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[发明专利]焊接装置、张网系统以及张网方法-CN202011256795.4有效
发明人： 潘炼东;陈雪影 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： B23K26/22 文献下载
摘要：本发明提供一种焊接装置、张网系统以及张网方法。所述焊接装置包括激光单元、喷嘴单元以及气体控制单元。其中，所述激光单元用于提供激光以照射于焊点上。所述喷嘴单元包括多个喷口，且至少一个所述喷口用于吹气，至少一个所述喷口用于吸气。所述气体控制单元与所述喷嘴单元连接，所述气体控制单元控制每一所述喷口用于吹气或吸气。由此，可以通过设置部分所述喷口吸走在焊接过程中飞溅的颗粒以避免产生污染。此外，在气体控制单元的控制下，针对不同的焊接位置，均能够从有利的一侧喷出气体，从而避免目标焊接结构之间不会因为气体的喷出而间隙增大，从而可以提高张网焊接质量，避免出现虚焊和焊穿的问题。
焊接装置系统以及方法

[实用新型]晶圆预对准装置-CN202121749330.2有效
发明人：邓帅飞;肖蓉;李运锋;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆预对准装置。所述晶圆预对准装置包括支撑组件、相机和光源；支撑组件用于支撑晶圆，支撑组件放置晶圆的上表面设置有位于晶圆外围的至少三个定位标记点，相机用于拍摄晶圆和支撑晶圆的支撑组件的图像，该图像包括支撑组件上的全部定位标记点；光源用于提供照明光束，使拍摄图像时在支撑组件的上表面形成照明光场。由于相机拍摄的图像包括支撑组件上的全部定位标记点，该图像可用于获得晶圆的中心偏差量和旋转角度且不需要晶圆旋转一周，可以降低晶圆预对准装置的机构复杂程度，有助于降低晶圆预对准装置的制造成本和提高预对准效率。
晶圆预对准装置

[发明专利]一种探针卡、自动光学检测装置及方法-CN201811163136.9有效
发明人：赵新;潘炼东;潘文强;于大维 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G01R31/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种探针卡、自动光学检测装置及方法。其中，探针卡，用于一基底，基底包括基材和位于基材上的多行显示屏，每行显示屏包括至少一个显示屏，每个显示屏包括至少一个电源电极，该探针卡包括：基板，基板上开设有多个列向平行排列的检测窗口，每个检测窗口容纳至少一行显示屏；多个针脚，每个检测窗口均露出针脚，且每个检测窗口中的针脚的位置对应于一行显示屏的电源电极的位置，针脚用于在探针卡与基底对准后，与位于检测窗口中的一行显示屏对应位置处的电源电极电接触，以为显示屏提供检测电源。本发明提高了对显示屏的检测效率。
一种探针自动光学检测装置方法

[发明专利]兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机-CN201610934037.0有效
发明人：张成爽;潘炼东;于大维 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-10-31 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机，该系统包括标记板和至少一组探测支路，每组探测支路包括左探测支路和右探测支路，所述左探测支路和所述右探测支路对称设置，对称轴与所述物镜的光轴平行，所述标记板设置在所述工件台上。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机的系统的空间需求。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现工件的调焦调平及对准，提高了光刻机的工作效率。本发明还公开了一种光刻机，包括物镜和工件台等组件，以及设置在所述物镜和工件台之间的上述兼顾对准和调焦调平的测量系统，节约了光刻机的空间占用率。
兼顾对准调焦测量系统及其测量方法光刻

[发明专利]一种投影曝光装置及曝光方法-CN201611073752.6有效
发明人：陈跃飞;陈飞彪;于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影曝光装置及曝光方法，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应，所述玻璃基板上设有两行对准标记阵列，所述对准标记阵列中相邻两个对准标记的间距与所述对准测量系统阵列中相邻两个对准测量系统的间距相同。本发明提高了对准标记和对准测量系统的空间布局灵活性；减少了对准标记和对准检测系统的数量，对准检测系统的数目和投影物镜的数目相同，减少了对准过程的时间消耗，提高了检测效率。
对准测量投影物镜对准标记系统阵列对准标记阵列对准检测系统投影曝光装置玻璃基板空间布局时间消耗依次设置照明光源曝光工件台掩模版掩模台光路对准检测

