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[发明专利]一种双沟结构的脊上开孔方法-CN201910769949.0有效
发明人：邓仁亮;欧祥勇;薛正群;李敬波;杨重英;吴林福生;高家敏;郭智勇;苏辉 -专利权人：福州中科光芯科技有限公司
申请日： 2019-08-20 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种双沟结构的脊上开孔方法，包括如下步骤：在具有双沟的晶元上生长二氧化硅钝化层；匀胶负性光刻胶两次，进行前烘；准备好所需光刻版，将晶元对位曝光；将曝光后的晶元进行曝光后烘；将晶元泛曝光，进行显影；在显微镜下检验合格后，后烘；匀胶负性光刻胶一次，进行前烘；准备好所需光刻版，且晶元对位曝光预设时间；将曝光后的晶元进行曝光后烘；将晶元泛曝光，进行显影；在显微镜下检验合格后，后烘；将后烘后的晶元送到RIE刻蚀机进行刻蚀；将刻蚀后的晶元进行去胶清洗。本发明采用两次负胶反转光刻工艺和一次RIE刻蚀结合，减小对位难度并且能够有效保护台面边缘的二氧化硅钝化层，使得台面开孔区域形貌优良，便于电流注入。
一种结构脊上开孔方法

[实用新型]一种光刻机曝光使用夹具-CN201920897678.2有效
发明人： 欧祥勇 -专利权人：福建中科光芯光电科技有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光刻机曝光使用夹具，包括工作台，所述工作台上放置有呈直角三棱柱且上表面用于放置圆晶片的载台，所述载台上表面为斜面，所述载台上表面一端固定连接有呈“L”型的凸块，所述凸块与载台之间形成用于固定卡住圆晶片的定位凹槽，所述载台下方中部具有真空圆槽，所述工作台内固定连接有气缸，所述气缸输出轴上同轴固定连接有与真空圆槽相配合且位于真空圆槽正下方的卡盘。本实用新型结构简单，设计合理，使用方便，提高加工效率，具有实用性。
圆槽本实用新型圆晶片工作台凸块载台夹具同轴固定连接气缸输出轴直角三棱柱定位凹槽加工效率光刻机内固定上表面气缸卡住曝光配合

[发明专利]一种半导体激光器芯片金属的剥离方法-CN201810232159.4在审
发明人： 欧祥勇;薛正群;张鹏;苏辉;邓仁亮 -专利权人：福建中科光芯光电科技有限公司
申请日： 2018-03-21 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体激光器芯片的金属剥离方法。本发明是用光刻胶做掩膜，在曝光以后、利用反转烘烤、泛曝光、显影和坚膜，使光刻胶图形呈屋檐状倒台；在此基础上淀积金属膜，用剥离液去除光刻胶和多余的金属，完成金属剥离；本发明工艺步骤简单，成品率高，成本低，沉淀的金属形成的屋檐状光刻胶在掩膜区域断开，方便剥离液的渗入，有利于剥离。
光刻胶半导体激光器芯片金属剥离剥离液屋檐状剥离金属光刻胶图形曝光工艺步骤金属形成掩膜区域沉淀的成品率金属膜烘烤淀积反转坚膜显影掩膜断开去除渗入