专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种双面电子束蒸发卷绕镀膜装置及其使用方法-CN202211363196.1在审
  • 潘振强;朱宇彬;梁凯基 - 广东振华科技股份有限公司
  • 2022-11-02 - 2023-01-10 - C23C14/30
  • 本发明公开了一种双面电子束蒸发卷绕镀膜装置以及使用方法,包括真空腔体,真空腔体内设置有第一镀膜传动机构中的第一镀膜辊、第二镀膜传动机构中的第二镀膜辊、收卷机构、放卷机构、加料装置、电子束蒸发机构和溅射机构;电子束蒸发机构包括两个电子枪,两个电子枪的枪口分别正对第一镀膜辊和第二镀膜辊的底部圆周面;溅射机构包括两个溅射阴极,两个溅射阴极分别设置在正对第一镀膜辊和第二镀膜辊的侧边圆周面;所述电子束蒸发机构的坩埚与所述加料装置的加料口相连通。本发明使用电子束蒸发机构作为主要镀膜机构,溅射机构作为增加膜层附着力的辅助镀膜机构,不仅实现了较好的膜层结合力,还获得较高的沉积速率。
  • 一种双面电子束蒸发卷绕镀膜装置及其使用方法
  • [发明专利]一种EMI屏蔽膜磁控卷绕镀膜机-CN201610451005.5在审
  • 潘振强;梁凯基 - 广东振华科技股份有限公司
  • 2016-06-20 - 2016-10-12 - C23C14/56
  • 本发明属于镀膜设备技术领域,具体公开EMI屏蔽膜磁控卷绕镀膜机,包括真空室体、门体及靶室,所述真空室体内设有卷绕辊系,所述靶室内设有平面磁控靶系统,所述低温镀膜辊部分地置于靶室内,所述平面磁控靶系统包括若干靶工作区间,至少有一靶工作区间内设有若干对平面磁控靶,相邻的靶工作区间通过分隔板进行分隔,且各平面磁控靶围绕低温镀膜辊排布且与低温镀膜辊表面等距离设置。该镀膜机可以实现一次走膜,多靶同时工作,能极大地提高总体沉积速率,还可以满足一次镀制多种材料多层膜的需求,此外,还可以达到较低温度,有效排走热量,确保被镀膜的柔性基材不会受热变形。
  • 一种emi屏蔽膜磁控卷绕镀膜
  • [实用新型]一种磁控溅射镀膜设备-CN201120127894.2无效
  • 王健文;韩冲;梁凯基;蔡东锋 - 广东中环真空设备有限公司
  • 2011-04-27 - 2011-12-28 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备,其包括真空箱、设于所述真空箱内的移动小车、与所述移动小车连接并驱使所述移动小车作水平移动的直行驱动装置、与所述直行驱动装置连接的靶连接座、分别与所述直行驱动装置以及靶连接座连接并驱动所述靶连接座作纵向移动的升降驱动装置、与所述靶连接座固定连接磁控溅射靶。通过直行驱动装置推动移动小车作水平移动,同时在升降驱动装置的作用下推动靶连接座进行高度位置的调整,使磁控溅射靶成为可作二维运动的移动靶,而磁控溅射靶本身为长条形,从而实现磁控溅射的三维调节功能,适合大尺寸、大曲率、深弯、异型等基片的镀膜要求,使所镀制的薄膜具有高均匀性、高牢固度、高耐磨度等优点。
  • 一种磁控溅射镀膜设备
  • [实用新型]连续卷绕镀膜设备-CN200920058011.X无效
  • 王健文;李学欧;蔡东锋;梁凯基;李伟 - 广东中环真空设备有限公司
  • 2009-06-08 - 2010-04-14 - C23C14/56
  • 本实用新型公开了一种用于对卷绕物料进行真空镀膜的连续卷绕镀膜设备,其包括对物料进行镀膜的真空作业箱、用于释放输送物料的置于真空作业箱外的放料装置、对完成镀膜的物料进行卷绕收集的置于真空作业箱外的收料装置、将物料从放料装置牵引穿过真空作业箱并输送至收料装置的物料牵引装置,真空作业箱的一端具有物料入口而另一端具有物料出口,物料入口与物料出口均设置有旋转真空锁。使用牵引装置对被镀物料进行牵引,使物料穿过旋转真空锁,保证更换以及输送物料过程不需破真空,从而提高了设备的生产效率。输送和回收的卷绕系统设置于真空作业箱外,真空作业箱的容积缩小,既节省了设备的材料和成本,又节约了生产过程的抽真空量。
  • 连续卷绕镀膜设备
  • [实用新型]磁控溅射镀膜设备-CN200920058010.5无效
  • 王健文;李学欧;蔡东锋;梁凯基;李劲川 - 广东中环真空设备有限公司
  • 2009-06-08 - 2010-04-14 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备,包括抽真空机组、与该抽真空机组连接的镀膜箱,所述磁控溅射镀膜设备还包括铰接于镀膜箱左侧的左门盖、铰接于镀膜箱右侧的右门盖,所述左门盖与所述右门盖均设有工件装夹装置。该磁控溅射镀膜设备的一个门盖关闭进行抽真空以及磁控溅射镀膜的过程的同时,可以在另一个门盖上对已经完成镀膜的工件进行拆卸并装夹待镀膜的工件,使得整机工作效率大大提高,既具有平面溅射靶的镀膜功能又具有旋转圆柱溅射靶的镀膜功能;其中工件装夹装置具有复合旋转功能,使得镀膜过程更加均匀,得到更好的镀膜效果。
  • 磁控溅射镀膜设备

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