[发明专利]一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法-CN201810097054.2在审
发明人：田湍;潘炼东;于大维;赵丽丽;杜荣;张成爽;范纪铭;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件；所述同轴对准照明组件包括至少两个光源，以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头，以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域；所述驱动组件，与所述光束转折镜头连接，用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方，以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，以解决对准照明模块遮挡曝光照明视场的问题。
对准照明模块对准装置工作区域光刻机光源转折驱动组件同轴对准照明组件镜头光线反射镜头移动曝光照明视场移开遮挡驱动

[实用新型]用于显示面板缺陷检测的图像采集装置-CN201821238233.5有效
发明人：赵丽丽;程海林;潘炼东;夏海 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-08-02 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于显示面板缺陷检测的图像采集装置，包括：第一图像采集组件和第二图像采集组件，第一图像采集组件沿第一方向采集待检测显示面板的图像；第二图像采集组件被配置为能够绕待检测显示面板移动，以与第一方向呈一定角度的多个第二方向采集待检测显示面板的图像。上述的用于显示面板缺陷检测的图像采集装置实现从多个角度自动对被测显示面板进行图像采集，能够有效降低劳动强度，提高显示面板图像采集效率及缺陷检测效率，满足显示面板产线自动化发展需求。
显示面板图像采集组件缺陷检测图像采集装置图像采集检测本实用新型采集图像产线自动化配置移动

[发明专利]一种投影曝光装置及方法-CN201510646618.X有效
发明人：陈跃飞;于大维;潘炼东;周畅 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种投影曝光装置，依次包括：照明光源、掩膜版、掩膜台、基板、工件台、控制系统，在每个曝光区域内皆并排设有对准焦面测量系统和投影物镜组且位于掩膜台和基板之间，对准焦面测量系统用于在所述扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，对所述掩膜版和所述基板进行对准测量的同时，进行所述基板的焦面测量。本发明还提供一种投影曝光方法，将每一个对准标记计算出原先坐标和补偿量并相加得到补偿坐标，计算掩膜版与基板的相对位置并且移动工件台补偿，同时完成位置与焦面对准，具有结构简单、占用空间小、精准度高的优点。
基板焦面掩膜版投影曝光装置对准测量系统扫描曝光掩膜台投影物镜组移动工件台补偿坐标对准标记对准测量控制系统曝光区域投影曝光完成位置占用空间照明光源补偿量工件台精准度相加测量

[发明专利]双层对准装置和双层对准方法-CN201610284287.4有效
发明人：周许超;潘炼东;朱树存 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-04-29 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种双层对准装置，包括固定框架及设置在固定框架上的第一测量装置及标记板，标记板设置有框架固定标记；运动台以及设置于运动台上的基准标记、运动台标记，和第二测量装置；通过第一测量装置测量基准标记和运动台标记的相对位置关系，通过第二测量装置测量基准标记和框架固定标记的相对位置关系，从而获得运动台标记和框架固定标记的最终相对位置关系，并根据最终相对位置关系移动所述运动台至设定位置。本发明相应地还提供一种双层对准方法，系统中只有运动台是运动部件。使用静态标定方法实现坐标关系标定，标定精度不受运动台定位精度影响，可以提高对准精度。使用双镜头或多镜头设计，配置灵活并能提高对准效率。
双层对准装置方法

[发明专利]背面对准装置及对准方法-CN201410171065.2有效
发明人：于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-04-25 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种背面对准装置及对准方法，该装置包括偏振照明组件，产生照明光束；中继镜头，安装于工件台内部，所述照明光束经中继镜头后照射硅片背面对准标记；和离轴镜头，设置于工件台上方，配合所述中继镜头对所述对准标记进行透射式对准或反射式对准。本发明采用偏振照明组件与中继镜头结合的方式，既提高了能量效率，又使得反射式和透射式对准相互结合，扩展了背面对准装置的功能，又使得其结构简单紧凑。
背面对准装置方法

