈瑜;王水弟 - 清华大学
  • 2011-11-24 - 2012-06-20 - G01L1/18
  • 本发明针对现有技术中的压阻型应力测试芯片在测量应力时会出现引线连接错误、便携性低及测量效率低等缺陷,提供一种能够克服上述缺陷的应力测试芯片。本发明提供的应力测试芯片位于封装体内,该应力测试芯片包括电阻值测量模块、RF模块和多个电阻模块,其中:所述多个电阻模块中的各个电阻模块分别位于所述应力测试芯片的需要进行应力测试的位置处并且各个所述电阻模块的电阻值随着所述应力测试芯片的相应位置处的应力变化而变化,所述电阻值测量模块用于测量各个所述电阻模块的电阻值并将测量结果输出给所述RF模块,以及所述RF模块用于将从所述电阻值测量模块接收到的测量结果发送到所述封装体的外部。
  • 一种应力测试芯片及其方法
  • [实用新型]硅片电镀用的科研实验系统-CN200720191011.8无效
  • 王水弟;蔡坚;彭霄;贾松良 - 清华大学
  • 2007-12-28 - 2008-11-05 - C25D7/12
  • 硅片电镀用的科研实验系统属于硅片微细加工装置技术领域,其特征在于,用一个沿着电镀槽宽度方向固定于电镀槽内壁的支撑板相对地固定阳极和阴极,从而在该支撑板和电镀槽底板之间形成一个供电镀工作区电镀液流动的通道,螺旋桨在沿着电镀槽长度方向一侧设立的电机带动下,使得电镀液通过所述通道流向电镀槽长度方向的另一侧,再通过沿着电镀槽长度方向从电极外侧固定在所述匀流板上的多个圆孔,使电镀液在电镀工作区内流速上下一致地流过挂在阴极上的硅片的表面,再通过另一块匀流板上的通孔流出,使得硅片上得到均匀的镀层。所述科研实验系统填充了硅片电镀的空白,满足了科学研究的需要。
  • 硅片电镀科研实验系统

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