[发明专利]一种基于频谱处理的多通道对准系统及对准信号处理方法-CN201410139202.4有效
发明人：于大维;潘炼东;陈跃飞 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-04-09 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种多通道对准系统，用于探测多个对准标记，其特征在于，沿光束传播的方向依次包括照明单元，用于产生多束照明光束以分别照射多个对准标记；多通道探测单元，用于分别采集多个对准标记的图像信息，并将多个对准标记图像信息进行混合处理或以空间分离的方式进行组合以产生一综合对准标记信息；至少一个探测器，用于探测所述综合对准标记信息；以及信号处理及控制单元，用于处理所述综合对准标记信息以获取每一通道的对准位置信息。
一种基于频谱处理通道对准系统信号方法

[发明专利]用于光刻设备的正面与背面对准测量装置-CN201310173132.X有效
发明人：杜荣;潘炼东;于大维;李志丹;徐兵 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-05-13 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种用于光刻设备的正面与背面对准装置，其特征在于包括第一对准系统、第二对准系统以及中继单元；两套对准系统光路互为补充，一套对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记及中继单元，可成像在自身的成像设备或另一套对准系统的成像设备上。本发明提出的正面与背面对准装置，包括两套照明与成像光学系统，并通过切换光源的滤波片，使用户可以在近红外照明与可见光照明两种方式之间切换。通过选择不同的照明系统及成像系统，以及照明系统选择不同的滤波片，本发明的装置可以组合成多种不同照明、成像方式，以适应各种生产工艺。
用于光刻设备正面背面对准测量装置

[发明专利]一种基于频谱面振幅调制的对准系统及对准信号处理方法-CN201410011374.3有效
发明人：于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-01-10 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种基于频谱面振幅调制的对准系统，包括对准光束，用于照射对准标记，对准标记被照射后产生的反射光束带有对准标记信号A；成像物镜组，用于使所述对准标记信号A带有频谱信息，成为对准标记信号B；第一探测单元，用于探测所述对准标记信号B；其特征在于，还包括振幅调制器，用于使所述对准标记信号B带有振幅调制信息，成为对准标记信号C；第二探测单元，用于探测所述对准标记信号C；所述第一探测单元和第二探测单元获取各自信号后提供给处理器，供所述处理器计算，用于控制对准过程。
一种基于频谱振幅调制对准系统信号处理方法

[发明专利]边缘曝光装置-CN201310612785.3有效
发明人：于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-11-26 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种边缘曝光装置，包括吸附旋转台，用于吸附和带动硅片旋转；马达，为所述吸附旋转台提供动力；边缘曝光镜头组件，包括边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头；所述边缘曝光镜头沿光传播方向依次包括曝光光源，第一、第二复眼透镜，正交放置的第一柱面变倍镜组和第二柱面变倍镜组以及分光镜；以及控制器，用于控制马达、边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头动作。本发明通过对第一和第二柱面变倍镜组的组合焦距的分别调节，来分别控制边缘曝光场的长、宽尺寸，通过第一、第二复眼透镜与第一、第二柱面变倍镜组配合获得曝光场，通过同轴的对曝光场光斑的成像或能量探测光路实现自动对焦、曝光剂量和曝光尺寸的监控功能。
边缘曝光装置

[发明专利]对准成像装置-CN201310670314.8有效
发明人：于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-12-10 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种对准成像装置，包括同轴照明组件，包括照明前组和图像增强组件，图像增强组件采用角锥棱镜组、菲涅尔透镜组或二元光学元件；成像组件，沿光传播方向依次包括成像前组、分光单元、成像孔径光阑、成像后组和探测器；控制器，与照明前组、图像增强组件及探测器连接；照明前组产生光束经图像增强组件调节，再经分光单元和成像前组照射到硅片上；硅片上的对准标记经成像前组、分光单元、成像孔径光阑和成像后组成像到探测器上。与现有技术相比，本发明采用角锥棱镜组、菲涅耳透镜或二元光学件与照明前组、成像前组形成柯勒同轴照明光路，实现对准成像镜头不同图像增强模式的快速、简单和方便的切换，在切换过程中无额外的能量损失。
对准成像装置

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